JP2003202350A - Probe and probe unit for probe card, probe card and method of manufacturing the same - Google Patents

Probe and probe unit for probe card, probe card and method of manufacturing the same

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JP2003202350A
JP2003202350A JP2001401271A JP2001401271A JP2003202350A JP 2003202350 A JP2003202350 A JP 2003202350A JP 2001401271 A JP2001401271 A JP 2001401271A JP 2001401271 A JP2001401271 A JP 2001401271A JP 2003202350 A JP2003202350 A JP 2003202350A
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probe card
card
manufacturing
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Masanori Terada
正則 寺田
Masami Nagano
雅己 長野
Youmei Rei
耀明 黎
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a probe card in low cost and in a short period by manufacturing a probe for a probe card from bulk material of metallic glass. <P>SOLUTION: By a press work, the bulk material of the metallic glass is formed to be a shape in the thickness direction of the probe below crystallization temperature so as to form a probe plate (S10). Then, a contactor is formed at one end of the probe plate (S12), each probe is formed from the probe plate (S14), and the probe is attached and wired to a mainframe substrate (S16). Thereby, the bulk material of the metallic glass is worked, the probe is formed, and the probe card is manufactured. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プローブカード用
探針、プローブカード用探針ユニット、プローブカード
及びそれらの製造方法、特に、金属ガラスのバルク材を
用いたプローブカード用探針、プローブカード用探針ユ
ニット、プローブカード及びそれらの製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a probe for a probe card, a probe card for a probe unit, a probe card and a method for manufacturing the same, and more particularly to a probe for a probe using a bulk material of metallic glass, a probe card. Probe unit, probe card, and manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より半導体素子の電気的特性の検査
を行うため、被検査体の半導体素子と外部の検査装置を
電気的に接続するプローブカードが広く用いられてい
る。このプローブカードには、探針が複数備えられ、こ
れら探針の先端には半導体素子の電極パッドに接触する
接触子が設けられている。このプローブカードを用いた
検査では、接触子が半導体素子の電極パッドに接触し、
探針を介して半導体素子の電極パッドと検査装置が電気
的に接続され、導通検査、機能測定検査が行われてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, in order to inspect the electrical characteristics of a semiconductor element, a probe card for electrically connecting a semiconductor element of an object to be inspected and an external inspection device has been widely used. This probe card is provided with a plurality of probes, and the tips of these probes are provided with contacts that come into contact with the electrode pads of the semiconductor element. In the inspection using this probe card, the contactor contacts the electrode pad of the semiconductor element,
The electrode pad of the semiconductor element and the inspection device are electrically connected via the probe, and the continuity inspection and the function measurement inspection are performed.

【0003】このプローブカード用探針として、例え
ば、タングステン材からなる探針が用いられ、このタン
グステン材探針は、エポキシ樹脂からなる基台に熟練し
た作業者により1本ずつ取り付けられることにより、プ
ローブカードとして製造されている。
As the probe card probe, for example, a probe made of a tungsten material is used, and the tungsten material probe is attached to a base made of an epoxy resin one by one by a skilled worker. Manufactured as a probe card.

【0004】また、近年の半導体素子の電極パッドの数
の増加、サイズの減少、狭ピッチ化に対応するために、
前記探針の小型化が望まれているが、従来のタングステ
ン材探針を小型化するには限度があり、このために従来
における改良されたプローブカードでは、基板上にフォ
トリソグラフィー技術によって細密探針を形成すること
が行われている。
In order to cope with the recent increase in the number of electrode pads of semiconductor elements, the reduction in size, and the reduction in pitch,
Although miniaturization of the probe is desired, there is a limit to miniaturization of the conventional tungsten material probe. Therefore, the improved probe card in the related art has a fine probe on the substrate by the photolithography technique. Forming a needle is being done.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このように、タングス
テン材探針の製造方法については、近年の半導体素子の
電極パッド数の増加による作業量の増加、電極パッドの
狭ピッチ化によって手作業での作製は限界にきており、
また、自動化による製造は困難という問題がある。
As described above, in the method of manufacturing the tungsten material probe, the amount of work is increased due to the increase in the number of electrode pads of the semiconductor element in recent years, and the pitch of the electrode pads is narrowed to be manually operated. The production has reached the limit,
Further, there is a problem that manufacturing by automation is difficult.

【0006】また、フォトリソグラフィー技術を用いた
プローブカード用探針の製造では、被検査体となるデバ
イス毎にこれに合わせたプローブカードの探針パターン
を形成するマスクが必要となり、多品種少量生産にはコ
ストがかかってしまうという問題がある。
Further, in manufacturing a probe card probe using the photolithography technique, a mask for forming a probe card probe pattern matching the device to be inspected is required for each device to be inspected. Has the problem that it costs money.

【0007】このように、プローブカード用探針やその
製造方法については、様々な手法により行われている
が、それぞれ上述したような課題を抱えている。
As described above, the probe card probe and its manufacturing method are carried out by various methods, but each has the above-mentioned problems.

【0008】このように現在のプローブカードの技術状
況において、本発明は上述した課題の中でプローブカー
ドの製造における労働集約性、すなわち、製造コストの
低減、短期の製造の観点からの改良を行うことを目的と
する。また、本発明は、この労働集約性の観点からの問
題を解決する手段として、プローブカード用探針の製造
を機械加工による自動化により解決する。更に、本発明
は、この機械加工による製造方法においては、その製造
方法に耐え得る材料、及び探針に求められる物性を備え
る材料として、いわゆる金属ガラスのバルク材をプロー
ブカード用探針に用いることを見出し、その具体的な製
造方法を提供する。
As described above, in the present technical situation of the probe card, the present invention solves the above-mentioned problems in terms of labor intensity in manufacturing the probe card, that is, reduction of manufacturing cost and short-term manufacturing. The purpose is to Further, the present invention solves the problem from the viewpoint of labor intensity by solving the manufacturing of the probe for the probe card by automation by machining. Furthermore, the present invention uses a so-called metallic glass bulk material for the probe for a probe card as a material that can withstand the manufacturing method and a material that has the physical properties required for the probe in this manufacturing method by machining. And provide a specific manufacturing method thereof.

【0009】すなわち、本願発明は、金属ガラスのバル
ク材を用いたプローブカード用探針、プローブカード用
探針ユニット、プローブカード及びそれらの製造方法を
提供することを目的とする。
That is, an object of the present invention is to provide a probe card probe using a bulk material of metallic glass, a probe card probe unit, a probe card, and a method for manufacturing them.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明による被検査体の
電極と電気的に接続するプローブカード用探針を製造す
る方法は、プレス加工により、金属ガラスのバルク材を
結晶化温度以下で、探針の厚み方向の形状に成形して探
針板に成形する探針板成形工程と、探針板に探針幅を残
して切り込みを入れ、個々の探針に成形する探針成形工
程と、を含むことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a probe card probe for electrically connecting to an electrode of an object to be inspected, which comprises press forming a bulk material of metallic glass at a crystallization temperature or lower, The probe plate forming process of forming the probe into the shape in the thickness direction and forming into the probe plate, and the probe forming process of forming notches with leaving the probe width in the probe plate and forming into individual probes And are included.

【0011】本発明による被検査体の電極と電気的に接
続する複数のプローブカード用探針を有するプローブカ
ード用探針ユニットを製造する方法は、プレス加工によ
り、金属ガラスのバルク材を結晶化温度以下で、探針の
厚み方向の形状に成形して探針板に成形する探針板成形
工程と、探針板をプローブカード本体基板に固定可能な
探針ベースに固定する固定工程と、探針板に探針幅を残
して切り込みを入れ、探針ベース上で複数の探針に成形
する探針成形工程と、を含むことを特徴とする。
A method of manufacturing a probe card probe unit having a plurality of probe card probes electrically connected to an electrode of an object to be inspected according to the present invention comprises press working to crystallize a bulk material of metallic glass. At a temperature equal to or lower than the temperature, a probe plate forming step of forming a probe plate in a shape in the thickness direction of the probe and a fixing step of fixing the probe plate to a probe base that can be fixed to the probe card body substrate, A probe forming step of forming a notch in the probe plate while leaving the probe width and forming a plurality of probes on the probe base.

【0012】本発明による被検査体の電極と電気的に接
続する複数のプローブカード用探針を有するプローブカ
ード用探針ユニットを製造する方法は、プローブカード
本体基板に固定可能な探針ベースに金属ガラスのバルク
材からなる探針板を固定する固定工程と、探針板に探針
幅を残して切り込みを入れ、探針ベース上で先端が被検
査体の電極に接触する複数の探針に成形する探針成形工
程と、を含むことを特徴とする。
A method of manufacturing a probe card probe unit having a plurality of probe card probes electrically connected to an electrode of an object to be inspected according to the present invention includes a probe base fixed to a probe card body substrate. Fixing process to fix the probe plate made of bulk material of metallic glass, and a plurality of probe with which the tip is in contact with the electrode of the DUT on the probe base by making a notch in the probe plate leaving the probe width And a probe forming step of forming.

【0013】本発明のプローブカード用探針又はプロー
ブカード用探針ユニットの製造方法は、探針板の少なく
とも一方の端部に被検査体に接触する接触子を設ける接
触子形成工程を含むことを特徴とする。
The method for manufacturing the probe for a probe card or the probe unit for a probe card according to the present invention includes a contact forming step of providing a contact for contacting an object to be inspected with at least one end of the probe plate. Is characterized by.

【0014】また、プローブカード用探針又はプローブ
カード用探針ユニットの製造方法は、プレス加工工程に
おいて、金属ガラスのバルク材の少なくとも一方の端部
に被検査体に接触する接触子を成形することを含む。
Further, in the method for manufacturing the probe card probe or probe card probe unit, in the press working step, at least one end of the bulk material of the metallic glass is formed with a contactor which comes into contact with the object to be inspected. Including that.

【0015】本発明のプローブカード用探針は、被検査
体の電極と電気的に接続するプローブカード用探針であ
って、金属ガラスのバルク材を加工して成形されている
ことを特徴とする。
The probe card probe of the present invention is a probe card probe electrically connected to an electrode of an object to be inspected and is formed by processing a bulk material of metallic glass. To do.

【0016】本発明のプローブカード用探針は、被検査
体の電極と電気的に接続するプローブカード用探針であ
って、上記いずれかの製造方法により製造されることを
特徴とする。
The probe card probe of the present invention is a probe card probe electrically connected to an electrode of an object to be inspected, and is characterized by being manufactured by any one of the above manufacturing methods.

【0017】本発明のプローブカード用探針ユニット
は、被検査体の電極と電気的に接続する複数のプローブ
カード用探針を有するプローブカード用探針ユニットで
あって、上記いずれかの製造方法により製造されること
を特徴とする。
The probe card probe unit of the present invention is a probe card probe unit having a plurality of probe card probes electrically connected to the electrodes of the object to be inspected. It is manufactured by.

【0018】本発明のプローブカードは、被検査体の電
極と電気的に接続するプローブカード用探針を有するプ
ローブカードであって、上記いずれかの製造方法により
製造されたプローブカード用探針又はプローブカード用
探針ユニットを含むことを特徴とする。
The probe card of the present invention is a probe card having a probe card probe that is electrically connected to an electrode of a device under test, the probe card probe being manufactured by any one of the above-mentioned manufacturing methods. It is characterized by including a probe card probe unit.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
(以下、実施の形態という)について、図面を参照し説
明する。なお、同一の部材には同一の符号を付してい
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention (hereinafter referred to as embodiments) will be described below with reference to the drawings. The same members are designated by the same reference numerals.

【0020】実施形態の概要 本発明は、プローブカード用探針の材料として、金属ガ
ラスを用い、更に、本実施形態のプローブカード用探針
は、金属ガラスのバルク材を加工して成形されているこ
とを特徴とする。
[0020] Summary of the Embodiment The present invention, as the material of the probe for a probe card, a metallic glass, further, a probe of a probe card present embodiment, is molded by processing a bulk material of metallic glass It is characterized by being

【0021】本明細書において、金属ガラスとは、結晶
化温度(Tx)から、これより低い温度であるガラス遷
移温度(Tg)範囲において過冷却液体領域構造を持つ
非晶質合金をいう。この金属ガラスは、過冷却液体領域
においては、塑性変形による加工が可能であり、常温で
は、高強度、高硬度等といった結晶金属とは異なる特性
を有する。従って、以下で説明するように、プローブカ
ード用探針の機械加工による成形が可能になり、加工さ
れた探針は、探針に要求される物性を満たすものとな
る。なお、探針の金属ガラス材料として、Zr系、Fe
系、Ti系、Pd系、Co系、Nd系、Pt系等を用い
ることができる。
In the present specification, the metallic glass refers to an amorphous alloy having a supercooled liquid region structure in the glass transition temperature (Tg) range which is lower than the crystallization temperature (Tx). This metallic glass can be processed by plastic deformation in the supercooled liquid region, and has characteristics such as high strength and high hardness that are different from those of crystalline metals at room temperature. Therefore, as described below, the probe card probe can be formed by machining, and the processed probe satisfies the physical properties required for the probe. As the metallic glass material of the probe, Zr-based, Fe
A system, Ti system, Pd system, Co system, Nd system, Pt system, etc. can be used.

【0022】図1は、金属ガラスのバルク材を加工して
成形されたプローブカード用探針を有するプローブカー
ドの全体構成図である。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a probe card having a probe card probe formed by processing a bulk material of metallic glass.

【0023】図1に示すように、プローブカード1は、
プローブカード本体基板(以下、単に本体基板という)
10と、本体基板10に固定され、被検査体の電極パッ
ドとの接触を確保する複数の探針12と、を備えてい
る。探針12の先端部には、被検査体の電極パッドに接
触する接触子14が形成されており、探針12の基端部
は、配線16によってプローブ本体基板10の内部配線
18に接続されている。
As shown in FIG. 1, the probe card 1 is
Probe card main board (hereinafter simply referred to as main board)
10 and a plurality of probes 12 fixed to the main body substrate 10 and ensuring contact with the electrode pads of the device under test. A contactor 14 that comes into contact with an electrode pad of an object to be inspected is formed at the tip of the probe 12, and the base end of the probe 12 is connected to the internal wiring 18 of the probe body substrate 10 by a wiring 16. ing.

【0024】このように構成されたプローブカード1
は、電気的特性の検査において、接触子14を被検査体
の半導体素子の電極パッドに接触させ、被検査体と検査
装置とを電気的に接続することで、導通検査、機能測定
検査を行っている。
The probe card 1 configured as described above
In the inspection of electric characteristics, the contactor 14 is brought into contact with the electrode pad of the semiconductor element of the device under test, and the device under test is electrically connected to the test device to perform the continuity test and the function measurement test. ing.

【0025】本実施形態においては、探針12は、金属
ガラスのバルク材を加工して形成されている。好適に
は、後述する製造方法により加工される。このように、
探針12を金属ガラスで構成した場合、検査時の被検査
体の電極パッドへの接触時に大きな歪をかけても、降伏
点強度が大きいため、弾性体として機能する。従って、
小さな寸法の探針で大きな変位量と有効な針圧を得るこ
とができる。また、金属ガラスは、高強度であるため、
繰り返し検査を行っても破損しにくいという利点も有す
る。
In the present embodiment, the probe 12 is formed by processing a bulk material of metallic glass. Preferably, it is processed by the manufacturing method described later. in this way,
When the probe 12 is made of metallic glass, even if a large strain is applied when the object to be inspected is brought into contact with the electrode pad at the time of inspection, it functions as an elastic body because of its large yield point strength. Therefore,
A large displacement amount and effective stylus pressure can be obtained with a small-sized probe. In addition, since metallic glass has high strength,
It also has the advantage of being less likely to be damaged even after repeated inspections.

【0026】また、探針12の接触子14は、後述する
ように金属ガラスで成形することができる。接触子14
を金属ガラスで構成した場合には、金属ガラスは酸化さ
れにくいので、接触子をクリーンな状態に保つことがで
きる。
Further, the contactor 14 of the probe 12 can be made of metallic glass as described later. Contact 14
In the case where is made of metallic glass, the metallic glass is less likely to be oxidized, so that the contactor can be kept in a clean state.

【0027】以下、本実施形態のプローブカード用探針
又はプローブカード用探針ユニットを用いたプローブカ
ードの好適な製造方法について説明する。
A preferred method for manufacturing a probe card using the probe card probe or probe card probe unit of the present embodiment will be described below.

【0028】実施形態1 図2は、実施形態1のプローブカードの製造工程の全体
的な流れを説明するフローチャートである。図2に示す
ように、まず、プレス加工により金属ガラスのバルク材
を結晶化温度以下で探針の厚み方向の形状に成形して探
針板に成形する(S10)。次に、この探針板の一方の
端部に接触子を形成し(S12)、この探針板から個々
の探針に成形し(S14)、この探針を本体基板に取り
付け配線する(S16)。これにより、金属ガラスのバ
ルク材を加工して探針を成形し、プローブカードを得る
ことができる。
Embodiment 1 FIG. 2 is a flow chart for explaining the overall flow of the manufacturing process of the probe card of Embodiment 1. As shown in FIG. 2, first, a bulk material of metallic glass is formed by pressing into a shape in the thickness direction of the probe at a crystallization temperature or lower to form a probe plate (S10). Next, a contact is formed on one end of the probe plate (S12), the probe plate is formed into individual probes (S14), and the probe is attached to the main board to be wired (S16). ). Thereby, the probe material can be obtained by processing the bulk material of metallic glass to form the probe.

【0029】図3は、図2の各工程における構成例を示
す図である。以下の各工程を示す図において、下の図は
平面図であり、上の図は正面図である。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration example in each step of FIG. In the drawings showing the following steps, the lower drawing is a plan view and the upper drawing is a front view.

【0030】図3(A)に示すように、プレス加工によ
り金属ガラスのバルク材20、例えば薄板状の金属ガラ
スのバルク材20を結晶化温度以下で探針の厚み方向の
形状に成形して探針板22に成形する。S14の工程
で、探針板22は、探針12の幅で分離されるので、こ
のプレス加工では、探針の厚み方向の形状に曲げ加工等
が行われる。このプレス加工温度は、金属ガラスが再結
晶化しない結晶化温度以下で、より好ましくはガラス遷
移温度以上結晶化温度以下の過冷却液体領域の温度で成
形する。過冷却液体領域では、著しい塑性変形が起き容
易に成形することができる。
As shown in FIG. 3 (A), a bulk material 20 of metallic glass, for example, a bulk material 20 of thin metallic glass is formed into a shape in the thickness direction of the probe at a crystallization temperature or lower by press working. The probe plate 22 is formed. In the step of S14, the probe plate 22 is separated by the width of the probe 12, and therefore, in this press working, bending work or the like is performed in the shape in the thickness direction of the probe. The press working temperature is lower than the crystallization temperature at which the metallic glass is not recrystallized, and more preferably at a temperature in the supercooled liquid region which is higher than the glass transition temperature and lower than the crystallization temperature. In the supercooled liquid region, remarkable plastic deformation occurs and it can be easily molded.

【0031】次に、図3(B)に示すように、このよう
に成形された探針板22に接触子14を形成する。この
探針板22は、S14の工程で、探針12の幅で分離さ
れ、個々の探針12に形成されるので、このS12の工
程では、探針板22の一方の端部に探針12のピッチ毎
に複数の接触子14が形成される。
Next, as shown in FIG. 3B, the contactor 14 is formed on the probe plate 22 thus formed. In the step S14, the probe plate 22 is separated according to the width of the probe 12 and is formed into the individual probe 12. Therefore, in the step S12, the probe plate 22 is attached to one end of the probe plate 22. A plurality of contacts 14 are formed for every 12 pitches.

【0032】ここで、接触子の形成方法について説明す
る。図4は、接触子14の形成方法を示す図である。例
えば、図4(A)に示すように、接触子型24aが形成
された下型24と、接触子型24aに対応した凸部26
aが形成された上型26と、からなるプレス金型により
形成することができる。この下型24と上型26に探針
板22を挟みプレスする。これにより、金属ガラスのバ
ルク材からなる探針板に接触子14と探針12を一体的
に成形することができる。このように、接触子14を金
属ガラスで構成した場合には、上述したような効果を得
ることができる。また、このプレス成形により接触子1
4を形成する工程を、探針板22を成形する工程(S1
0)と同時に行ってもよい。
Here, a method of forming the contacts will be described. FIG. 4 is a diagram showing a method of forming the contactor 14. For example, as shown in FIG. 4 (A), a lower die 24 having a contactor die 24a formed thereon and a protrusion 26 corresponding to the contactor die 24a.
It can be formed by a press die including the upper die 26 in which a is formed. The probe plate 22 is sandwiched between the lower mold 24 and the upper mold 26 and pressed. As a result, the contactor 14 and the probe 12 can be integrally formed on the probe plate made of a bulk material of metallic glass. As described above, when the contactor 14 is made of metallic glass, the effects as described above can be obtained. Further, the contact 1 is formed by this press molding.
4, the step of forming the probe plate 22 (S1
0) may be performed at the same time.

【0033】また、探針板22に別部材からなる接触
子、例えばニッケル(Ni)からなる接触子を設けても
よい。例えば、図4(B)に示すように、シリコン基板
28に四角錐の接触子型28aを形成し、レジスト層3
2により接触子型28a部分以外をマスクし、接触子型
28aにNiメッキを埋め、その上にハンダ30を載せ
る。そして、シリコン基板28上に探針板22を載せ、
探針板22とNiメッキからなる接触子14のハンダ接
続を行う。
Further, the probe plate 22 may be provided with a contact made of another member, for example, a contact made of nickel (Ni). For example, as shown in FIG. 4B, a pyramidal contact type 28a is formed on the silicon substrate 28, and the resist layer 3 is formed.
The area other than the contact die 28a is masked by 2, the Ni plating is embedded in the contact die 28a, and the solder 30 is placed thereon. Then, place the probe plate 22 on the silicon substrate 28,
Solder connection between the probe plate 22 and the contact 14 made of Ni plating is performed.

【0034】次に、探針板22に複数の接触子14を形
成した後、図3(C)に示すように、探針板22に探針
の幅を残して切り込みを入れ、個々の探針12に形成す
る。切り込みは、ダンシングソーやワイヤソーで行うこ
とができる。このダイシングでは、金属ガラスは、残留
内部応力が発生しないため、残留ひずみによる反りが生
じず、精度良くダイシングすることができる。この場合
において、図3(C)に示すように、探針12の基端部
が接続された櫛歯状態に成形しても好適であり、このよ
うに成形すれば、後の本体基板10への取り付けを複数
の探針をまとめて一度に容易に行うことができる。ま
た、探針12を成形した後、好ましくは、探針12に抵
抗値の低い金等でコーティングを施し、導電率をあげて
も良い。
Next, after forming a plurality of contacts 14 on the probe plate 22, as shown in FIG. 3 (C), notches are made in the probe plate 22 while leaving the width of the probe, and individual probes are formed. The needle 12 is formed. The cutting can be performed with a dancing saw or a wire saw. In this dicing, since residual internal stress does not occur in the metallic glass, warpage due to residual strain does not occur, and dicing can be performed accurately. In this case, as shown in FIG. 3 (C), it is preferable to form the probe 12 in a comb-teeth state in which the base end portion of the probe 12 is connected. It is possible to easily attach a plurality of probes together at once. Further, after forming the probe 12, it is preferable to coat the probe 12 with gold or the like having a low resistance value to increase the conductivity.

【0035】上述したように、探針を機械加工により製
造することができるので、精度良く、ローコスト、短期
間で製造することができる。
As described above, since the probe can be manufactured by machining, it can be manufactured accurately, at low cost, and in a short period of time.

【0036】また、金属ガラスのバルク材から探針を機
械加工により成形するので、探針の長さ、厚さをその都
度容易に調整することができ、少量生産の場合であって
もローコスト、短期間で製造することができる。
Further, since the probe is molded from a bulk material of metallic glass by machining, the length and thickness of the probe can be easily adjusted each time, and even in the case of small-volume production, low cost, It can be manufactured in a short period of time.

【0037】このように形成された探針12を本体基板
10へ取り付け配線すると、図1に示すようなプローブ
カード1を得ることできる。
The probe card 1 as shown in FIG. 1 can be obtained by attaching and wiring the probe 12 thus formed to the main body substrate 10.

【0038】実施形態2 図5は、実施形態2におけるプローブカードの製造工程
の全体的な流れを説明するフローチャートである。実施
形態2のプローブカードにおいて特徴的なことは、複数
の探針でプローブカード用探針ユニットを成形し、これ
を本体基板に取り付けている点である。図5に示すよう
に、プレス加工により、金属ガラスのバルク材を探針の
厚み方向の形状に成形して探針板に成形し(S20)、
この探針板の一方の端部に接触子を形成する(S2
2)。その後、本体基板に固定可能な探針ベースに探針
板を固定し(S24)、この探針ベース上で複数の探針
に成形する(S26)。これにより、プローブカード用
探針ユニットを製造することができ、このプローブカー
ド用探針ユニットを本体基板に取り付ける(S28)。
Embodiment 2 FIG. 5 is a flow chart for explaining the overall flow of the manufacturing process of the probe card in Embodiment 2. A feature of the probe card of the second embodiment is that a probe card probe unit is formed with a plurality of probes and is attached to a main body substrate. As shown in FIG. 5, by pressing, a bulk material of metallic glass is formed into a shape in the thickness direction of the probe to form a probe plate (S20),
A contact is formed on one end of the probe plate (S2
2). After that, the probe plate is fixed to the probe base that can be fixed to the main body substrate (S24), and a plurality of probes are formed on the probe base (S26). As a result, the probe card probe unit can be manufactured, and the probe card probe unit is attached to the main body substrate (S28).

【0039】図6は、図5の各工程における構成例を示
す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a configuration example in each step of FIG.

【0040】図6(A)、(B)には、S20,S22
の構成が示されており、これらの工程は、実施形態1と
同様に成形される。
In FIGS. 6A and 6B, S20 and S22 are shown.
The configuration is shown, and these steps are molded similarly to the first embodiment.

【0041】次に、図6(C)に示すように、探針板2
2を本体基板10に固定可能な探針ベース34に固定す
る。図6(C)に示すように、探針ベース34は、セラ
ミック等の絶縁材料からなる絶縁台34aと、絶縁台3
4aの上面に形成された導電層としての金属層34bと
で構成されている。このように構成された探針ベース3
4に探針板22をハンダ又はエポキシ樹脂等で接合し、
固定する。なお、導電層としての金属層34bを設けな
くてもよい。
Next, as shown in FIG. 6C, the probe plate 2
2 is fixed to the probe base 34 that can be fixed to the main body substrate 10. As shown in FIG. 6C, the probe base 34 includes an insulating base 34 a made of an insulating material such as ceramic and an insulating base 3 a.
And a metal layer 34b as a conductive layer formed on the upper surface of 4a. The probe base 3 configured in this way
Connect the probe plate 22 to 4 with solder or epoxy resin,
Fix it. The metal layer 34b as the conductive layer may not be provided.

【0042】次に、図6(D)に示すように、S26の
工程では、探針板22に探針幅を残して切り込みを入
れ、探針ベース34上で複数の探針12に成形する。こ
の切り込みは、実施形態1と同様に、ダンシングソーや
ワイヤソーで行うことができる。また、図6(D)に示
すように、探針ベース34上で探針12を成形する際
に、金属層34b等の導通部分を切削し、溝加工を行う
ことにより、探針12間の絶縁を得ることができる。
Next, as shown in FIG. 6D, in the step S26, the probe plate 22 is notched while leaving the probe width, and is formed into a plurality of probe 12 on the probe base 34. . This cutting can be performed with a dancing saw or a wire saw as in the first embodiment. In addition, as shown in FIG. 6D, when the probe 12 is formed on the probe base 34, a conductive portion such as the metal layer 34b is cut and groove processing is performed to thereby form a gap between the probe 12. Insulation can be obtained.

【0043】なお、図6(C)の右に示すように、補強
剤36、例えばエポキシ樹脂でオーバーコートし、探針
板22と探針ベース34の接合を補強しても良い。
As shown in the right side of FIG. 6C, a reinforcing agent 36 such as an epoxy resin may be overcoated to reinforce the joint between the probe plate 22 and the probe base 34.

【0044】図7は、実施形態2のプローブカード用探
針ユニット2を本体基板10に取り付けた側面構造を示
す図(断面図)であり、図7(A)は、ワイヤボンダで
接続した図であり、図7(B)は、フレキシブルプリン
ト基板で接続した図であり、図7(C)は、ハンダ付け
で接続した図である。
FIG. 7 is a view (cross-sectional view) showing a side structure in which the probe card probe unit 2 of the second embodiment is attached to the main body substrate 10, and FIG. 7 (A) is a view connected by a wire bonder. Yes, FIG. 7B is a diagram in which the flexible printed circuit board is connected, and FIG. 7C is a diagram in which the connection is made by soldering.

【0045】図7に示すように、基板本体10の内部に
は、配線18が設けられており、配線18のパッド18
aは探針12と接続され、パッド18bは外部の検査装
置と接続される。プローブカード用探針ユニット2は、
ねじ止め又はエポキシ樹脂等の接着剤で本体基板10へ
取り付けることができる。図7には、本体基板10にね
じ38でねじ止めされている様子が示されている。
As shown in FIG. 7, wirings 18 are provided inside the substrate body 10, and the pads 18 of the wirings 18 are provided.
a is connected to the probe 12, and the pad 18b is connected to an external inspection device. The probe card probe unit 2 is
It can be attached to the main body substrate 10 with screws or an adhesive such as an epoxy resin. FIG. 7 shows a state in which the main body substrate 10 is screwed with a screw 38.

【0046】図7(A)のワイヤボンダでの接続では、
探針12の基端部12aと本体基板10の配線18のパ
ッド18aが配線16で接続される。なお、探針ベース
34の金属層34bから配線を行ってもよい。また、図
7(B)に示すフレキシブルプリント基板での接続で
は、探針12の基端部12a又は探針ベース34の金属
層34bとフレキシブルプリント基板40のランド40
aが接続され、フレキシブルプリント基板40のコネク
タ40bと本体基板10の配線18のパッド18aが接
続される。更に、図7(C)に示すハンダ付けでの接続
では、探針12の基端部12aと直接本体基板10の配
線18のパッド18aとをハンダ付けすることができ
る。このため、探針板22の成形では、図7(C)の下
図に示すように、探針ベース34の幅を小さくし、探針
12の基端部が探針ベース34から突出するように固定
することが好ましい。
In the connection with the wire bonder of FIG. 7 (A),
The base end portion 12a of the probe 12 and the pad 18a of the wiring 18 of the main body substrate 10 are connected by the wiring 16. Wiring may be performed from the metal layer 34b of the probe base 34. Further, in the connection with the flexible printed board shown in FIG. 7B, the base end portion 12 a of the probe 12 or the metal layer 34 b of the probe base 34 and the land 40 of the flexible printed board 40.
a is connected, and the connector 40b of the flexible printed board 40 and the pad 18a of the wiring 18 of the main body board 10 are connected. Further, in the soldering connection shown in FIG. 7C, the base end portion 12a of the probe 12 and the pad 18a of the wiring 18 of the main body substrate 10 can be directly soldered. Therefore, in forming the probe plate 22, as shown in the lower diagram of FIG. 7C, the width of the probe base 34 is reduced so that the proximal end portion of the probe 12 projects from the probe base 34. It is preferable to fix it.

【0047】図8には、実施形態2のプローブカード用
探針ユニット2をハンダ付けにより基板本体10に接続
したプローブカード3の全体構成図が示されている。
FIG. 8 shows an overall configuration diagram of the probe card 3 in which the probe card probe unit 2 of the second embodiment is connected to the substrate body 10 by soldering.

【0048】実施形態3 図9は、実施形態3のプローブカードの製造工程の全体
的な流れを説明するフローチャートである。実施形態3
において特徴的なことは、金属ガラスのバルク材を探針
板として、探針ベースに固定し、プローブカード用探針
ユニットを成形し、これをプローブカードに取り付けて
いる点である。
Embodiment 3 FIG. 9 is a flow chart for explaining the overall flow of the manufacturing process of the probe card of Embodiment 3. Embodiment 3
What is characteristic of the above is that a bulk material made of metallic glass is used as a probe plate, fixed to a probe base, a probe card probe unit is molded, and the probe card is attached to the probe card.

【0049】図9に示すように、金属ガラスのバルク材
を探針板として一方の端部に接触子を形成し(S3
0)、探針板を探針ベースに固定し(S32)、この探
針ベース上で先端が被検査体の電極に接触する複数の探
針に成形する(S34)。これらの工程により製造され
たプローブカード用探針ユニットを本体基板に取り付け
る(S36)。
As shown in FIG. 9, a contact member is formed at one end using a bulk material of metallic glass as a probe plate (S3).
0), the probe plate is fixed to the probe base (S32), and a plurality of probe tips are formed on the probe base, the tips of which contact the electrodes of the object to be inspected (S34). The probe card probe unit manufactured by these steps is attached to the main body substrate (S36).

【0050】図10は、図9の各工程における構成例を
示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a configuration example in each step of FIG.

【0051】図10(A)には、S30の工程の構成が
示されており、金属ガラスのバルク材からなる探針板4
2に一方の端部に接触子14を形成する。例えば、この
探針板42は、実施形態2のようにプレス加工を行うこ
となく、ほぼ平板形状の金属ガラスのバルク材が探針板
として用いられる。なお、接触子14は、実施形態1で
説明したように、図4に示す方法で形成することができ
る。
FIG. 10A shows the structure of the step S30, in which the probe plate 4 made of a bulk material of metallic glass is used.
2, a contactor 14 is formed at one end. For example, as for the probe plate 42, a bulk material of a substantially flat metallic glass is used as the probe plate without performing the pressing work as in the second embodiment. The contactor 14 can be formed by the method shown in FIG. 4 as described in the first embodiment.

【0052】次に、図10(B)には、S32の工程の
構成が示されており、探針板42を本体基板10に固定
可能な探針ベース44に固定する。本実施形態の探針ベ
ース44も、セラミック等の絶縁材料からなる絶縁台4
4aと、絶縁台44aの上面に形成された導電層として
の金属層44bとで構成されている。実施形態2と異な
る点は、探針板42の先端に形成された接触子14を被
検査体の電極パッドに接触させるため、探針ベース44
の上面が斜面に形成されている点である。
Next, FIG. 10B shows the structure of the step S32, in which the probe plate 42 is fixed to the probe base 44 which can be fixed to the main body substrate 10. The probe base 44 of the present embodiment also includes the insulating base 4 made of an insulating material such as ceramic.
4a and a metal layer 44b as a conductive layer formed on the upper surface of the insulating base 44a. The difference from the second embodiment is that the contact 14 formed at the tip of the probe plate 42 is brought into contact with the electrode pad of the device under test, and therefore the probe base 44 is used.
Is the point that the upper surface of is formed as a slope.

【0053】図10(C)には、S34の工程の構成が
示されており、探針板42に探針幅を残して切り込みを
入れ、探針ベース44上で先端が被検査体の電極に接触
する複数の探針12に成形する。この切り込みは、実施
形態1と同様に行うことができる。これにより、複数の
探針12が探針ベース44に固定されたプローブカード
用探針ユニット4を製造することができる。本実施形態
では、実施形態2と異なり、探針板成形のためのプレス
工程を省略することができる。
FIG. 10C shows the structure of the step S34, in which a notch is made in the probe plate 42 while leaving the probe width, and the tip of the probe base 44 is the electrode of the object to be inspected. To form a plurality of probes 12 that come into contact with. This cutting can be performed in the same manner as in the first embodiment. Thereby, the probe card probe unit 4 in which the plurality of probes 12 are fixed to the probe base 44 can be manufactured. In the present embodiment, unlike the second embodiment, the pressing step for forming the probe plate can be omitted.

【0054】図11は、実施形態3のプローブカード用
探針ユニット4を本体基板10に取り付けた側面構造を
示す図であり、図11(A)は、ワイヤボンダで接続し
た図であり、図11(B)は、フレキシブルプリント基
板で接続した図であり、図11(C)は、ハンダ付けで
接続した図である。これらは、実施形態2と同様に取り
付けることができる。また、図12には、実施形態3の
プローブカード用探針ユニット4をハンダ付けにより基
板本体10に接続したプローブカード5の全体構成図が
示されている。
FIG. 11 is a view showing a side structure in which the probe card probe unit 4 of the third embodiment is attached to the main body substrate 10, and FIG. 11 (A) is a view in which it is connected by a wire bonder. FIG. 11B is a diagram in which they are connected by a flexible printed board, and FIG. 11C is a diagram in which they are connected by soldering. These can be attached similarly to the second embodiment. Further, FIG. 12 shows an overall configuration diagram of the probe card 5 in which the probe card probe unit 4 of the third embodiment is connected to the substrate body 10 by soldering.

【0055】実施形態4 実施形態4では、プローブカード用探針ユニットの応用
例として、LCDパネルとそのドライバとの電気的接続
を検査するプローブカードについて説明する。
Embodiment 4 In Embodiment 4, a probe card for inspecting the electrical connection between the LCD panel and its driver will be described as an application example of the probe card probe unit.

【0056】実施形態4におけるプローブカードの製造
工程の全体的な流れは、図9に示す実施形態3と同様の
流れであるので、図9を参照しながら説明する。
The overall flow of the probe card manufacturing process according to the fourth embodiment is the same as that of the third embodiment shown in FIG. 9, and therefore will be described with reference to FIG.

【0057】図13は、実施形態4のプローブカードの
各製造工程における構成例を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a configuration example in each manufacturing process of the probe card of the fourth embodiment.

【0058】図13(A)に示すように、S30の工程
として、金属ガラスのバルク材からなる探針板42に接
触子14を形成する。本実施形態においては、接触子1
4は、探針板42の表面の端部と裏面の端部に探針12
のピッチ毎に複数形成される。これら接触子14が、後
述するように、LCDパネル側の電極とドライバ側の電
極に接触し、電気的接続の検査を行う。
As shown in FIG. 13A, in the step S30, the contactor 14 is formed on the probe plate 42 made of a bulk material of metallic glass. In the present embodiment, the contactor 1
4 is the probe 12 at the end on the front surface and the end on the back surface of the probe plate 42.
A plurality of them are formed for each pitch. As will be described later, these contacts 14 contact the electrodes on the LCD panel side and the electrodes on the driver side to inspect the electrical connection.

【0059】次に、図13(B)には、S32の工程の
構成が示されており、探針板42を探針ベース44に固
定する。本実施形態の探針ベース44は、実施形態2,
3と同様に構成されるが、探針の全長より短い幅で構成
され、図13(B)に示すように、探針板42の両方の
端部に設けられた接触子14の間に固定される。
Next, FIG. 13B shows the structure of the step S32, in which the probe plate 42 is fixed to the probe base 44. The probe base 44 of this embodiment is similar to that of the second embodiment.
3, but with a width shorter than the total length of the probe, and fixed between the contactors 14 provided at both ends of the probe plate 42 as shown in FIG. 13 (B). To be done.

【0060】図13(C)には、S34の工程の構成が
示されており、上述したような手法で、探針板42に探
針幅を残して切り込みを入れ、複数の探針12に成形す
る。これにより、LCDパネルとドライバとの電気的接
続を検査可能なプローブカード用探針ユニット6を製造
することがでる。
FIG. 13C shows the structure of the step S34. The above method is used to make a notch in the probe plate 42 while leaving the probe width, and the plurality of probe 12 are cut. Mold. Thus, the probe card probe unit 6 capable of inspecting the electrical connection between the LCD panel and the driver can be manufactured.

【0061】図14は、実施形態4のプローブカード用
探針ユニット6を有するプローブカード7の構成を示す
図であり、図14(A)は、拡大断面図であり、図14
(B)は、全体の様子を上面から見た図である。
FIG. 14 is a diagram showing the configuration of a probe card 7 having the probe card probe unit 6 of the fourth embodiment, and FIG. 14A is an enlarged sectional view.
(B) is a view of the entire state as viewed from above.

【0062】図14に示すように、プローブカード用探
針ユニット6をフレーム基板46へねじ38により取り
付けることにより、プローブカード7を得ることができ
る。電気的特性の検査においては、プローブカード7
は、LCDパネル48とドライバ50の間に配置され
る。探針12の表面の接触子14は、LCDパネル48
側の電極48aと接触し、探針12の裏面の接触子14
は、ドライバ50側の電極50aと接触し、電気的に接
続され、点灯検査などの電気的特性の検査を行うことが
できる。
As shown in FIG. 14, the probe card 7 can be obtained by attaching the probe card probe unit 6 to the frame substrate 46 with the screws 38. For the inspection of electrical characteristics, the probe card 7
Is arranged between the LCD panel 48 and the driver 50. The contactor 14 on the surface of the probe 12 is the LCD panel 48.
Side electrode 48a, and contactor 14 on the back surface of probe 12.
Is in contact with and electrically connected to the electrode 50a on the driver 50 side, and it is possible to perform an electrical characteristic inspection such as a lighting inspection.

【0063】[0063]

【実施例】下記の組成の金属ガラスのバルク材を使用し
て、プローブカード用探針又はプローブカード用探針ユ
ニットを形成した。
Example A probe card probe or a probe card probe unit was formed using a bulk material of metallic glass having the following composition.

【0064】組成 Pt48.75−Pd9.75−Cu19.5−P22 (各添字は、原子パーセントを表す。なお、重量比は、
Pt76.8wt%、Pd8.33wt%である。)機械的性質 ビッカース硬度(HV):420 引張強さ(Mpa) :1320 抵抗率(μΩ・m) :1.828温度特性 ガラス遷移温度(Tg):509.2K(236℃) 結晶化温度(Tx) :584.0K(310℃) 溶融温度(Tm) :774.7K(502℃) 金属ガラスのガラス遷移温度(Tg)から結晶化温度
(Tx)内でプレス加工を行い、所望の形状の探針板を
得ることができた。探針として、全長1〜2mm、厚み
100μm、探針幅50μmの探針を得ることができ
た。
Composition Pt48.75-Pd9.75-Cu19.5-P22 (Each subscript represents an atomic percentage. The weight ratio is
Pt is 76.8 wt% and Pd is 8.33 wt%. ) Mechanical properties Vickers hardness (HV): 420 Tensile strength (Mpa): 1320 Resistivity (μΩ · m): 1.828 Temperature characteristics Glass transition temperature (Tg): 509.2K (236 ° C) Crystallization temperature ( Tx): 584.0 K (310 ° C.) Melting temperature (Tm): 774.7 K (502 ° C.) The glass transition temperature (Tg) of the metallic glass is pressed within the crystallization temperature (Tx) to obtain a desired shape. I was able to get a probe board. As the probe, a probe having a total length of 1 to 2 mm, a thickness of 100 μm, and a probe width of 50 μm could be obtained.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上説明したように、金属ガラスのバル
ク材を用いてプローブカード用探針、プローブカード用
探針ユニットを機械加工により製造することとしたの
で、プローブカードをローコスト、短期に製造すること
ができる。
As described above, since the probe card probe and the probe card probe unit are manufactured by machining using the bulk material of metallic glass, the probe card can be manufactured at low cost and in a short time. can do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 金属ガラスのバルク材を加工して成形された
プローブカード用探針を有するプローブカードの全体構
成図である。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a probe card having a probe card probe formed by processing a bulk material of metallic glass.

【図2】 実施形態1のプローブカードの製造工程の全
体的な流れを説明するフローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart illustrating an overall flow of manufacturing steps of the probe card according to the first embodiment.

【図3】 図2の各工程における構成例を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration example in each step of FIG.

【図4】 接触子の形成方法を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a method of forming a contactor.

【図5】 実施形態2のプローブカードの製造工程の全
体的な流れを説明するフローチャートである。
FIG. 5 is a flowchart illustrating an overall flow of a probe card manufacturing process according to the second embodiment.

【図6】 図5の各工程における構成例を示す図であ
る。
6 is a diagram showing a configuration example in each step of FIG.

【図7】 実施形態2のプローブカード用探針ユニット
を本体基板に取り付けた側面構造を示す図である。
FIG. 7 is a view showing a side structure in which the probe card probe unit of the second embodiment is attached to a main body substrate.

【図8】 実施形態2のプローブカード用探針ユニット
をハンダ付けにより基板本体に接続したプローブカード
の全体構成図が示されている。
FIG. 8 shows an overall configuration diagram of a probe card in which the probe card probe unit of the second embodiment is connected to a substrate body by soldering.

【図9】 実施形態3のプローブカードの製造工程の全
体的な流れを説明するフローチャートである。
FIG. 9 is a flowchart illustrating an overall flow of a probe card manufacturing process according to the third embodiment.

【図10】 図9の各工程における構成例を示す図であ
る。
FIG. 10 is a diagram showing a configuration example in each step of FIG.

【図11】 実施形態3のプローブカード用探針ユニッ
トを本体基板に取り付けた側面構造を示す図である。
FIG. 11 is a view showing a side structure in which the probe card probe unit of the third embodiment is attached to a main body substrate.

【図12】 実施形態3のプローブカード用探針ユニッ
トをハンダ付けにより基板本体に接続したプローブカー
ドの全体構成図である。
FIG. 12 is an overall configuration diagram of a probe card in which a probe card probe unit according to a third embodiment is connected to a substrate body by soldering.

【図13】 実施形態4のプローブカードの製造工程中
における構成例を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a configuration example during a manufacturing process of the probe card according to the fourth embodiment.

【図14】 実施形態4のプローブカード用探針ユニッ
トを有するプローブカードの構成を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing a configuration of a probe card having a probe card probe unit according to a fourth embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,3,5,7 プローブカード、2,4,6 プロー
ブカード用探針ユニット、10 プローブカード本体基
板、12 探針、14 接触子、16 配線、18 内
部配線、20 バルク材、22,42 探針板、34,
44 探針ベース。
1, 3, 5, 7 probe card, 2, 4, 6 probe card probe unit, 10 probe card body substrate, 12 probe, 14 contacts, 16 wiring, 18 internal wiring, 20 bulk material, 22, 42 Probe plate, 34,
44 Probe base.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長野 雅己 東京都板橋区板橋1丁目10番14号 株式会 社東京カソード研究所内 (72)発明者 黎 耀明 東京都板橋区板橋1丁目10番14号 株式会 社東京カソード研究所内 Fターム(参考) 2G003 AA07 AA10 AB01 AG03 AG04 2G011 AA09 AA15 AA17 AB01 AB06 AE03 AE22 4M106 AA01 AA02 AA04 BA01 DD03   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Masami Nagano             1-10-14 Itabashi, Itabashi-ku, Tokyo Stock market             Company Tokyo Cathode Institute (72) Inventor Yomei             1-10-14 Itabashi, Itabashi-ku, Tokyo Stock market             Company Tokyo Cathode Institute F-term (reference) 2G003 AA07 AA10 AB01 AG03 AG04                 2G011 AA09 AA15 AA17 AB01 AB06                       AE03 AE22                 4M106 AA01 AA02 AA04 BA01 DD03

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被検査体の電極と電気的に接続するプロ
ーブカード用探針を製造する方法であって、 プレス加工により、金属ガラスのバルク材を結晶化温度
以下で、探針の厚み方向の形状に成形して探針板に成形
する探針板成形工程と、 前記探針板に探針幅を残して切り込みを入れ、個々の探
針に成形する探針成形工程と、 を含むことを特徴とするプローブカード用探針の製造方
法。
1. A method for manufacturing a probe card probe that is electrically connected to an electrode of an object to be inspected, comprising: pressing a bulk material of metallic glass at a crystallization temperature or lower, in a thickness direction of the probe. A probe plate forming step of forming into a shape of a probe plate and forming a notch in the probe plate while leaving a probe width, and forming a probe into an individual probe tip. And a method for manufacturing a probe card probe.
【請求項2】 被検査体の電極と電気的に接続する複数
のプローブカード用探針を有するプローブカード用探針
ユニットを製造する方法であって、 プレス加工により、金属ガラスのバルク材を結晶化温度
以下で、探針の厚み方向の形状に成形して探針板に成形
する探針板成形工程と、 前記探針板をプローブカード本体基板に固定可能な探針
ベースに固定する固定工程と、 前記探針板に探針幅を残して切り込みを入れ、探針ベー
ス上で複数の探針に成形する探針成形工程と、 を含むことを特徴とするプローブカード用探針ユニット
の製造方法。
2. A method of manufacturing a probe card probe unit having a plurality of probe card probes electrically connected to an electrode of a device under test, the bulk material of metallic glass being crystallized by press working. A step of forming the probe plate in the thickness direction of the probe at a temperature equal to or lower than the temperature for forming, and a fixing step of fixing the probe plate to a probe base that can be fixed to the probe card body substrate. And a probe forming step of forming a notch in the probe plate while leaving a probe width, and forming into a plurality of probes on a probe base, and manufacturing a probe unit for a probe card. Method.
【請求項3】 被検査体の電極と電気的に接続する複数
のプローブカード用探針を有するプローブカード用探針
ユニットを製造する方法であって、 プローブカード本体基板に固定可能な探針ベースに金属
ガラスのバルク材からなる探針板を固定する固定工程
と、 前記探針板に探針幅を残して切り込みを入れ、探針ベー
ス上で先端が被検査体の電極に接触する複数の探針に成
形する探針成形工程と、 を含むことを特徴とするプローブカード用探針ユニット
の製造方法。
3. A method of manufacturing a probe card probe unit having a plurality of probe card probes electrically connected to an electrode of a device under test, the probe base being fixable to a probe card body substrate. A fixing step of fixing a probe plate made of a bulk material of metallic glass to, and making a notch in the probe plate leaving a probe width, and a plurality of tips whose tip contacts the electrode of the device under test on the probe base. A method of manufacturing a probe unit for a probe card, comprising: a step of forming a probe into a probe;
【請求項4】 請求項1から請求項3のいずれかに記載
のプローブカード用探針又はプローブカード用探針ユニ
ットの製造方法において、 前記探針板の少なくとも一方の端部に被検査体に接触す
る接触子を設ける接触子形成工程を含むことを特徴とす
る方法。
4. The method for manufacturing a probe card probe or a probe card probe unit according to claim 1, wherein at least one end of the probe plate is an object to be inspected. A method comprising a contact forming step of providing a contact to contact.
【請求項5】 請求項1から請求項3のいずれかに記載
のプローブカード用探針又はプローブカード用探針ユニ
ットの製造方法において、 プレス加工工程において、金属ガラスのバルク材の少な
くとも一方の端部に被検査体に接触する接触子を成形す
ることを含むことを特徴とする方法。
5. The method of manufacturing a probe card probe or probe card probe unit according to claim 1, wherein at least one end of the bulk material of metallic glass is used in the pressing step. Forming a contact in contact with the object under test.
【請求項6】 被検査体の電極と電気的に接続するプロ
ーブカード用探針であって、 前記プローブカード用探針は、金属ガラスのバルク材を
加工して成形されていることを特徴とするプローブカー
ド。
6. A probe card probe that is electrically connected to an electrode of a device under test, wherein the probe card probe is formed by processing a bulk material of metallic glass. Probe card to do.
【請求項7】 被検査体の電極と電気的に接続するプロ
ーブカード用探針であって、 請求項1に記載の製造方法により製造されたプローブカ
ード用探針。
7. A probe card probe that is electrically connected to an electrode of a device under test, the probe card probe manufactured by the manufacturing method according to claim 1.
【請求項8】 被検査体の電極と電気的に接続する複数
のプローブカード用探針を有するプローブカード用探針
ユニットであって、 請求項2〜5のいずれかの製造方法により製造されたプ
ローブカード用探針ユニット。
8. A probe card probe unit having a plurality of probe card probes electrically connected to an electrode of a device under test, which is manufactured by the manufacturing method according to claim 2. Probe unit for probe card.
【請求項9】 被検査体の電極と電気的に接続するプロ
ーブカード用探針を有するプローブカードであって、 請求項1〜5のいずれかの製造方法により製造されたプ
ローブカード用探針又はプローブカード用探針ユニット
を含むことを特徴とするプローブカード。
9. A probe card having a probe card probe that is electrically connected to an electrode of a device under test, the probe card probe being manufactured by the manufacturing method according to claim 1. A probe card including a probe card probe unit.
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