JP2009215581A - 3価クロムめっき浴の金属不純物除去方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】金属不純物を含む3価クロムめっき浴を、クロムめっき処理の陰極電流密度と比較して低い電流密度で電解することを特徴とする3価クロムめっき浴からの金属不純物除去方法。
【選択図】なし
Description
表面技術 vol.56, No.6, 324p (2005) 表面技術 Vol.47, No.3, 245p (1996) 近畿アルミニウム表面処理研究会 平成18年度秋季特別講演 講演要旨集
1.金属不純物を含む3価クロムめっき浴を、クロムめっき処理時の陰極電流密度と比較して低い電流密度で電解することを特徴とする3価クロムめっき浴からの金属不純物除去方法。
2.5A/dm2以下の陰極電流密度で電解処理を行う、上記項1に記載の3価クロムめっき浴からの金属不純物除去方法。
3.金属不純物がFe、Ni,Sn及びCuからなる群から選ばれた少なくとも一種である上記項1又は2に記載の3価クロムめっき浴からの金属不純物除去方法。
4.クロムめっき用めっき槽中、又は別個に設けた電解槽中において電解処理を行う上記項1〜3のいずれかに記載の3価クロムめっき浴からの金属不純物除去方法。
5.クロムめっき用めっき槽とは別個に電解槽を設置し、処理対象のクロムめっき浴を該めっき槽と該電解槽とを循環させながら、該電解槽中において電解処理を行うことを特徴とする上記項1〜3のいずれかに記載の3価クロムめっき浴からの金属不純物除去方法。
本発明の処理対象は、クロム成分として、3価クロム化合物を含むクロムめっき浴であればよく、具体的な組成については特に限定はない。3価クロムめっき浴の一例を挙げると、クロム成分として、硫酸クロム,塩基性硫酸クロム,塩化クロム,酢酸クロムなどの水溶液3価クロム化合物を含み、電導性塩として、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化アンモニウムなどを含み、錯化剤として、ギ酸,酢酸等のモノカルボン酸又はその塩,シュウ酸,マロン酸,マレイン酸等のジカルボン酸、クエン酸、リンゴ酸、グリコール酸などのヒドロキシカルボン酸又はその塩等、尿素、チオシアン、シアン酸などの無機化合物等を含むめっき浴を例示できる。更に、pH緩衝剤として、ホウ酸、ホウ酸ナトリウム、塩化アルミニウムなどを含んでいても良い。これらの各成分の濃度については、特に限定的ではないが、例えば、3価クロム化合物については、10〜100g/L 程度、電導性塩については、30〜300g/L程度、錯化剤については、5〜50g/L程度、pH緩衝剤については、10〜100g/L 程度の3価クロムめっき浴を例示できる。
本発明方法では、金属不純物が蓄積した3価クロムめっき浴について、クロムめっき処理のための陰極電流密度と比較して、低い電流密度で電解処理を行うことによって、クロム濃度を殆ど低下させることなく、金属不純物量のみを大きく低下させることができる。
本発明の金属不純物イオン低減方法は、通常、クロムめっき処理を中断した際に、クロムめっき槽を用いて行うことができるが、その他、金属不純物を除去するための電解槽を
別個に設置して電解処理を行っても良い。この場合、クロムめっき槽と不純物除去のための電解槽を配管によって接続して、クロムめっき液を循環させながら電解処理を行うことによって、めっき作業を中断することなく連続的に金属不純物を除去することが可能となり、生産性を向上させることができる。
クロム金属濃度7g/Lの市販の3価クロムめっき浴(奥野製薬工場(株)製、商標名:トップグリーンクロム)1リットを使用し、該3価クロムめっき浴中に、硫酸ニッケル、硫酸第二鉄、硫酸銅、又は硫酸第一スズを添加した後、カソード電流密度を変化させて、浴温45℃で1時間電解処理を行った。電解処理には、アノードとしてIr-Ta複合酸化物電極を用い、カソードとして、面積1dm2の真鍮板にNiめっきを5μm行なったものを用いた。
(1)Niの影響
Ni濃度として500ppmとなるように硫酸ニッケル水溶液を添加した3価クロムめっき浴を用いて試験を行った。結果を下記表1に示す。
Fe濃度として100ppmとなるように硫酸第二鉄水溶液を添加した3価クロムめっき浴を用いて試験を行った。結果を下記表2に示す。
Cu濃度として10ppmとなるように硫酸銅水溶液を添加した3価クロムめっき浴を用いて試験を行った。結果を下記表3に示す。
(4)Sn濃度の影響
Sn濃度として100ppmとなるように硫酸第一スズ水溶液を添加した3価クロムめっき浴を用いて試験を行った。結果を下記表4に示す。
Claims (5)
- 金属不純物を含む3価クロムめっき浴を、クロムめっき処理時の陰極電流密度と比較して低い電流密度で電解することを特徴とする3価クロムめっき浴からの金属不純物除去方法。
- 5A/dm2以下の陰極電流密度で電解処理を行う、請求項1に記載の3価クロムめっき浴からの金属不純物除去方法。
- 金属不純物がFe、Ni,Sn及びCuからなる群から選ばれた少なくとも一種である請求項1又は2に記載の3価クロムめっき浴からの金属不純物除去方法。
- クロムめっき用めっき槽中、又は別個に設けた電解槽中において電解処理を行う請求項1〜3のいずれかに記載の3価クロムめっき浴からの金属不純物除去方法。
- クロムめっき用めっき槽とは別個に電解槽を設置し、処理対象のクロムめっき浴を該めっき槽と該電解槽とを循環させながら、該電解槽中において電解処理を行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の3価クロムめっき浴からの金属不純物除去方法。
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