JP2009206449A - 半導体素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明による半導体素子は、半導体スタック層と、電極と、ナノインプリンティング技術で当該半導体スタック層と当該電極との間に形成される導電構造とを含み、これにより、電流は、当該電極と当該導電構造を介して当該半導体スタック層に均一に分散することができる。当該導電構造は、所定の幅を有する底部と所定の幅を有する頂部を有し、当該底部と当該頂部の間は、所定の高さを有し、当該頂部の幅は当該底部の幅より小さく、または、当該高さは当該底部の幅より大きい。
【選択図】図1G
Description
102 フォトレジスト層
103 インプリンティング型板
104 パターン化フォトレジスト層
105 中間フォトレジスト層
111 基板
112 第一の半導体層
113 能動層
114 第二半導体層
115 点状の導電構造
116 透明導電層
117 第一の電極
118 第二の電極
121 線状の導電構造
122 溝
131 粗化構造
132 周期凹凸構造
141 第一の透明導電層
142 第二の透明導電層
151 保護層
161 絶縁保護層
162 透明導電層
710 光源装置
711 半導体素子
720 光学装置
730 電源供給システム
810 光源装置
811 半導体素子
820 電源供給システム
830 制御素子
Claims (17)
- 半導体スタック層と、
前記半導体スタック層上に形成される導電構造と、
を含み、
前記導電構造は、前記半導体スタック層と接触し所定の幅を有する底部と、当該底部の反対側に位置し所定の幅を有する頂部と、を有し、
前記底部と前記頂部の間は、所定の高さを有し、
前記頂部の所定の幅と前記底部の所定の幅の比は、0.7より小さい、
半導体素子。 - 前記底部の所定の幅は、5μmより小さく、または、前記半導体素子から発した光の波長より小さい、
請求項1に記載の半導体素子。 - 前記所定の高さは、前記底部の所定の幅より大きい、
請求項1に記載の半導体素子。 - 前記半導体スタック層は、表面に粗化構造または周期凹凸構造が形成される、
請求項1に記載の半導体素子。 - 前記導電構造の側壁に形成される保護層をさらに含む、
請求項1に記載の半導体素子。 - 前記導電構造を覆う透明導電層、または、前記導電構造と前記半導体スタック層との間に形成される他の透明導電層をさらに含む、
請求項1に記載の半導体素子。 - 前記半導体スタック層の中に位置する複数の溝をさらに含み、当該複数の溝には絶縁保護層が形成される、
請求項1に記載の半導体素子。 - 前記導電構造は、点状の導電構造、または、線状の導電構造である、
請求項1に記載の半導体素子。 - 前記導電構造は、線状の導電構造であり、
前記線状の導電構造上に直接形成される電極をさらに含む、
請求項1に記載の半導体素子。 - 半導体スタック層と、
前記半導体スタック層上に形成される導電構造と、
を含み、
前記導電構造は、前記半導体スタック層と接触し所定の幅を有する底部と、当該底部の反対側に位置し所定の幅を有する頂部と、を有し、
前記底部と前記頂部の間は、所定の高さを有し、
前記所定の高さは、前記底部の所定の幅より大きい、
半導体素子。 - 前記底部の所定の幅は、前記半導体素子から発した光の波長より小さい、
請求項10に記載の半導体素子。 - 前記導電構造の側壁に形成される保護層をさらに含む、
請求項10に記載の半導体素子。 - 第一の半導体層と、能動層と、第二の半導体層と、を含む半導体スタック層と、
前記第一の半導体層または前記第二の半導体層の中に形成される導電構造と、
を含む、
半導体素子。 - 前記導電構造は、点状の導電構造または線状の導電構造であり、
前記導電構造の幅は、5μmより小さい、
請求項13に記載の半導体素子。 - 前記半導体スタック層上に形成される透明導電層をさらに含む、
請求項13に記載の半導体素子。 - 請求項1ないし15の何れに記載の半導体素子からなる光源装置と、
前記光源装置の光射出経路に位置する光学装置と、
前記光源装置に必要な電源を提供する電源供給システムと、
を含む、
バックライトモジュール装置。 - 請求項1ないし15の何れに記載の半導体素子からなる光源装置と、
前記光源装置に必要な電源を提供する電源供給システムと、
前記電源を前記光源装置に入力することを制御する制御素子と、
を含む、
照明装置。
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