JP2009200520A - ガスレーザ用電極、その電極を用いたレーザチャンバ及びガスレーザ装置 - Google Patents
ガスレーザ用電極、その電極を用いたレーザチャンバ及びガスレーザ装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】レーザチャンバに取り付けるべきガスレーザ用電極1のアノード3に、例えばカルシウム(Ca)など、強いフッ化膜を形成することが可能な元素である所望の単体金属をドープする。アノード3の放電部3aの表面だけが加熱されて、該放電部3a以外の部位(放電が行われない部位)に比べてフッ化が進むと、アノード3の放電部3aの表面に特にフッ化膜が厚く生成される。
【選択図】図1
Description
誘電体4の材質としては、上記レーザチャンバ内に封入されるハロゲンガスが、フッ素系(フッ素F2)の場合にはフッ化物が有効であり、また塩素系(塩化水素HCl)の場合は塩化物系が有効である。この理由としては、アノード3の放電部3aの劣化は、ハロゲンガスの侵食(フッ素系の場合では例えばフッ素F2とアノード3との反応)による電極材料のハロゲン化(フッ素系の場合では例えばフッ化)による変質が主原因であるからである。
誘電体4は、アノード3の放電部3aにおいてレーザガスに含まれるハロゲンガスの侵食を発生させず、かつ導電性を確保することができる厚み(つまりカソード2とアノード3との間で放電を発生させる程度の厚み)をもって形成されている。この厚さは、前記条件を満たすべく、例えば0.005mm〜1.5mm、さらに望ましくは0.1mm〜1mmの範囲中の所望の値が適用される。
アノード3へのコーティングの方法としては、溶射、爆射、フィジカルベーパデポジション(PVD)、ケミカルベーパデポジション(CVD)、プラズマ蒸着等により薄膜を生成する方法(第1の方法)と、電極材質に単体金属または合金をドープし、フッ素雰囲気中でフッ化膜を生成する方法(第2の方法)とがある。
2 カソード
3 アノード
4 誘電体または絶縁体
10 レーザチャンバ
Claims (4)
- 対向して配置されるカソードとアノードとを有し、これらの電極間で放電することによりレーザガスを励起させるガスレーザ用電極において、
前記アノードの電極材質にフッ化膜を形成するカルシウム単体またはカルシウムの合金をドープした
ことを特徴とするガスレーザ用電極。 - 請求項1記載のガスレーザ用電極を用いたレーザチャンバ。
- 請求項2記載のレーザチャンバを搭載したガスレーザ装置。
- 前記カルシウムの合金は、カルシウムとストロンチウム、マグネシウム、銅、ニッケル、コバルト、鉄、の何れかとの合金である
ことを特徴とする請求項1記載のガスレーザ用電極。
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