JPS59227183A - 希ガス・ハロゲン・エキシマレ−ザ装置 - Google Patents

希ガス・ハロゲン・エキシマレ−ザ装置

Info

Publication number
JPS59227183A
JPS59227183A JP10344683A JP10344683A JPS59227183A JP S59227183 A JPS59227183 A JP S59227183A JP 10344683 A JP10344683 A JP 10344683A JP 10344683 A JP10344683 A JP 10344683A JP S59227183 A JPS59227183 A JP S59227183A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
halogen
rare gas
excimer laser
tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10344683A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0418714B2 (ja
Inventor
Toshihiko Suzuki
俊彦 鈴木
Tatsu Hirano
達 平野
Kinya Hakamata
袴田 欣也
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hamamatsu Photonics KK
Original Assignee
Hamamatsu Photonics KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hamamatsu Photonics KK filed Critical Hamamatsu Photonics KK
Priority to JP10344683A priority Critical patent/JPS59227183A/ja
Publication of JPS59227183A publication Critical patent/JPS59227183A/ja
Publication of JPH0418714B2 publication Critical patent/JPH0418714B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H01S3/0388Compositions, materials or coatings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/0305Selection of materials for the tube or the coatings thereon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分デfの説明) 本発明は紫外線発光源等に利用される希ガス・ハロゲン
・エキシマレーザ装置に関する。
(従来技術) 希ガス・ハロゲン・エキシマレーリ!装置は、高い効率
で高出力の紫外または直空紫外領域のパルス状のレーザ
光を出力することができるので広く用いられている。
希ガス・ハロゲン・エキシマレーデ装置において励起状
態にある希ガスと基底状態にあるハロゲンの結合した分
子くエキシマ分子)の寿命が基底状態にある希ガスとハ
ロゲンの結合した分子の寿命に比べて極めて長い。
したがって、希ガスハロゲン分子のエネルギー反転分布
の状態が得やすい。
希ガスとハロゲンの混合ガスを放電するごとによって励
起状態のエキシマ分子を作ることができる実用的なレー
ザである。
しかしながら従来の拮ガス・ハロゲン・エキシマレーザ
装置は寿命の点で問題があった。
従来この希ガス・ハし1ゲン・エキシマレーデを発生ず
るレーザ装置は内部に含んだハロケンカスに対して耐久
性を持たせる必要から管壁の絶糾体にはアクリル樹脂等
の合成樹脂が使われている。
第1図は前記従来の希ガス・ハロゲン・エキシマレーデ
・装置を示す斜視図である。第2図は前記装置の短手方
向の断面図である。
各図において1は外管を形成するアクリル樹脂製の円筒
である。
このアクリル樹脂製の円筒1の両端には、アクリル板2
a、2bにより封じられ°ζいる。
このアクリル板2a、  2bの中心開口部にアクリル
円筒3a’、3bがそれぞれ固定されこのアクリル円筒
3a、3bの先端に紫外線を透過するふ一9化マグネシ
ウムの窓板4a、4bを管軸に幻して34゛に取り41
けである。
なお管軸とは左右のアクリル円筒3a、3bの円内中心
を結んでできる直線である。
一対のアルミニウム製の電極5a、5bは一管軸をはさ
んで、これに平行に配置されてむ1ろ。
フィー;゛スルー6a〜61はフルミニウノ、製の電極
5a、5bを前記の位置に指示するとともGこ、1ik
電に必要な電流を供給するだめの構成部分で、銅で形成
されている。アルミニウノ、製の電極5aとフィーl−
スルー6a〜6fはア71ベニウノ、、製の電極5aの
対応部分にめねしを設りておき、フィ−lスルー6a〜
6fに設りたおねしを′Aコし結合さ・けることにより
行われる。アルミニウム製の電極5bとフィードスルー
6g〜6eも間柱の手段により結合されている。
放電電極7は第2図に示すように、一対のテJレミニウ
ム製の電極5a、5bの対向領域の一方側に設けられて
いる。
この放電電極7により、一対のア/l/ミニウム12の
電極5a、5bの電極間で行われる主なるh(電よりも
約1マイクロ秒だけ前に放電が開始さ41.、この予備
的な放電によってレーザ媒質ガスlJ(、空間的に均一
に電離され、主なる放電が起こる。
フィードスルー8a〜8Cは電極7をレーザ管内の所定
位置に取り付け、かつ前記予備的な放電に必要な電流を
供給する。アリクル板2a、2bとアクリル円筒3a、
3bの接合、前記フィードスルー6a〜6β、8a〜8
Cとアクリル樹脂製の円筒1の接合およびアクリル板2
a、2bとアクリル樹脂製の円筒lの接合には主として
アクリル樹脂専用の接着剤(例えば「アクリメイト−1
三菱レ一ヨン社の商品名、「1・−ルシール」ハリアン
社の商品名、「アラルダイト」チバ・ギガー汁の商品名
)が用いられる。
第3図は放電電極7を取り出して一部を破断して示した
図である。
アルミナのセラミックス管71の内部にP1mi’! 
72が差し込まれている。
セラミックス管71の外表面上には娘ペーノ、1−を焼
き込んで作られた島状の電極73a・・7311が設け
られている。3本のフィーl−スルー8のうち両端の2
本は両端の島状電極73に接続され、中心のフィードス
ルーは中心に位置する島扶重I所73にそれぞれに接続
され、同時に72のt+x+ 棒とも接続されている。
銅棒72は中心のフィートスルー8bのめとi9.続さ
れ、両醪、1のフィートスルー されている。高電圧電源の高電圧端子を両端のフィード
スルー8a,8cにつなぎ、低電圧端子を中心のフィー
ドスルー8bにつなくと、最初両端の島状電極例えば7
3aとこれのすく隣の島状電極73bの間で放電が生し
、次いでこの放電は次々に隣合った島状電極を伝わって
中心の島状電極に達する。このよ・うな予備的な放電に
よって主なる放電の始まる前に、封入ガスを電離する。
以」二のように従来の希ガス・ハしオゲン・エキシマレ
ーザ装置は管’fA 1”)としてアクリル樹脂,アル
ミニウム、ぶつ化マグネシウム、アルミナ・セラミック
ス、銅,銀ペースト、接着剤等で作られ、ハロゲンに対
して耐久性のある+A料が使われてきた。
このうちアルミニウムはノslコゲンガスに対する耐久
性が大きいうえに、放電時にスパックリングが少なくレ
ーザ管の電極材料として優秀である。
しかし、アクリル、接着剤等の合成樹脂は高温に耐えら
れないから真空排気して加熱し、L−一!I管の内壁に
吸着したガスを除去した状態で希カッ、。
ハロゲンガスをレーザ管内に導入することがてきず、所
定のガスを導入した後にレーg!発光に′1′i古なガ
スが、気密容器内に放出する。
特に水が放出されたときは、ハロゲンガスと反応してハ
ロゲン化水素を生成するために、ハロゲンガスが所定の
量から減少することになり、長;fF Qのレーザ管は
得られなかった。
そこで、前記形式の希ガス・ハロゲン・工ご1シマレー
デ装置では、レーザ管を排気装置および所望のガス供給
源と接続しておき、必要に応じ′CI・ーザ管内のガス
を入れ換える必要があった。
この不都合を解決するためにさらに他の希ガス・ハロゲ
ン・エキシマレーザ装置が提案され実施されている。
第4図はこの希ガス・ハロゲン・エキシマレーデ装置を
示す斜視図である。第5図は第4図に示すレーザ装置の
短手方向の断面図である。
外管を成形する円筒10は前述の実施例と異なりアルミ
ナ・セラミックスで作られている。
前記アルミナ・セラミックス円筒IOの両端面にはステ
ンレス鋼板20a,20bが配置され′ζいる。各ステ
ンレスtF14反20a,20bの中央の開L1部にt
riステン1/ス相円筒30a、30bが固定されてお
り、ぶつ化マグネシウムの窓板4a.4bを管軸に対し
て34°に取りイ;J番ノてある。
二1パール合金製の主たる放電のための電ti5(la
50bは先に示した従来例と同様に銅製のフィートスル
ー6a〜6jが結合されている。
予備的な放電に必要な予備放電?lX極7 (第5図参
照)の溝底は先に説明した所と変わらない。この予備放
電電極7にはフィートスルー83〜8(5が結合されて
いる。
アルミナ・セラミックス円筒10と両端面に配置された
ステンレス鋼板2Qa,  2Qbは、コバール合金円
筒備的12a,12bを介して接続されている。アルミ
ナ・セラミックス円筒10の前記主放電用の電極502
.501)に関連するフィードスルー6a〜6jおよび
予備放電用の電極7に関連スる7 ’< − Fスルー
8a〜8Cに対応する部分には孔が設けられており、こ
れらのフィー1=’スルーは、コバール合金製のキャン
プ13・・13を介してアルミナ・セラミックス円筒1
0に固定されている。
各部材の組立・結合はエポキシ樹脂等による接着法(従
来法)は行わず、ろう付り、アーク溶接、粉末ガラスを
用いた接着法で行っである。
すなわち、セラミックス円筒lOとコバール合金円筒1
2a,12bは、セラミックス円筒1 (lの結合部を
あらかじめメタライズした後に、このメタライズ部分と
コバール合金円筒12a,12bをろう付けする。
コパール合金円m l 2 a 、  1 2 bとス
テンL・ス泪円板20a,20bはアーク熔接法で接続
する。
ステンレス鋼円板20a.20bとステンレス鋼円筒3
0a,30bはアーク熔接法で接続する。
ステンレス鋼円筒30a,30bとふつ化−ングネシウ
ム窓板4a,4bの結合はわ)末ガラス育加熱溶融する
ごとによって結合する接盾法に、に、っている。
フィートスルー6a〜6j18a〜8Cとコバール合金
製のキャンプ13・・13、コバール合金製のキャップ
13・・13とセラミックス円筒10は、ろう付は法社
よって行われる。
この第4図に説明したレーザ装置の外管はセラミックス
を成形したものであるから、高温まで加熱できるため、
排気時に加熱してレーザ簀内壁に吸着したガスを極力少
なくすることができる。
管壁材のアルミナ・セラミックスはハL1す゛ンガスに
対して耐久性が大である」二にini温・加熱が可能で
、かつ組織が緻密であるから、希ガス・ハロゲン・エキ
シマレーザの刺じ切り管材料として適当である。また、
ステンレス招はハロゲンガスに対する耐久性が金属のう
らでは大きく、これも封じ切り管材料として適当である
このように外管をアルミナ・セラミックスとした希ガス
・ハロゲン・エキシマレーデ装置(以下第4し1の装置
と言う)と第1図に関連して説明した外管をアクリルと
した希ガス・ハロゲン・エキし・マレーザ装置(以下第
1図の装置と言う)を条イ!1を揃えて比較すると前者
の方が遥かに長い時間安定して動作することが確認でき
る。
何れの管にも波長248nanomを発生するK rF
(ぶつ化クリプトン)の希ガス・ハロケン・エキシマレ
ーザのレーザ媒質ガスとしてクリプトン(Kr)36ト
ール、ふっ素(F’2 )  2 l・−ル。
ヘリウム(He)1162トールをシー9!管内に封入
する。
主たる放電は容量32nanoFのキャパシタを電圧2
3に’Vで充電して(qられる電気エネルギーで、予備
的な放電は容量6nano  Fのキ、トパシクを電圧
16kVで充電して得られる電気エネルギーで、かつ予
備的な放電が始まってから約lマイクシIII)後に主
なる放電が始ま−るように、レーザ管をパルス放電させ
る。なお放電の間隔は1秒間に1回とする。
第4図の装置では最初170KWの出力で発振し、その
後約4X105回の放電までし・−ザ発振i’iJ能で
ある。
これに対して第1図の装置では、最初110KWの出力
でレーザ発振したものが、100回の発光でレーデ発振
を示さなくなった。
このように第4図の装置の寿益が向上したのはアルミナ
・セラミックス管を加熱排気できるので、有害ガスの発
生や水の発生を少なくし管内のノ\r1ゲンガスの減少
を防止できたからである。
発明者等が第4図の装置のレーザ発振停止の原因を検討
したところ、主なる放電を行う電極に使用したコバ−ル
合金が原因であることがわかった。
コバール合金はアルミナ・セラミックスと膨張係数が近
い。
コバール合金の線膨張係数は5. (l x 10−1
N1 /’C)、アルミナ・セラミックスの線膨張係数
は6.5X 10−61 /”cである。
レー力′管を加熱して、軸方向の伸びを考えたとき、電
極の熱膨張はアルミナ・セラミックス管の熱膨張と同程
度でなければならない。もしこれが満たされないと、コ
バール一部+A13とセラミ・ノクス管lOの結合部で
大きな歪みが発生し、ノタラ、イズ層の剥離あるいは、
セラミックス管が破ITする。
以上の理由によりレーデ管加熱時の破壊を避りるために
電極にコバールを用いなLJればならないが、このコバ
ールの性質によってレーデ装置の寿命が決められている
すなわちコバールは放電時のスパックリングが犬で、ス
パッタしたコバール粉末が管内を漂って窓板に付着し、
紫外線透過率を著しく低下さ−Vている。
また、コバールは放電中にハロゲンガスと反応し、その
結果管内のハロゲンガス■が低下してl・−リ゛−発振
が停止することになった。
−(発明の目的) 本発明の目的は従来の希ガス・ハロケン・エキシマレー
ザ装置の封し切り管、封し切り管内の電極、封し切り管
内のガスの相互の関連におい°ζ発生ずる問題を解決し
、より長い時間安定して動作することができる希ガス・
ハロゲン・エキシマレーザ装置を提供することにある。
(発明の構成と作用) (発明の構成) 前記目的を達成するために本発明による希ガス・ハ1:
1ゲン・エキシマレーザ装置は耐熱性の管壁内に管軸に
沿って配置される放電電極を複数本のフィードスルーに
より前記レー9゛管壁に固定する[の希ガス・ハロゲン
・エキシマレージ′装置において、前記放電電極の基本
形状を前記耐熱性の管壁材料と線膨張係数がほぼ同じで
ある金属により形成しその表面にハロゲンガスにり1し
て耐食性の大きい金属屑を形成して構成されている。 
前記構成によれば、前述した問題は総て解決され、高温
加熱のできる封じ切りレーザ管を用いた希ガス・ハロゲ
ン・エキシマレーザ装置の理想とする基本的な条件を総
て満たすことができる。
(実施例の説明) 以下図面を参照して本発明をさらに詳しく説明する。
第6図は、本発明による希ガス・ハロゲン・エキシマレ
ーザ装置で使用する主放電電極の実施例を示す長平方向
断面図、第7図は同じく短手方向の断面図である。この
主放電電極14の母体金属はコパール全屈である。コバ
ール金属部分を図中14aで示しである。主放電電極1
4の母体金属部分の長さは、40cm、高さ1cm、幅
1.3 c rnである。
図中上方向に現れる各稜線はエツジができないように丸
めである。これは図中矢印の示す方向に電界をか4ノ放
電を行わせる場合に−・様な放電面が形成されるように
するためである。
前記母体金属部分14aの表面に溶剤性によってアミニ
ウム層14bを形成する。
溶剤性は金属粉末を高温高速のガスによって対象物に吹
き付けて、高温の金属微粉を対象物に強い結合力で付着
あるいは溶着させる技術である。
この実施例では、溶剤性によりアルミニウム旧14b璧
約0.5 m rnの厚さで母体金属であイ):lバー
ル金属表面に付着した。
なおこの厚さは10 tt m −1,Omrn位の範
囲ζ1玉息に調整できる。
この溶射によって得られたアルミニウムHI 4 bは
緻密であり、通雷のアルミニノ・つと全く変わらない。
またこの溶射によって1qられた主電極14をli体で
400℃までの加熱をしたが、アルミニウム層14bは
剥離しなかった。
前記工程で形成された一対の主電極14を第4図に関連
して説明した従来の希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ
装置の主電極50a、50bの位置に全く同様にして配
置する。
レーザ管を約300“Cで6時間力1げハしながら排気
した後にクリプトン(Kr)を361・−ル、フッ素(
F2)を2トール、ヘリウム()Je)を1162トー
ル封入し封じ切る。
前記のようにし゛ζ製造された実施例装置の試験結果を
説明する。
主なる放電のエネルギーとしては、容量32 nan。
Fのキャパシタを電圧23KVで充電して得られる電力
を用い、また予備的な放電のエネルギーは容FJ 6 
nano  Fのキャパシタを電圧1 [i K Vで
充電して冑られる電力を用いる。
予備的な放電が始まゲζから約1マイクロ秒(糸に主な
る放電が始まるようにして、レーザ装置を毎秒1回の割
合でパルス放電させた。
発振が停止するまで連続的に動作させたところ、約5X
106回の放電が可能であることが判明した。
第8図は主放電電極14のさらに他の実施例の長平方向
断面図である。
第6図および第7図に示した実施例は母体金属のコバー
ル14aの全面をアルミニウム層14bで覆った。
この実施例は第8図のように主放電電極14の放電側の
面だけをアルミニウムm 14 aで覆うようにしたも
のである。
全面を被覆する方が優れているが、この放電側の面だけ
をアルミニウムN 14 aで覆うことによ−9でも、
充分な延命効果を期待できる。
この理由は、ハロゲンガスは放電によってより強く活性
化されて周囲物質と反応するが、放電領域をはずれれば
、反応性が弱くなるからである。
すなわら、放電面だけをハロゲンガスと反応しにくいア
ルミニウム、C蔽うののでも打効となる。
アルミニウムで被覆され′ζいない所は力U :Cが容
易であるから、フィードスルーの結合作業には便利であ
る。
前述の実施例では主放電電極に耐食性の大きい金属とし
てアルミニウムを用いたが、ニッケル、コバルト、ステ
ンレス鋼でも同様の効果が確かめられた。
(発明の詳細な説明) 以」二説明したように、本発明による希ガス・ハロゲン
・エキシマレーザ装置は、放電管の基本形状を耐熱性の
管壁材料を用いているから、耐熱性の管壁材料の充分な
ガス出しが可能である。また前記管壁に固定される主放
電電極を前記耐熱性の管壁材料と略おなし膨張係数をも
つ金属材料で形成しであるので、温度の変化により歪が
発生しない。
前記主放電?U極の表面にハロゲンガスにダlして耐食
性の大きい金属層を形成しであるから内f)1−の金属
の散逸や、ハロゲンガスとの化合は防止され長い時間安
定して動作する希ガス・ハ言コゲン・j−キシマレーザ
装置が得られる。
第9図に先に説明した従来装置と本発明による装置の寿
命試験の結果をまとめて示しである。
縦軸は出力(KW) 、横軸は発振回数を対数で示して
いる。図においてIの示す曲線が第1図の装置の特性、
■の示す曲線が第4図の装置の特性、■の示す曲線が本
発明による装置の特性を示している。
本発明の電極を用いたレーザ管が長寿命となったのは、
アルミニウムを使うことによって電極スパッタリングか
少なくなり、窓板が汚れにくくなったこと、電極のハロ
ゲンガスに対する耐久性が増した結果、ハロゲンガスの
減少が防止されるよ・うになったことによる。
【図面の簡単な説明】
第1図は希ガス・ハロゲン・エキシマレーリ′装置の従
来例を示す斜視図である。 第2図は前記装置のレーザ管の断面図である。 第3図は予備的な放電の電極を取り出して示した図であ
る。 第4図は希ガス・ハロゲン・エキシマレーデ装置の他の
従来例を示す斜視図である。 第5図は第4図の装置のレーザ管の断面図である。 第6図は本発明による希ガス・ハロゲン・エキシマレー
デ装置で使用する主放電電極の実施例の長手方向断面図
である。 第7図は同短手方向断面図である。 第8図は前記主放電電極の変形例を示す長手方向断面図
である。 第9図は先に説明した従来装置と本発明による装置の寿
命試験の結果をまとめて示したグラフである。 1・・・アクリル樹脂製の円’i?i (外管)2a、
2))・・・アクリル扱 3a、3b・・・アクリル円筒 4a、4b4・・・ふっ化マグネシウムの窓板5a、5
b・・・主放電電極(アルミニウム)6a〜6β・・・
フィートスルー 7・・・予備放電電極 8a〜8C・・・フィー1′スルー 10・・・アルミナ・セラミックス円筒(外′r![>
12a、12b・・・コバール合金円筒13・・・コバ
ール合金製のキャップ 14・・・主放電電極 14a・・・コバール合金部 14b・・・アルミニウム被覆部 20a、20b・・・ステンレス鋼板 30a、30b・・・ステンレスu4 円fui50a
、50b・・・主放電電極(コバール合金)特許出願人
    浜松ホトニクス株式会社代理人  弁理士  
 井 ノ ロ   シ1驚 デ 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)耐熱性の鶴壁内に管軸に沿って配置される放電電
    極を複数本のフィー1ごスルーにより前記レーザ管壁に
    固定する形式の希ガス・ハに1ゲン−・エキシマレーザ
    装置において、前記放電電極の基本形状を前記耐熱性の
    管壁材料と線膨張係数がほぼ同じである金属により形成
    しその表面にハl−1ゲンガスに対して耐食性の大きい
    金属層を形成して構成したことを特徴とする希ガス・ハ
    1」ケン・エキシマレーザ装置。 (2)前記ハロゲンガスは、フッ素、塩素、臭素の1ま
    たは2以上の組合せによるガスである特許請求の範囲第
    1項記載の希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装置。 13)  前記ハロゲンガスに対して耐食性の大きい金
    属層ハ、アルミニウム、ニッケル、コバルト、ステンレ
    ス鋼のいずれか1つである特許請求の範囲第1項記載の
    希ガス・ハロゲン・エキシマレージ5装置。 (4)  前記耐熱性管壁材料はアルミナ・セラミクス
    であり、前記レーザ管管壁材料と線膨張係数がほぼ同じ
    である金属はコバールである特許請求の範囲第1項記載
    の希ガス・ハロゲン・エキシマレーザ装置。 (5)  前記耐熱性管壁材料はアルミナ・セラミクス
    であり、前記レーザ管管壁材料と線膨張係数がほぼ同じ
    である金属はコバールであり、前記希ガノ、は、クリプ
    トンおよびヘリウムの混合ガスであり、前記ハロゲンガ
    スはフ・フ素ガスであり、前記ハ1.!ゲンガスに対し
    て耐食性の大きい金属層はアルベニラム層である特許請
    求の範囲第1項記4:1ミの計カス・ハロゲン・エキシ
    マレーザ装置。 (6)前記放電電極の放電面に対面する向辺り1に少な
    くとも前記ハロゲンガスに対して耐食性の大きい金属層
    で覆われていない部分が設けられていも特許請求の範囲
    第1項記載の希ガス・ハ11ケン・エキシマレーザ装置
JP10344683A 1983-06-07 1983-06-07 希ガス・ハロゲン・エキシマレ−ザ装置 Granted JPS59227183A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10344683A JPS59227183A (ja) 1983-06-07 1983-06-07 希ガス・ハロゲン・エキシマレ−ザ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10344683A JPS59227183A (ja) 1983-06-07 1983-06-07 希ガス・ハロゲン・エキシマレ−ザ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59227183A true JPS59227183A (ja) 1984-12-20
JPH0418714B2 JPH0418714B2 (ja) 1992-03-27

Family

ID=14354253

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10344683A Granted JPS59227183A (ja) 1983-06-07 1983-06-07 希ガス・ハロゲン・エキシマレ−ザ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59227183A (ja)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0213489A2 (en) * 1985-08-16 1987-03-11 Honeywell Inc. Cathode for a gas discharge device
JPS63204680A (ja) * 1987-02-20 1988-08-24 Toshiba Corp エキシマレ−ザ用送風機フイン
JPS63204677A (ja) * 1987-02-20 1988-08-24 Toshiba Corp エキシマレ−ザ用電極
JPS63204681A (ja) * 1987-02-20 1988-08-24 Toshiba Corp エキシマレ−ザ用熱交換器フイン
JPS63204678A (ja) * 1987-02-20 1988-08-24 Toshiba Corp エキシマレ−ザ管
JPS63311779A (ja) * 1987-06-03 1988-12-20 ラムダ フィジーク フォルシュングス ウント エントビックルングスゲゼルシャフト エムベーハー エクサイマーレーザー
JPH02500944A (ja) * 1987-08-31 1990-03-29 アキュレイス インコーポレーテッド 改良形希ガス‐ハロゲンエキシマレーザ
US4959840A (en) * 1988-01-15 1990-09-25 Cymer Laser Technologies Compact excimer laser including an electrode mounted in insulating relationship to wall of the laser
JPH0529682A (ja) * 1991-07-22 1993-02-05 Komatsu Ltd エキシマレーザの放電電極
US5220575A (en) * 1989-04-04 1993-06-15 Doduco Gmbh + Dr. Eugen Durrwachter Electrode for pulsed gas lasers
JPH06132582A (ja) * 1992-10-15 1994-05-13 Komatsu Ltd エキシマレーザ装置
EP1371119A1 (en) * 2001-03-02 2003-12-17 Corning Incorporated High repetition rate uv excimer laser
JP2009200520A (ja) * 2000-03-15 2009-09-03 Komatsu Ltd ガスレーザ用電極、その電極を用いたレーザチャンバ及びガスレーザ装置
WO2015115624A1 (ja) * 2014-01-30 2015-08-06 京セラ株式会社 筒体、プラズマ装置、ガスレーザー装置、および筒体の製造方法

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0213489A2 (en) * 1985-08-16 1987-03-11 Honeywell Inc. Cathode for a gas discharge device
JPS63204680A (ja) * 1987-02-20 1988-08-24 Toshiba Corp エキシマレ−ザ用送風機フイン
JPS63204677A (ja) * 1987-02-20 1988-08-24 Toshiba Corp エキシマレ−ザ用電極
JPS63204681A (ja) * 1987-02-20 1988-08-24 Toshiba Corp エキシマレ−ザ用熱交換器フイン
JPS63204678A (ja) * 1987-02-20 1988-08-24 Toshiba Corp エキシマレ−ザ管
JPS63311779A (ja) * 1987-06-03 1988-12-20 ラムダ フィジーク フォルシュングス ウント エントビックルングスゲゼルシャフト エムベーハー エクサイマーレーザー
JPH02500944A (ja) * 1987-08-31 1990-03-29 アキュレイス インコーポレーテッド 改良形希ガス‐ハロゲンエキシマレーザ
US4959840A (en) * 1988-01-15 1990-09-25 Cymer Laser Technologies Compact excimer laser including an electrode mounted in insulating relationship to wall of the laser
US5220575A (en) * 1989-04-04 1993-06-15 Doduco Gmbh + Dr. Eugen Durrwachter Electrode for pulsed gas lasers
JPH0529682A (ja) * 1991-07-22 1993-02-05 Komatsu Ltd エキシマレーザの放電電極
JPH06132582A (ja) * 1992-10-15 1994-05-13 Komatsu Ltd エキシマレーザ装置
JP2009200520A (ja) * 2000-03-15 2009-09-03 Komatsu Ltd ガスレーザ用電極、その電極を用いたレーザチャンバ及びガスレーザ装置
EP1371119A1 (en) * 2001-03-02 2003-12-17 Corning Incorporated High repetition rate uv excimer laser
EP1371117A2 (en) * 2001-03-02 2003-12-17 Corning Incorporated High repetition rate excimer laser system
EP1371117A4 (en) * 2001-03-02 2006-10-11 Corning Inc EXCIMER LASER SYSTEM WITH HIGH RECURRENCE FREQUENCY
EP1371119A4 (en) * 2001-03-02 2006-10-11 Corning Inc UV EXCIMER LASER WITH HIGH REPLACEMENT RATE
WO2015115624A1 (ja) * 2014-01-30 2015-08-06 京セラ株式会社 筒体、プラズマ装置、ガスレーザー装置、および筒体の製造方法
JPWO2015115624A1 (ja) * 2014-01-30 2017-03-23 京セラ株式会社 筒体、プラズマ装置、ガスレーザー装置、および筒体の製造方法
US10090628B2 (en) 2014-01-30 2018-10-02 Kyocera Corporation Cylinder, plasma apparatus, gas laser apparatus, and method of manufacturing cylinder

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0418714B2 (ja) 1992-03-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS59227183A (ja) 希ガス・ハロゲン・エキシマレ−ザ装置
JP4855428B2 (ja) 電子ビーム加速器
KR100973110B1 (ko) 엑시머 램프
US6232719B1 (en) High-pressure discharge lamp and method for manufacturing same
JP7296736B2 (ja) レーザ維持プラズマランプ用の機械的密封管及びその製造方法
JP4982708B2 (ja) 溶着箔およびこの箔を有するランプ
CN219696395U (zh) 杀菌灯具
US7355328B2 (en) Short-arc lamp with dual concave reflectors and a transparent arc chamber
TWI407481B (zh) Fluorescent lamp and the manufacturing method of the fluorescent lamp
JP2004363014A (ja) 高圧放電ランプの製造方法
CN116053112A (zh) 一种222纳米准分子灯板及其制作方法
US20040263043A1 (en) Non-oxidizing electrode arrangement for excimer lamps
JPH07288110A (ja) 誘電体バリヤ放電ランプ
JP3232946B2 (ja) 誘電体バリア放電ランプ
Peters Ceramic flat pack enclosures for precision quartz crystal units
US20020067130A1 (en) Flat-panel, large-area, dielectric barrier discharge-driven V(UV) light source
JP3168848B2 (ja) 誘電体バリア放電ランプ装置
RU2803045C1 (ru) Высокоинтенсивная импульсная газоразрядная короткодуговая лампа
HU202013B (en) Impulsed inert gas discharge lamp
JP3122348U (ja) 放電管
JP3168847B2 (ja) 誘電体バリア放電ランプ装置
JP2005158622A (ja) 閃光放電ランプおよび光照射装置
JP2022184023A (ja) 放電ランプおよび放電ランプ用電極の製造方法
JPH0473856A (ja) ガス入放電管
JPH0294278A (ja) 内燃機関の点火装置用定電圧放電管