JP2009194379A - トランジスタ素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板2上に高電子移動度トランジスタ(HEMT)3が形成され、そのHEMT3上にヘテロバイポーラトランジスタ(HBT)4が形成されたトランジスタ素子1において、HEMT3に、キャリア濃度が1×1019cm-3以下である電子供給層6,10を備える。
【選択図】図1
Description
2 半絶縁性GaAs基板
3 HEMT(HEMT構造層)
4 HBT(HBT構造層)
5 バッファ層
6 第1電子供給層
7 スペーサ層
8 チャネル層
9 スペーサ層
10 第2電子供給層
11 ショットキー層
12 ストッパ層
13 サブコレクタ層
14 コレクタ層
15 ベース層
16 エミッタ層
17 バラスト層
18 ノンアロイ層
19 ノンアロイ層
Claims (6)
- 基板上に高電子移動度トランジスタが形成され、該高電子移動度トランジスタ上にヘテロバイポーラトランジスタが形成されたトランジスタ素子において、上記高電子移動度トランジスタに、キャリア濃度が1×1019cm-3以下である電子供給層を備えることを特徴とするトランジスタ素子。
- 上記電子供給層がチャネル層よりも下部及びチャネル層よりも上部に存在することを特徴とする請求項1記載のトランジスタ素子。
- 上記電子供給層がSi,Se,Teのいずれかをドープしたn−AlGaAs層からなることを特徴とする請求項1又は2記載のトランジスタ素子。
- 上記電子供給層がSiをドープしたn−InGaP層からなることを特徴とする請求項1又は2記載のトランジスタ素子。
- 上記ヘテロバイポーラトランジスタと上記高電子移動度トランジスタとの間にはストッパ層が設けられ、該ストッパ層の層厚が6nm以上、12nm以下であることを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載のトランジスタ素子。
- 上記ストッパ層は、n−InGaP層からなることを特徴とする請求項5記載のトランジスタ素子。
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JP2013021024A (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-31 | Hitachi Cable Ltd | トランジスタ素子 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070278523A1 (en) * | 2006-06-05 | 2007-12-06 | Win Semiconductors Corp. | Structure and a method for monolithic integration of HBT, depletion-mode HEMT and enhancement-mode HEMT on the same substrate |
JP2007335586A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Sony Corp | 半導体集積回路装置および半導体集積回路装置の製造方法 |
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2009
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