JP2009193860A - 固体高分子形燃料電池用膜電極接合体およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】固体高分子電解質膜12;固体高分子電解質膜12の第1の面の周縁部に配置された第1のフレーム14;固体高分子電解質膜12の第2の面の周縁部に配置された第2のフレーム16;第1の触媒層18と第1のガス拡散層20とを有する第1の電極22;第2の触媒層24と第2のガス拡散層26とを有する第2の電極28を備え、第1のフレーム14の内縁部が第1の触媒層18と第1のガス拡散層20との間に位置し、第2のフレーム16の内縁部が固体高分子電解質膜12と第2の触媒層24との間に位置する膜電極接合体10を製造する際、固体高分子電解質膜12の第1の面に、触媒およびイオン交換樹脂を含む塗工液を塗工することにより第1の触媒層18を形成した後、固体高分子電解質膜12の周縁部に第1のフレーム14を配置する。
【選択図】図1
Description
(1)固体高分子電解質膜の周縁部に、電極と重なりを有するように一対の額縁状のフレームを配置した膜電極接合体(特許文献1)。
(2)固体高分子電解質膜の少なくとも一方の表面に、触媒およびイオン交換樹脂を含む塗工液を塗工することにより触媒層を形成する方法。
しかし、(1)の膜電極接合体を(2)の方法で製造した場合、固体高分子電解質膜の周縁部にフレームを配置した後に、該フレームの内縁部および固体高分子電解質膜の表面の両方に塗工液を塗布しなければならないため、フレームの内縁部と固体高分子電解質膜との境界付近に触媒層をうまく形成できず、フレーム内縁部と触媒層が形成された部分の間に膜のみの部位が存在することになる。その結果、特許文献2等に記載されているように、その触媒層周縁部と膜が接している部分での膜劣化発生の要因となりやすく高い耐久性が得られない。
(b)固体高分子電解質膜の第1の面に、触媒およびイオン交換樹脂を含む塗工液を塗工することにより第1の触媒層を形成する工程。
(c)前記工程(b)よりも後段にて、前記固体高分子電解質膜ならびに前記第1の触媒層と第1のフレームとを、該第1のフレームの少なくとも一部が前記固体高分子電解質膜の第1の面に接するように、かつ該第1のフレームの内縁部が前記第1の触媒層の表面に接するように、接合する工程。
(d)前記工程(c)と同時にまたは前記工程(c)よりも後段にて、前記第1の触媒層ならびに前記第1のフレームと第1のガス拡散層とを、該第1のガス拡散層が前記第1の触媒層の表面および前記第1のフレームの内縁部に接するように、接合する工程。
(f)前記工程(b)よりも後段にて、前記固体高分子電解質膜と第2のフレームとを、該第2のフレームの少なくとも一部が前記固体高分子電解質膜の第2の面に接するように、接合する工程。
(g)前記工程(f)と同時にまたは前記工程(f)よりも後段にて、前記固体高分子電解質膜ならびに前記第2のフレームと第2の電極とを、該第2の電極の第2の触媒層の表面が前記第2のフレームの内縁部および前記固体高分子電解質膜の第2の面に接するように、接合する工程。
(a)剥離基材の表面に、イオン交換樹脂を含む塗工液を塗工することにより固体高分子電解質膜を形成する工程。
(e)前記工程(b)よりも後段、かつ前記工程(f)よりも前段にて、前記剥離基材を前記固体高分子電解質膜の第2の面から剥離する工程。
本発明の固体高分子形燃料電池用膜電極接合体の製造方法においては、工程(a)、工程(b)、工程(c)、工程(d)、工程(e)、工程(f)、工程(g)の順に行う;または工程(a)、工程(b)を順に行い、ついで工程(c)および工程(d)を同時に行い、ついで工程(e)を行い、ついで工程(f)および工程(g)を同時に行う、ことが好ましい。
前記工程(c)、(d)、(f)、(g)における接合を、ホットプレス法により行うことが好ましい。
本発明の固体高分子形燃料電池用膜電極接合体の製造方法によれば、耐久性に優れ、かつ出力電圧が高い固体高分子形燃料電池用膜電極接合体を製造できる。
図1は、本発明の固体高分子形燃料電池用膜電極接合体(以下、膜電極接合体と記す。)の一例を示す概略断面図である。膜電極接合体10は、固体高分子電解質膜12と、固体高分子電解質膜12の一方の主面(以下、第1の面と記す。)に接するように、固体高分子電解質膜12の周縁部に配置された第1のフレーム14と、固体高分子電解質膜12の他方の主面(以下、第2の面と記す。)に接するように、固体高分子電解質膜12の周縁部に配置された第2のフレーム16と、第1の触媒層18と第1のガス拡散層20とを有し、かつ第1の触媒層18が固体高分子電解質膜12の第1の面に接する第1の電極22と、第2の触媒層24と第2のガス拡散層26とを有し、かつ第2の触媒層24が固体高分子電解質膜12の第2の面に接する第2の電極28とを備える。
第1のフレーム14の内縁部は、第1の触媒層18と第1のガス拡散層20との間に位置する。
第2のフレーム16の内縁部は、固体高分子電解質膜12と第2の触媒層24との間に位置する。
第1のフレーム14の外縁部側の端縁および第2のフレーム16の外縁部側の端縁は、固体高分子電解質膜12の周縁部の端縁と一致する。
固体高分子電解質膜12は、イオン交換樹脂を含む膜である。
イオン交換樹脂としては、耐久性の点から、イオン性基を有する含フッ素樹脂が好ましい。イオン性基としては、スルホン酸基、カルボン酸基等が挙げられる。
イオン性基を有する含フッ素樹脂としては、スルホン酸基を有するパーフルオロカーボン重合体(エーテル性酸素原子を含んでいてもよい。)が好ましく、テトラフルオロエチレン(以下、TFEと記す。)に基づく単位と、スルホン酸基を有する繰り返し単位とを有する共重合体(以下、共重合体(H)と記す。)が特に好ましい。スルホン酸基を有する繰り返し単位としては、下式(1)で表される繰り返し単位が好ましい。
CF2=CF(OCF2CFX)m−Op−(CF2)n−SO2F ・・・(2)。
ただし、Xはフッ素原子またはトリフルオロメチル基であり、mは0〜3の整数であり、nは1〜12の整数であり、pは0または1である。
CF2=CFO(CF2)qSO2F ・・・(2−1)、
CF2=CFOCF2CF(CF3)O(CF2)rSO2F ・・・(2−2)、
CF2=CF(OCF2CF(CF3))tO(CF2)sSO2F ・・・(2−3)。
ただし、q、r、sは1〜8の整数であり、tは1〜3の整数である。
第1のフレーム14および第2のフレーム16(以下、まとめてフレームとも記す。)は、額縁状のフィルムであって、電極が配置されない固体高分子電解質膜12の周縁部を補強する補強フィルムであり、多孔性である触媒層の周縁部の端縁からガスが漏洩することを防ぐガス遮蔽フィルムであり、かつ触媒層の面積を規制する規制フィルムである。
第1のフレーム14の内縁部が第1の触媒層18と第1のガス拡散層20との間に位置するということは、第1のフレーム14が、固体高分子電解質膜12の第1の面に第1の触媒層18が形成された後に固体高分子電解質膜12の周縁部に配置されたことを意味する。よって、第1のフレーム14の内縁部が、第1の触媒層18と第1のガス拡散層20との間に位置するようにすれば、第1のフレーム14を配置する前に、第1の触媒層18を固体高分子電解質膜12の第1の面に塗工により形成できる。
第2のフレーム16の内縁部が固体高分子電解質膜12と第2の触媒層24との間に位置するということは、第2のフレーム16を固体高分子電解質膜12の第2の面の周縁部に配置した後に、第2の電極28を接合したことを意味する。
第1の触媒層18および第2の触媒層24(以下、まとめて触媒層とも記す。)は、触媒およびイオン交換樹脂を含む層である。触媒層の面積は、固体高分子電解質膜12の面積よりも小さい。
カーボン担体としては、活性炭、カーボンブラック等が挙げられる。
カーボン担体の比表面積は、200m2 /g以上が好ましい。カーボン担体の比表面積は、BET比表面積装置によりカーボン表面への窒素吸着により測定する。
白金または白金合金の担持率は、触媒(100質量%)のうち、10〜70質量%が好ましい。
イオン交換樹脂としては、耐久性の点から、上述のイオン性基を有する含フッ素樹脂が好ましく、スルホン酸基を有するパーフルオロカーボン重合体(エーテル性酸素原子を含んでいてもよい。)がより好ましく、共重合体(H)が特に好ましい。
触媒層に含まれる白金量は、電極反応を効率よく行うための最適な厚さの点から、0.01〜0.5mg/cm2 が好ましく、0.05〜0.35mg/cm2 がより好ましい。
なお、アノードとカソードの触媒層は、同じであっても異なっていてもよい。
第1のガス拡散層20および第2のガス拡散層26(以下、まとめてガス拡散層とも記す。)は、ガス拡散性基材を有する層である。ガス拡散層の面積は、固体高分子電解質膜12の面積と同じか、またはそれよりも小さい。
ガス拡散性基材は、PTFE、またはPTFEとカーボンブラックとの混合物等によって撥水処理されていることが好ましい。
ガス拡散層の厚さは、100〜400μmが好ましく、140〜350μmがより好ましい。ガス拡散層もアノードとカソードとで同じであっても異なっていてもよい。
なお、本発明の膜電極接合体は、図1の膜電極接合体10に限定はされない。
他の形態としては、たとえば、下記(i)〜(v)のものが挙げられる。
(i)図2に示すように、固体高分子電解質膜12の周縁部の端縁に接するように周設されたスペーサ30をさらに備え、
スペーサ30が、第1のフレーム14の外縁部と第2のフレーム16の外縁部との間に位置し、かつ
スペーサ30の外縁部側の端縁が、第1のフレーム14の外縁部側の端縁および第2のフレーム16の外縁部側の端縁と一致する膜電極接合体32。
(iii)図4に示すように、第1の触媒層18が、第1のガス拡散層20、第2の触媒層24および第2のガス拡散層26よりも大きくされた膜電極接合体36。
(iv)図5に示すように、第1の触媒層18が、第1のガス拡散層20、第2の触媒層24および第2のガス拡散層26よりも大きくされ、かつ第2のフレーム16が、第1のフレーム14よりも大きくされた膜電極接合体38。
(v)図6に示すように、第1の触媒層18が、第1のガス拡散層20、第2の触媒層24および第2のガス拡散層26よりも大きくされ、かつ第1のフレーム14が、第2のフレーム16よりも大きくされた膜電極接合体40。
カーボン材料としては、繊維径1〜1000nm、繊維長1〜1000μmのカーボンナノファイバーが好ましい。
バインダー樹脂としては、イオン交換樹脂、含フッ素樹脂(PTFE等。)等が挙げられる。
本発明の膜電極接合体の製造方法は、固体高分子電解質膜の第1の面に、触媒およびイオン交換樹脂を含む塗工液を塗工することにより第1の触媒層を形成した後、固体高分子電解質膜の周縁部に第1のフレームを配置することを特徴とする。
(a)剥離基材の表面に、イオン交換樹脂を含む塗工液を塗工することにより固体高分子電解質膜を形成する工程。
(b)固体高分子電解質膜の第1の面に、触媒およびイオン交換樹脂を含む塗工液を塗工することにより第1の触媒層を形成する工程。
(c)工程(b)よりも後段にて、固体高分子電解質膜ならびに第1の触媒層と第1のフレームとを、第1のフレームの少なくとも一部が固体高分子電解質膜の第1の面に接するように、かつ第1のフレームの内縁部が第1の触媒層の表面に接するように、接合する工程。
(d)工程(c)と同時にまたは工程(c)よりも後段にて、第1の触媒層ならびに第1のフレームと第1のガス拡散層とを、第1のガス拡散層が第1の触媒層の表面および第1のフレームの内縁部に接するように、接合する工程。
(e)工程(b)よりも後段、かつ工程(f)よりも前段にて、剥離基材を固体高分子電解質膜の第2の面から剥離する工程。
(f)工程(b)よりも後段にて、固体高分子電解質膜と第2のフレームとを、第2のフレームの少なくとも一部が固体高分子電解質膜の第2の面に接するように、接合する工程。
(g)工程(f)と同時にまたは工程(f)よりも後段にて、固体高分子電解質膜ならびに第2のフレームと第2の電極とを、第2の電極の第2の触媒層の表面が第2のフレームの内縁部および固体高分子電解質膜の第2の面に接するように、接合する工程。
以下、膜電極接合体10の製造方法を、工程(a)〜(g)を順に行う方法を例にとって説明する。
図7に示すように、剥離基材42の表面に、イオン交換樹脂を含む塗工液(以下、電解質膜用塗工液と記す。)を塗工することにより固体高分子電解質膜12を形成する。
なお、市販の剥離基材付き固体高分子電解質膜(たとえば、旭硝子社製のフレミオン(登録商標)等。)を用いる場合、工程(a)は省略できる。
樹脂フィルムの材料としては、非フッ素系樹脂(PET、PEN、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド等。)、含フッ素樹脂(PTFE、ETFE、エチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体、ポリフッ化ビニリデン等)等が挙げられる。
非フッ素系樹脂フィルムは、離型剤で表面処理されていることが好ましい。
電解質膜用塗工液の固形分濃度は、15〜30質量%が好ましく、20〜30質量%がより好ましい。電解質膜用塗工液の固形分濃度を該範囲とすることにより、電解質膜用塗工液が適度な粘度となり、均一に塗工でき、かつ形成される固体高分子電解質膜12にひび割れを生じることがない。
アルコール類としては、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール等が挙げられる。イオン交換樹脂の溶解性を上げるために、アルコール類と水との混合溶媒を用いてもよい。
ヒドロフルオロカーボン:2H−パーフルオロプロパン、1H,4H−パーフルオロブタン、2H,3H−パーフルオロペンタン、3H,4H−パーフルオロ(2−メチルペンタン)、2H,5H−パーフルオロヘキサン、3H−パーフルオロ(2−メチルペンタン)等。
フルオロカーボン:パーフルオロ(1,2−ジメチルシクロブタン)、パーフルオロオクタン、パーフルオロヘプタン、パーフルオロヘキサン等。
ヒドロクロロフルオロカーボン:1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン、1,1,1−トリフルオロ−2,2−ジクロロエタン、3,3−ジクロロ−1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン、1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン等。
フルオロエーテル:1H,4H,4H−パーフルオロ(3−オキサペンタン)、3−メトキシ−1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン等。
含フッ素アルコール:2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール等。
バッチ式塗工法としては、バーコータ法、スピンコータ法、スクリーン印刷法等が挙げられる。
連続式塗工法としては、後計量法または前計量法が挙げられる。後計量法は、過剰の塗工液を塗工し、後から所定の厚さとなるように塗工液を除去する方法である。前計量法は、所定の厚さを得るのに必要な量の塗工液を塗工する方法である。
前計量法としては、ダイコータ法、リバースロールコータ法、トランスファロールコータ法、グラビアコータ法、キスロールコータ法、キャストコータ法、スプレイコータ法、カーテンコータ法、カレンダコータ法、押出コータ法等が挙げられる。
塗工法としては、均一な固体高分子電解質膜12を形成できる点から、スクリーン印刷法またはダイコータ法が好ましく、生産効率の点から、ダイコータ法がより好ましい。
乾燥温度は、70〜170℃が好ましい。
図8に示すように、固体高分子電解質膜12の第1の面(剥離基材42と接していない主面)の中央部に、触媒およびイオン交換樹脂を含む塗工液(以下、第1の触媒層用塗工液と記す。)を塗工することにより、第1の触媒層が形成されない固体高分子電解質膜12の周縁部を残して、第1の触媒層18を形成する。
第1の触媒層用塗工液の固形分濃度は、4〜15質量%が好ましく、8〜12質量%がより好ましい。第1の触媒層用塗工液の固形分濃度を該範囲とすることにより、第1の触媒層用塗工液が適度な粘度となり、均一に塗工でき、かつ形成される第1の触媒層18にひび割れを生じることがない。
塗工法としては、均一な第1の触媒層18を形成できる点から、スクリーン印刷法またはダイコータ法が好ましく、生産効率の点から、ダイコータ法がより好ましい。
乾燥温度は、70〜150℃が好ましい。
図9に示すように、固体高分子電解質膜12ならびに第1の触媒層18と、開口部の面積が第1の触媒層18の面積よりも小さくされた第1のフレーム14とを、第1のフレーム14の外縁部が固体高分子電解質膜12の第1の面に接するように、かつ第1のフレーム14の内縁部が第1の触媒層18の表面に接するように、接合する。
プレス機内のプレス板の温度は、100〜150℃が好ましい。
プレス圧力は、0.5〜2.0MPaが好ましい。
図10に示すように、第1の触媒層18ならびに第1のフレーム14と、第1のガス拡散層20(ガス拡散性基材)とを、第1のガス拡散層20が第1の触媒層18の表面および第1のフレーム14の内縁部に接するように、接合する。
プレス機内のプレス板の温度は、100〜150℃が好ましい。
プレス圧力は、0.5〜2.0MPaが好ましい。
図11に示すように、剥離基材42を固体高分子電解質膜12の第2の面から剥離する。
図12に示すように、固体高分子電解質膜12と、開口部の面積が第2の触媒層24の面積よりも小さくされた第2のフレーム16とを、第2のフレーム16が固体高分子電解質膜12の第2の面に接するように、接合する。
プレス機内のプレス板の温度は、100〜150℃が好ましい。
プレス圧力は、0.5〜2.0MPaが好ましい。
図13に示すように、固体高分子電解質膜12ならびに第2のフレーム16と、あらかじめ作製された第2の電極28とを、第2の電極28の第2の触媒層24の表面が第2のフレーム16の内縁部および固体高分子電解質膜12の第2の面に接するように、接合する。
プレス機内のプレス板の温度は、100〜150℃が好ましい。
プレス圧力は、0.5〜2.0MPaが好ましい。
第2の触媒層用塗工液の固形分濃度は、第1の触媒層用塗工液の固形分濃度と同じ範囲が好ましい。
塗工法としては、均一な第2の触媒層24を形成できる点から、スクリーン印刷法またはダイコータ法が好ましく、生産効率の点から、ダイコータ法がより好ましい。
乾燥温度は、70〜170℃が好ましい。
たとえば、工程(c)(第1のフレームの配置)および工程(d)(第1のガス拡散層の接合)を同時に行った後、工程(e)(剥離基材の剥離)を行い、さらに工程(f)(第2のフレームの配置)および工程(g)(第2の電極の接合)を同時に行ってもよく;
工程(c)(第1のフレームの配置)、工程(e)(剥離基材の剥離)、工程(f)(第2のフレームの配置)を順に行った後、工程(d)(第1のガス拡散層の接合)および工程(g)(第2の電極の接合)を同時にまたは別々に行ってもよく;
工程(e)(剥離基材の剥離)を行った後、工程(c)(第1のフレームの配置)および工程(f)(第2のフレームの配置)を同時にまたは別々に行い、さらに工程(d)(第1のガス拡散層の接合)および工程(g)(第2の電極の接合)を同時にまたは別々に行ってもよい。
固体高分子形燃料電池では、通常、アノードに水素を含むガス(燃料)、カソードに酸素を含むガス(空気)が供給される。第2の電極28は、作製の際に第2のガス拡散層26に第2の触媒層用塗工液の一部が浸透するため、第2のガス拡散層26の一部が閉塞しやすい。そのため、第2の電極28をカソードとすると、水素に比べ透過率の低い酸素が第2のガス拡散層26を通過しなければならず、ガス拡散性が低下しやすい。一方、第2の電極28をアノードとすれば、閉塞した部分であっても水素は比較的透過しやすいため、ガス拡散性が低下しにくい。すなわち、カソードのガス拡散層は多孔質に保つ必要があり、アノードのガス拡散層はカソードほど多孔質でなくてもよいため、第2の電極28をアノードとすれば、カソードの多孔性が保たれ、高性能の固体高分子型燃料電池が得られる。
また、以上説明した本発明の膜電極接合体の製造方法にあっては、固体高分子電解質膜の周縁部に第1のフレームを配置する前に、固体高分子電解質膜の第1の面に第1の触媒層を形成しているため、均一な触媒層が形成される。その結果、高い出力電圧が得られる。
図14は、本発明の固体高分子形燃料電池の一例を示す断面図である。固体高分子形燃料電池50は、膜電極接合体10と、膜電極接合体10の外縁部を挟んで対向して配置された一対の額縁状のガスシール材52と、これらを挟んで対向して配置された一対のセパレータ54とからなるセル60を、膜電極接合体10とセパレータ54とが交互に配置されるようにスタックしたものである。
セパレータ54としては、金属製セパレータ、カーボン製セパレータ、黒鉛と樹脂とを混合した材料からなるセパレータ等、各種導電性材料からなるセパレータが挙げられる。
例1〜7は実施例であり、例8は比較例である。
(工程(a))
テトラフルオロエチレンに基づく単位と、下式(11)で表される繰り返し単位とからなる共重合体(H1)(イオン交換容量1.1ミリ当量/g乾燥樹脂)を、エタノールと水との混合溶媒(エタノール/水=60/40(質量比))に分散させ、固形分濃度25質量%の電解質膜用塗工液を調製した。
共重合体(H1)をエタノールに分散させ、固形分濃度10質量%のイオン交換樹脂液(A)を調製した。
これとは別に、カーボン担体(比表面積250m2/g)に白金・コバルト合金(白金/コバルト=36/4(質量比))が40質量%担持された触媒(田中貴金属社製)の35gを蒸留水の222.5gに加え、超音波印加装置を用いて粉砕し、さらにエタノールの37.5gを加え、よく撹拌し、触媒液(B)を調製した。
触媒液(B)の全量に、イオン交換樹脂液(A)の210gを加え、よく撹拌し、固形分濃度11質量%のカソード触媒層用塗工液(C)を調製した。
カーボンペーパ(NOK社製、商品名:H2315T10AC1)(以下、カーボンペーパ(P)と記す。)からなる、56mm×70mm×厚さ245μmの第1のガス拡散層20を用意した。
また、120mm×150mm×厚さ25μmのPENフィルムの中央部に、一辺が50mmの正方形の開口部を形成し、第1のフレーム14を作製した。
この際、第1のフレーム14が固体高分子電解質膜12の第1の面に接するように、かつ第1のフレーム14の内縁部が第1の触媒層18に均等に接するように、固体高分子電解質膜12の周縁部に第1のフレーム14を配置した。
また、第1のガス拡散層20が第1のフレーム14の内縁部に均等に接するように、かつ第1のガス拡散層20が第1の触媒層18の表面に接するように、第1のガス拡散層20を配置した。
プレス機内を50℃以下まで冷却した後、圧力を開放して、プレス機から膜−カソード接合体を取り出した。
図11に示すように、剥離基材42を固体高分子電解質膜12の第2の面から剥離した。
カーボン担体(比表面積800m2/g)に白金・ルテニウム合金(白金/ルテニウム=31/22(質量比))が53質量%担持された触媒(田中貴金属工業社製)の33gを蒸留水の227.5gに加え、超音波印加装置を用いて粉砕し、さらにエタノールの117.5gを加え、よく撹拌し、触媒液(D)を得た。
触媒液(D)の全量に、イオン交換樹脂液(A)の122.5gを加え、よく撹拌し、固形分濃度9質量%のアノード触媒層用塗工液(E)を調製した。
また、120mm×150mm×厚さ25μmのPENフィルムの中央部に、一辺が50mmの正方形の開口部を形成し、第2のフレーム16を作製した。
この際、第2のフレーム16が固体高分子電解質膜12の第2の面に接するように、固体高分子電解質膜12の周縁部に第2のフレーム16を配置した。
また、第2の触媒層24の表面が第2のフレーム16の内縁部に均等に接するように、かつ第2の触媒層24の表面が固体高分子電解質膜12の第2の面に接するように、第2の電極28を配置した。
膜電極接合体10を発電用セルに組み込み、常圧にて、水素(利用率70%)/空気(利用率40%)を供給し、セル温度80℃、電流密度0.7A/cm2にて運転を12時間行った。この際、アノード側には加湿された80℃の水素を供給し、カソード側には加湿された80℃の空気を供給した。その後、電流密度を0、0.05、0.08、0.2、0.3、0.5、0.7、1.0(A/cm2)と変化させ、電流密度0.2、0.7、1.0(A/cm2)におけるセル電圧を測定した。結果を表1に示す。なお、運転中は、水素および空気の利用率が常に一定になるようにガス流量を制御した。
膜電極接合体10を発電用セルに組み込み、常圧にて、SGR(利用率70%)/空気(利用率40%)を供給し、セル温度80℃、電流密度0.7A/cm2にて運転を2時間行った。この際、アノード側には加湿された80℃のSGRを供給し、カソード側には加湿された80℃の空気を供給した。その後、電流密度を0、0.05、0.08、0.2、0.3、0.5、0.7、1.0(A/cm2)と変化させ、電流密度0.2、0.7、1.0(A/cm2)におけるセル電圧を測定した。結果を表2に示す。なお、運転中は、SGRおよび空気の利用率が常に一定になるようにガス流量を制御した。
例1の工程(b)で得られた膜−カソード触媒層接合体を、第1の触媒層18が中央になるように、一辺が70mmの正方形に打ち抜いた以外は、例1と同様にして図3に示す膜電極接合体34を得た。電極面積は、25cm2であり、フレームとガス拡散層とが重なる部分の最小幅Wは、3mmであった。
該膜電極接合体について、例1と同様の条件にてセル電圧および剥離強度を測定した。結果を表1〜3に示す。
(工程(a)および工程(b))
例1と同様にして、膜−カソード触媒層接合体を得た。
カーボンペーパ(P)からなる、56mm×70mm×厚さ245μmの第1のガス拡散層20を用意した。
また、120mm×150mm×厚さ25μmのPENフィルムの中央部に、一辺が50mmの正方形の開口部を形成し、第1のフレーム14を作製した。
また、膜−カソード触媒層接合体を、第1の触媒層18が中央になるように、一辺が70mmの正方形に打ち抜いた。
また、150mm×150mm×厚さ50μmのPENフィルムの中央部に、一辺が70mmの正方形の開口部を形成し、スペーサ30を作製した。
この際、第1のフレーム14が固体高分子電解質膜12の第1の面に接するように、かつ第1のフレーム14の内縁部が第1の触媒層18に均等に接するように、固体高分子電解質膜12の周縁部に第1のフレーム14を配置した。
また、第1のガス拡散層20が第1のフレーム14の内縁部に均等に接するように、かつ第1のガス拡散層20が第1の触媒層18の表面に接するように、第1のガス拡散層20を配置した。
プレス機内を50℃以下まで冷却した後、圧力を開放して、プレス機から膜−カソード接合体を取り出した。
以降、例1と同様にして、図2に示す膜電極接合体32を得た。電極面積は、25cm2であり、フレームとガス拡散層とが重なる部分の最小幅Wは、3mmであった。
該膜電極接合体について、例1と同様の条件にてセル電圧を測定した。剥離強度は例1と同様測定できなかった。結果を表1〜2に示す。
第2のフレーム16の開口部を、一辺が51mmの正方形に変更した以外は、例1と同様にして図6に示す膜電極接合体40を得た。電極面積は、25cm2であり、フレームとガス拡散層とが重なる部分の幅Wは、3mmおよび2.5mmであった。
該膜電極接合体について、例1と同様の条件にてセル電圧を測定した。剥離強度は例1と同様測定できなかった。結果を表1〜2に示す。
第1のフレーム14の開口部を、一辺が51mmの正方形に変更した以外は、例1と同様にして図5に示す膜電極接合体38を得た。電極面積は、25cm2であり、フレームとガス拡散層とが重なる部分の幅Wは、2.5mmおよび3mmであった。
該膜電極接合体について、例1と同様の条件にてセル電圧を測定した。剥離強度は例1と同様測定できなかった。結果を表1〜2に示す。
(工程(a)および工程(b))
例1と同様にして、膜−カソード触媒層接合体を得た。
気相成長炭素繊維(昭和電工社製、商品名:VGCF−H、繊維径約150nm、繊維長10〜20μm)の20gに蒸留水の180gを加え、よく撹拌した。これにイオン交換樹脂液(A)の200gを加え、よく撹拌し、さらにホモジナイザーを用いて混合、粉砕し、カソードカーボン層用塗工液(F)を調製した。
また、120mm×150mm×厚さ25μmのPENフィルムの中央部に、一辺が50mmの正方形の開口部を形成し、第1のフレーム14を作製した。
この際、第1のフレーム14が固体高分子電解質膜12の第1の面に接するように、かつ第1のフレーム14の内縁部が第1の触媒層18に均等に接するように、固体高分子電解質膜12の周縁部に第1のフレーム14を配置した。
また、カソード用ガス拡散層(Q)のカーボン層(図示略)が第1のフレーム14の内縁部に均等に接するように、かつ該カーボン層が第1の触媒層18の表面に接するように、カソード用ガス拡散層(Q)を配置した。
プレス機内を50℃以下まで冷却した後、圧力を開放して、プレス機から膜−カソード接合体を取り出した。
図11に示すように、剥離基材42を固体高分子電解質膜12の第2の面から剥離した。
気相成長炭素繊維(昭和電工社製、商品名:VGCF−H、繊維径約150nm、繊維長10〜20μm)の20gにエタノールの27gおよび蒸留水の153gを加え、よく撹拌した。これにイオン交換樹脂液(A)の140gを加え、よく撹拌し、さらにホモジナイザーを用いて混合、粉砕し、アノードカーボン層用塗工液(G)を調製した。
また、120mm×150mm×厚さ25μmのPENフィルムの中央部に、一辺が50mmの正方形の開口部を形成し、第2のフレーム16を作製した。
この際、第2のフレーム16が固体高分子電解質膜12の第2の面に接するように、固体高分子電解質膜12の周縁部に第2のフレーム16を配置した。
また、第2の触媒層24の表面が第2のフレーム16の内縁部に均等に接するように、かつ第2の触媒層24の表面が固体高分子電解質膜12の第2の面に接するように、第2の電極28を配置した。
該膜電極接合体について、例1と同様の条件にてセル電圧を測定した。剥離強度は例1と同様測定できなかった。結果を表1〜2に示す。
(工程(a))
例1と同様にして、剥離基材42の表面に固体高分子電解質膜12を形成した。
図8に示すように、固体高分子電解質膜12の第1の面の中央部に、アノード触媒層用塗工液(E)を、白金量が0.2mg/cm2 となるように、かつ正方形の一辺が55〜70mmとなるように、ダイコータを用いて塗工し、90℃の乾燥器内で5分間乾燥し、さらに120℃の乾燥器内で30分間乾燥し、第1の触媒層18(アノード触媒層)を形成し、膜−アノード触媒層接合体を得た。
例6と同様にして、アノード用ガス拡散層(R)を作製した。
また、120mm×150mm×厚さ25μmのPENフィルムの中央部に、一辺が50mmの正方形の開口部を形成し、第1のフレーム14を作製した。
この際、第1のフレーム14が固体高分子電解質膜12の第1の面に接するように、かつ第1のフレーム14の内縁部が第1の触媒層18に均等に接するように、固体高分子電解質膜12の周縁部に第1のフレーム14を配置した。
また、アノード用ガス拡散層(R)のカーボン層(図示略)が第1のフレーム14の内縁部に均等に接するように、かつ該カーボン層が第1の触媒層18の表面に接するように、アノード用ガス拡散層(R)を配置した。
プレス機内を50℃以下まで冷却した後、圧力を開放して、プレス機から膜−アノード接合体を取り出した。
図11に示すように、剥離基材42を固体高分子電解質膜12の第2の面から剥離した。
カーボン担体(比表面積250m2/g)に白金・コバルト合金(白金/コバルト=36/4(質量比))が40質量%担持された触媒(田中貴金属社製)の25gを蒸留水の322gに加え、超音波印加装置を用いて粉砕し、さらにエタノールの3gを加え、よく撹拌し、触媒液(B2)を調製した。
触媒液(B2)の全量に、イオン交換樹脂液(A)の150gを加え、よく撹拌し、固形分濃度8質量%のカソード触媒層用塗工液(C2)を調製した。
また、例6と同様にして、カソード用ガス拡散層(Q)を作製した。
また、120mm×150mm×厚さ25μmのPENフィルムの中央部に、一辺が50mmの正方形の開口部を形成し、第2のフレーム16を作製した。
この際、第2のフレーム16が固体高分子電解質膜12の第2の面に接するように、固体高分子電解質膜12の周縁部に第2のフレーム16を配置した。
また、第2の触媒層24の表面が第2のフレーム16の内縁部に均等に接するように、かつ第2の触媒層24の表面が固体高分子電解質膜12の第2の面に接するように、第2の電極28を配置した。
該膜電極接合体について、例1と同様の条件にてセル電圧を測定した。剥離強度は例1と同様測定できなかった。結果を表1〜2に示す。
第2のフレーム16を配置しなかった以外は、例1と同様にして膜電極接合体を得た。しかし、フレームが片側しかないため、固体高分子電解質膜の周縁部がカールし、安定して取り扱うことができなかった。
12 固体高分子電解質膜
14 第1のフレーム
16 第2のフレーム
18 第1の触媒層
20 第1のガス拡散層
22 第1の電極
24 第2の触媒層
26 第2のガス拡散層
28 第2の電極
32 膜電極接合体
34 膜電極接合体
36 膜電極接合体
38 膜電極接合体
40 膜電極接合体
42 剥離基材
Claims (7)
- イオン交換樹脂を含む固体高分子電解質膜と、
前記固体高分子電解質膜の第1の面に少なくとも一部が接するように、前記固体高分子電解質膜の周縁部に配置された第1のフレームと、
前記固体高分子電解質膜の第2の面に少なくとも一部が接するように、前記固体高分子電解質膜の周縁部に配置された第2のフレームと、
触媒およびイオン交換樹脂を含む第1の触媒層と第1のガス拡散層とを有し、かつ該第1の触媒層が前記固体高分子電解質膜の第1の面に接する第1の電極と、
触媒およびイオン交換樹脂を含む第2の触媒層と第2のガス拡散層とを有し、かつ該第2の触媒層が前記固体高分子電解質膜の第2の面に接する第2の電極とを備え、
前記第1のフレームの内縁部が、前記第1の触媒層と前記第1のガス拡散層との間に位置し、
前記第2のフレームの内縁部が、前記固体高分子電解質膜と前記第2の触媒層との間に位置する、固体高分子形燃料電池用膜電極接合体。 - 請求項1に記載の固体高分子形燃料電池用膜電極接合体の製造方法であって、
前記固体高分子電解質膜の第1の面に、触媒およびイオン交換樹脂を含む塗工液を塗工することにより前記第1の触媒層を形成した後、前記固体高分子電解質膜の周縁部に前記第1のフレームを配置する、固体高分子形燃料電池用膜電極接合体の製造方法。 - 下記工程(b)〜(d)、(f)、(g)を有する、請求項2に記載の固体高分子形燃料電池用膜電極接合体の製造方法。
(b)固体高分子電解質膜の第1の面に、触媒およびイオン交換樹脂を含む塗工液を塗工することにより第1の触媒層を形成する工程。
(c)前記工程(b)よりも後段にて、前記固体高分子電解質膜ならびに前記第1の触媒層と第1のフレームとを、該第1のフレームの少なくとも一部が前記固体高分子電解質膜の第1の面に接するように、かつ該第1のフレームの内縁部が前記第1の触媒層の表面に接するように、接合する工程。
(d)前記工程(c)と同時にまたは前記工程(c)よりも後段にて、前記第1の触媒層ならびに前記第1のフレームと第1のガス拡散層とを、該第1のガス拡散層が前記第1の触媒層の表面および前記第1のフレームの内縁部に接するように、接合する工程。
(f)前記工程(b)よりも後段にて、前記固体高分子電解質膜と第2のフレームとを、該第2のフレームの少なくとも一部が前記固体高分子電解質膜の第2の面に接するように、接合する工程。
(g)前記工程(f)と同時にまたは前記工程(f)よりも後段にて、前記固体高分子電解質膜ならびに前記第2のフレームと第2の電極とを、該第2の電極の第2の触媒層の表面が前記第2のフレームの内縁部および前記固体高分子電解質膜の第2の面に接するように、接合する工程。 - 下記工程(a)、(e)をさらに有する、請求項3に記載の固体高分子形燃料電池用膜電極接合体の製造方法。
(a)剥離基材の表面に、イオン交換樹脂を含む塗工液を塗工することにより固体高分子電解質膜を形成する工程。
(e)前記工程(b)よりも後段、かつ前記工程(f)よりも前段にて、前記剥離基材を前記固体高分子電解質膜の第2の面から剥離する工程。 - 前記工程(a)において、前記剥離基材の表面に前記塗工液を塗工した後、100〜250℃でアニール処理を行う、請求項4に記載の固体高分子形燃料電池用膜電極接合体の製造方法。
- 工程(a)、工程(b)、工程(c)、工程(d)、工程(e)、工程(f)、工程(g)の順に行う;または工程(a)、工程(b)を順に行い、ついで工程(c)および工程(d)を同時に行い、ついで工程(e)を行い、ついで工程(f)および工程(g)を同時に行う、請求項4または5に記載の固体高分子型燃料電池用膜電極接合体の製造方法。
- 前記工程(c)、(d)、(f)、(g)における接合を、ホットプレス法により行う、請求項3〜6のいずれかに記載の固体高分子形燃料電池用膜電極接合体の製造方法。
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