JP2009188405A - リソグラフィ装置およびキャリブレーション方法 - Google Patents
リソグラフィ装置およびキャリブレーション方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009188405A JP2009188405A JP2009021061A JP2009021061A JP2009188405A JP 2009188405 A JP2009188405 A JP 2009188405A JP 2009021061 A JP2009021061 A JP 2009021061A JP 2009021061 A JP2009021061 A JP 2009021061A JP 2009188405 A JP2009188405 A JP 2009188405A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- signal
- difference
- controller
- calibration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70516—Calibration of components of the microlithographic apparatus, e.g. light sources, addressable masks or detectors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70591—Testing optical components
- G03F7/706—Aberration measurement
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】ステージシステムのキャリブレーション方法は、セットポイント信号に応答してエンコーダグリッドに対してステージを移動させること、エンコーダグリッドと協働するセンサヘッドによってステージの位置を測定することを含む。ステージの位置はステージコントローラによって制御される。センサヘッドによって測定されたステージの位置とセットポイント信号の差を表す信号が登録される。この差を表す登録された信号に基づいてステージシステムが較正される。
【選択図】図2
Description
[0026] 1.ステップモードでは、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTすなわち「マスクサポート」および基板テーブルWTすなわち「基板サポート」は基本的に静止状態に保たれるが、一方で、放射ビームに与えられた全パターンは一度にターゲット部分Cに投影される(すなわち、単一静的露光)。次に、異なるターゲット部分Cが露光されるように、基板テーブルWTすなわち「基板サポート」はX方向および/またはY方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
[0027] 2.スキャンモードでは、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Cに投影されている間に、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTすなわち「マスクサポート」および基板テーブルWTすなわち「基板サポート」は同期してスキャンされる(すなわち、単一動的露光)。パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTすなわち「マスクサポート」に対する基板テーブルWTすなわち「基板サポート」の速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)および像反転特性によって決定されることがある。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光でのターゲット部分の(非スキャン方向の)幅が制限されるが、スキャン移動の長さによってターゲット部分の(スキャン方向の)縦幅が決定される。
[0028] 3.他のモードでは、パターニングデバイス(例えば、マスクテーブル)MTすなわち「マスクサポート」は、プログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に保たれ、そして基板テーブルWTすなわち「基板サポート」は、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Cに投影されている間、動かされるか、スキャンされる。このモードでは、一般に、パルス放射源が使用され、そしてプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTすなわち「基板サポート」の各移動の後で、またはスキャン中に連続した放射パルスの間で、必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及したような型のプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に応用することができる。
Claims (18)
- ステージシステムのキャリブレーション方法であって、
a)セットポイント信号に応答して、ステージをエンコーダグリッドに対して移動させることであって、前記ステージの位置がステージコントローラによって制御される、該移動させること、
b)前記移動中に、前記エンコーダグリッドと協働するセンサヘッドによって前記ステージの前記位置を測定すること、
c)前記センサヘッドによって測定された前記ステージの前記位置と前記セットポイント信号の差を表す信号を登録すること、および
d)前記差を表す前記登録された信号に基づいて前記ステージシステムを較正すること、を含むステージシステムのキャリブレーション方法。 - 前記ステージコントローラの帯域幅が、前記グリッド中の較正されるべき不規則が感知される速度に比べて小さい、請求項1に記載の方法。
- 前記エンコーダグリッドに対する前記ステージの少なくとも2つの異なる移動のためにa)〜c)を繰り返すこと、およびd)の前に、2次元フィルタを利用して前記差を表す前記登録された信号をフィルタ処理することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記フィルタが、較正されるべき空間周波数範囲内の空間帯域幅を備える、請求項3に記載の方法。
- d)の前に、較正されるべき空間周波数範囲内の空間帯域幅を利用して、前記差を表す前記登録された信号をフィルタ処理することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記エンコーダグリッドに対する前記ステージの異なる位置について、前記ステージを移動させることを繰り返すこと、
平均信号曲線を得るために、前記異なる位置についてc)で登録された前記信号を平均すること、および
前記差を表す前記登録された信号から前記平均信号曲線を引くこと、を含み、前記較正が前記引き算の結果に基づいて行われる、請求項1に記載の方法。 - c)で登録された前記信号のピークを比較することを含み、可能な変動パラメータが前記比較から得られ、前記変動パラメータが、前記差を表す前記登録された信号から引く前の前記平均信号曲線に利用される、請求項6に記載の方法。
- 前記ステージを一定速度に向けて加速するとき前記ステージコントローラの帯域幅を大きくし、さらに、a)の前記移動の一定速度への前記ステージの整定に近づくとき前記ステージコントローラの帯域幅を小さくすることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記エンコーダグリッドに対する前記ステージの複数の移動を行うことを含み、前記複数の移動は、速度、方向、前記ステージ移動の開始位置、前記ステージのロングストロークモータの開始位置、および前記移動の向きのうちの少なくとも1つが互いに異なり、前記複数の移動の各々の前記登録された信号が平均される、請求項1に記載の方法。
- 較正されるべき空間周波数範囲外の空間周波数範囲の誤差を学習するために繰返し学習制御を利用することを含む、請求項1に記載の方法。
- デュアルステージリソグラフィ装置のステージを取り換えた後で、前記エンコーダグリッドに対する前記ステージの前記移動を繰り返すことを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記移動が、一定速度移動部分および加速移動部分を含み、前記加速移動部分中の前記ステージの加速度が前記ステージコントローラの帯域幅に比べて遅い、請求項1に記載の方法。
- 前記ステージの同じ移動のためにa)〜d)を繰り返すことによって、繰返し較正が行われる、請求項1に記載の方法。
- 前記ステージの移動中に加速度計によって前記ステージの加速度を測定すること、前記測定された加速度から補正信号を得ること、および、前記較正の前に、前記補正信号を用いて前記セットポイント信号と前記ステージの前記位置の差を表す前記信号を補正することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ステージの移動中に、加速度計によって前記ステージの加速度を測定することを含み、加速度フィードバックが前記ステージコントローラに設けられる、請求項1に記載の方法。
- 前記ステージコントローラの帯域通過フィルタ処理された逆制御感度を前記セットポイント信号と前記ステージの前記位置の差を表す前記信号に掛けることを含み、前記掛け算の結果が前記較正のために利用される、請求項1に記載の方法。
- 可動ステージと、
エンコーダグリッドおよび前記エンコーダグリッドに対する前記ステージの位置を測定するセンサヘッドと、
コントローラであって、
a)セットポイント信号に応答して、前記エンコーダグリッドに対して前記可動ステージを位置付けし、
b)前記センサヘッドによって測定された前記可動ステージの位置と前記セットポイント信号の差を表す信号を登録し、さらに、
c)前記差を表す前記登録された信号に基づいてステージシステムを較正する、コントローラと、を備えるステージシステム。 - 放射ビームを調節する照明システムと、
前記放射ビームをパターニングしてパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを保持するパターニングデバイスサポートと、
基板を支持する基板サポートと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板上に投影する投影システムと、
前記サポートの1つを動かすステージシステムと
を備えるリソグラフィ装置であって、前記ステージシステムが、
a)前記サポートの1つを保持するための可動ステージと、
b)エンコーダグリッドおよび前記エンコーダグリッドに対する前記可動ステージの位置を測定するセンサヘッドと、
b)コントローラであって、
i)セットポイント信号に応答して、前記エンコーダグリッドに対して前記可動ステージを位置付けし、
ii)前記センサヘッドによって測定されるような前記可動ステージの位置と前記セットポイント信号の差を表す信号を登録し、さらに、
iii)前記差を表す前記登録された信号に基づいて前記ステージシステムを較正する、コントローラと
を含むリソグラフィ装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US697008P | 2008-02-08 | 2008-02-08 | |
US61/006,970 | 2008-02-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009188405A true JP2009188405A (ja) | 2009-08-20 |
JP5065313B2 JP5065313B2 (ja) | 2012-10-31 |
Family
ID=40976794
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009021061A Active JP5065313B2 (ja) | 2008-02-08 | 2009-02-02 | リソグラフィ装置およびキャリブレーション方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8248583B2 (ja) |
JP (1) | JP5065313B2 (ja) |
KR (1) | KR101031274B1 (ja) |
CN (1) | CN101504511B (ja) |
NL (1) | NL1036474A1 (ja) |
TW (1) | TWI422997B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009252986A (ja) * | 2008-04-04 | 2009-10-29 | Nikon Corp | 較正方法、露光方法及びデバイス製造方法、並びに露光装置 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL2007155A (en) * | 2010-08-25 | 2012-02-28 | Asml Netherlands Bv | Stage apparatus, lithographic apparatus and method of positioning an object table. |
JP6381184B2 (ja) * | 2013-07-09 | 2018-08-29 | キヤノン株式会社 | 校正方法、測定装置、露光装置および物品の製造方法 |
TWI620917B (zh) * | 2016-12-21 | 2018-04-11 | 財團法人金屬工業研究發展中心 | 線性運動平台之量測裝置 |
CN113029211B (zh) * | 2021-03-25 | 2021-11-19 | 浙江锐鹰传感技术有限公司 | 动子无线缆的高精度编码器实现方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05343282A (ja) * | 1991-06-04 | 1993-12-24 | Canon Inc | 半導体製造装置 |
JP2002151405A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-05-24 | Asm Lithography Bv | リトグラフィー投影装置 |
US6686991B1 (en) * | 2000-11-06 | 2004-02-03 | Nikon Corporation | Wafer stage assembly, servo control system, and method for operating the same |
JP2005284867A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Canon Inc | 駆動制御装置及び方法及び露光装置 |
US20050274878A1 (en) * | 2004-06-14 | 2005-12-15 | Andrew Goldman | Encoder scale error compensation employing comparison among multiple detectors |
JP2006054452A (ja) * | 2004-07-27 | 2006-02-23 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ機器及びそれを較正する方法 |
JP2007071874A (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-22 | Asml Netherlands Bv | 位置測定システムおよびリソグラフィ装置 |
WO2007083758A1 (ja) * | 2006-01-19 | 2007-07-26 | Nikon Corporation | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及びパターン形成装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW520469B (en) * | 2000-04-10 | 2003-02-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US7561270B2 (en) * | 2000-08-24 | 2009-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
EP1477861A1 (en) * | 2003-05-16 | 2004-11-17 | ASML Netherlands B.V. | A method of calibrating a lithographic apparatus, an alignment method, a computer program, a lithographic apparatus and a device manufacturing method |
US7408617B2 (en) * | 2005-06-24 | 2008-08-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a large area FPD chuck equipped with encoders an encoder scale calibration method |
WO2009013903A1 (ja) * | 2007-07-24 | 2009-01-29 | Nikon Corporation | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
US8218129B2 (en) * | 2007-08-24 | 2012-07-10 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, measuring method, and position measurement system |
-
2009
- 2009-01-28 NL NL1036474A patent/NL1036474A1/nl active Search and Examination
- 2009-02-02 JP JP2009021061A patent/JP5065313B2/ja active Active
- 2009-02-06 US US12/367,193 patent/US8248583B2/en active Active
- 2009-02-06 KR KR1020090009715A patent/KR101031274B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2009-02-06 CN CN2009100038154A patent/CN101504511B/zh active Active
- 2009-02-06 TW TW098103944A patent/TWI422997B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05343282A (ja) * | 1991-06-04 | 1993-12-24 | Canon Inc | 半導体製造装置 |
JP2002151405A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-05-24 | Asm Lithography Bv | リトグラフィー投影装置 |
JP2007180553A (ja) * | 2000-08-24 | 2007-07-12 | Asml Netherlands Bv | リトグラフィー投影装置の較正方法 |
US6686991B1 (en) * | 2000-11-06 | 2004-02-03 | Nikon Corporation | Wafer stage assembly, servo control system, and method for operating the same |
JP2005284867A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Canon Inc | 駆動制御装置及び方法及び露光装置 |
US20050274878A1 (en) * | 2004-06-14 | 2005-12-15 | Andrew Goldman | Encoder scale error compensation employing comparison among multiple detectors |
JP2006054452A (ja) * | 2004-07-27 | 2006-02-23 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ機器及びそれを較正する方法 |
JP2007071874A (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-22 | Asml Netherlands Bv | 位置測定システムおよびリソグラフィ装置 |
WO2007083758A1 (ja) * | 2006-01-19 | 2007-07-26 | Nikon Corporation | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及びパターン形成装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009252986A (ja) * | 2008-04-04 | 2009-10-29 | Nikon Corp | 較正方法、露光方法及びデバイス製造方法、並びに露光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101504511A (zh) | 2009-08-12 |
NL1036474A1 (nl) | 2009-08-11 |
TWI422997B (zh) | 2014-01-11 |
JP5065313B2 (ja) | 2012-10-31 |
CN101504511B (zh) | 2013-07-31 |
KR20090086347A (ko) | 2009-08-12 |
US8248583B2 (en) | 2012-08-21 |
TW200941161A (en) | 2009-10-01 |
KR101031274B1 (ko) | 2011-04-29 |
US20100007867A1 (en) | 2010-01-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4820354B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
KR101210975B1 (ko) | 스테이지 시스템 캘리브레이션 방법, 스테이지 시스템 및 이러한 스테이지 시스템을 포함한 리소그래피 장치 | |
TWI396054B (zh) | 微影裝置和感測器校準方法 | |
JP6014768B2 (ja) | エンコーダスケールの較正方法及びリソグラフィ装置 | |
JP6535103B2 (ja) | リソグラフィ装置及びリソグラフィ投影方法 | |
JP5144718B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5386463B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP2009231835A (ja) | エンコーダタイプの測定システム、リソグラフィ装置、およびエンコーダタイプの測定システムのグリッドもしくは回折格子上またはグリッドもしくは回折格子内のエラーを検出するための方法 | |
JP5355637B2 (ja) | 位置制御システム、リソグラフィ装置、及び可動オブジェクトの位置制御方法 | |
JP5065313B2 (ja) | リソグラフィ装置およびキャリブレーション方法 | |
JP5323140B2 (ja) | 測定システム、方法及びリソグラフィ装置 | |
JP2009060088A (ja) | 原信号中のノイズを低減する方法およびそのための信号処理デバイス | |
JP4340270B2 (ja) | リソグラフィ装置、パターニング組立体および汚染推定法 | |
JP4902685B2 (ja) | ステージシステム、当該ステージシステムを含むリソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2010087484A (ja) | デバイス製造方法、制御システム、コンピュータプログラムおよびコンピュータ可読媒体 | |
JP6915094B2 (ja) | セットポイントジェネレータ、リソグラフィ装置、リソグラフィ装置の操作方法、及びデバイス製造方法 | |
JP5145379B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090430 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110613 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110701 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120424 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120730 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120809 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5065313 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150817 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |