JP2009177463A - ポリフェーズフィルタ - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体集積回路中に構成したポリフェーズフィルタの抵抗素子及びキャパシタにバラツキが生じても、位相器として正確に90度位相差の信号を生成でき、イメージ除去フィルタとして用いた場合にはイメージ抑圧効果を改善できること。
【解決手段】複数の容量及び複数の抵抗で回路網を構成しているポリフェーズフィルタ35において、キャパシタC1、C2,C3,C4と抵抗素子R1,R2,R3,R4からなる素子群を複数備え、各キャパシタC1、C2,C3,C4を、下部電極1,4,6,8、上部電極2,5,7,9及び電極間に形成された絶縁層3で構成し、各素子群の上部電極2,5,7,9で同一素子群の抵抗素子R1,R2,R3,R4を形成し、当該上部電極2,5,7,9で形成された抵抗素子R1,R2,R3,R4の形状を信号の流れる方向の長さが幅方向に対して十分長くなるようにした。
【選択図】図1
【解決手段】複数の容量及び複数の抵抗で回路網を構成しているポリフェーズフィルタ35において、キャパシタC1、C2,C3,C4と抵抗素子R1,R2,R3,R4からなる素子群を複数備え、各キャパシタC1、C2,C3,C4を、下部電極1,4,6,8、上部電極2,5,7,9及び電極間に形成された絶縁層3で構成し、各素子群の上部電極2,5,7,9で同一素子群の抵抗素子R1,R2,R3,R4を形成し、当該上部電極2,5,7,9で形成された抵抗素子R1,R2,R3,R4の形状を信号の流れる方向の長さが幅方向に対して十分長くなるようにした。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体集積回路上に配置された抵抗と容量で構成されるポリフェーズフィルタに関する。
ポリフェーズフィルタは、無線受信機においてイメージ妨害波を抑圧するイメージ除去フィルタとして用いられ、また局部発振回路において90度位相の異なる発振信号を生成する位相器として用いられている(例えば、特許文献1参照)。
図6(a)は、半導体集積回路上に作成されたポリフェーズフィルタ(1段)のパターン構成を示す図であり、同図(b)は当該ポリフェーズフィルタの等価回路図である。このポリフェーズフィルタは、同じ容量値のキャパシタC1〜C4、同じ抵抗値の抵抗素子R1〜R4を備え、該抵抗素子R1〜R4と該キャパシタC1−C4を交互にループ形状に接続したRCネットワークからなるものである。C4とR4の共通接続点を21、C3とR3の共通接続点を22、C2とR2の共通接続点を23、C1とR1の共通接続点を24とし、R4とC3の共通接続点を25、R3とC2の共通接続点を26、R2とC1の共通接続点を27、R1とC4の共通接続点を28とし、共通接続点21、22と共通接続点23、24との間に差動信号(−cos(ωt)、cos(ωt))を入力することで、共通接続点25〜28に90度ずつ位相の異なる直交信号を得るように構成されている。すなわち、共通接続点25と27の間に第1の差動出力信号(−sin(ωt+θ)、sin(ωt+θ))が、共通接続点26と28の間に第2の差動出力信号(−cos(ωt+θ)、cos(ωt+θ))が得られ、第1の差動出力信号と第2の差動出力信号は直交関係にある。
図6(a)に示すように、従来のポリフェーズフィルタは、各部品の配線長を短くするため抵抗素子及びキャパシタを交互に配置するのが一般的であった。ところが、同一基板でも製造プロセスの製造条件のバラツキにより抵抗値及び容量値にバラツキが生じるので、そのバラツキに起因してポリフェーズフィルタの周波数特性が設計値と異なってしまう問題があった。
特許文献1では、図7に示すようにポリフェーズフィルタの1段目の4個の抵抗R1〜R4を縦方向に近接させて配置し、同様に1段目の4個のキャパシタC1〜C4もそれぞれ近接して配置することで、抵抗値及び容量値のバラツキを小さくしていた。これは、抵抗やキャパシタを形成する場合、酸化膜生成、イオン注入、エッチングなどにおいて、同種の部品であれば近傍に配置されているものほど、膜厚、不純物濃度、エッチングなどのバラツキが小さくなるといった経験によっている。図7に示す例では、2段目、3段目についても同様に抵抗R11〜R14、R21〜R24を縦方向に近接させて配置し、キャパシタC11〜C14、C21〜C24もそれぞれ近接して配置している。
特開2005−268569号公報
しかしながら、特許文献1記載のように抵抗素子及びキャパシタをそれぞれ近接配置するレイアウトでは、各部品の膜厚、不純物濃度等のバラツキはある程度抑制できるが、抵抗素子及びキャパシタの形状のバラツキまでは抑え込むことは困難であった。特に、抵抗のパターニングでの抵抗素子幅のバラツキは抑え込むことが困難であり、ポリフェーズフィルタの周波数特性に大きな影響を与えていた。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、半導体集積回路中に形成した抵抗素子及びキャパシタにバラツキが生じても、位相器として正確に90度位相差の信号を生成でき、イメージ除去フィルタとして用いた場合にはイメージ抑圧効果の改善を図ることのできるポリフェーズフィルタを提供することを目的とする。
本発明のポリフェーズフィルタは、複数の容量及び複数の抵抗で回路網を構成しているポリフェーズフィルタにおいて、キャパシタと抵抗素子からなる素子群を複数備え、前記各キャパシタを、下部電極、上部電極及び前記電極間に形成された絶縁層で構成し、前記各素子群の上部電極で同一素子群の抵抗素子を形成し、当該上部電極で形成された抵抗素子の形状を信号の流れる方向の長さが幅方向に対して十分長くなるようにしたことを特徴とする。
この構成によれば、下部電極、上部電極及び絶縁層で構成されるキャパシタの上部電極で同一素子群の抵抗素子を形成したので、抵抗素子の幅方向のバラツキに起因して抵抗素子のインピーダンスが変化しても、当該抵抗素子はキャパシタの上部電極を兼ねるのでキャパシタのインピーダンスが同一方向に変化することとなり、抵抗素子とキャパシタを同じインピーダンスに保つことができる。たとえば、抵抗素子の幅方向のバラツキで抵抗値がある大きさだけ小さくなった場合、同じ割合でキャパシタの容量値も大きくなり、希望周波数での抵抗素子とキャパシタのインピーダンスが等しくなる。抵抗素子の幅方向のバラツキは抵抗値と容量値のバランスを常に同じに保つ方向に働くので、抵抗素子の長さを十分に確保していれば、素子のバラツキによる周波数特性の変動は防止することができる。
また本発明は、上記ポリフェーズフィルタにおいて、前記上部電極がミアンダ形状であることを特徴とする。
この構成により、上部電極をミアンダ形状としたので、上部電極で形成される抵抗素子の信号が流れる方向の長さを限られた空間において十分に確保することができる。
上記ポリフェーズフィルタにおいて、抵抗素子として機能させるキャパシタの上部電極はポリシリコンで構成することができる。
また本発明は、上記ポリフェーズフィルタにおいて、前記複数の素子群は、一段分の回路網を構成する第1の素子群から第4の素子群を有し、前記第1の素子群の抵抗素子の入力端を、当該第1の素子群のキャパシタを介して前記第2の素子群の抵抗素子の出力端に接続し、前記第2の素子群の抵抗素子の入力端を、当該第2の素子群のキャパシタを介して前記第3の素子群の抵抗素子の出力端に接続し、前記第3の素子群の抵抗素子の入力端を、当該第3の素子群のキャパシタを介して前記第4の素子群の抵抗素子の出力端に接続し、前記第4の素子群の抵抗素子の入力端を、当該第4の素子群のキャパシタを介して前記第1の素子群の抵抗素子の出力端に接続したことを特徴とする。
この構成により、4入力4出力の1段構成のポリフェーズフィルタを実現することができる。
また本発明は、上記ポリフェーズフィルタにおいて、前記第1の素子群の抵抗素子の入力端に、周波数変換後のIF信号のうち同相成分のI信号を入力し、前記第2の素子群の抵抗素子の入力端に、周波数変換後のIF信号のうち直交成分のQ信号を入力し、前記第3の素子群の抵抗素子の入力端に、前記I信号から180度位相を異ならせた反転I信号を入力し、前記第4の素子群の抵抗素子の入力端に、前記Q信号から180度位相を異ならせた反転Q信号を入力し、前記第1から第4の素子群の出力端で信号合成することで、希望波と同一周波数のIF信号に周波数変換されるイメージ信号を除去することを特徴とする。
この構成により、4入力4出力の1段構成のポリフェーズフィルタで希望波と同一周波数のIF信号に周波数変換されるイメージ信号を除去することができる。
本発明によれば、半導体集積回路中に構成したポリフェーズフィルタの抵抗素子及びキャパシタにバラツキが生じても、位相器として正確に90度位相差の信号を生成でき、イメージ除去フィルタとして用いた場合にはイメージ抑圧効果の改善を図ることができる。
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は一実施の形態に係るポリフェーズフィルタのパターンレイアウトを示す図であり、図6(a)に示す回路構成と同じ等価回路となっている。半導体集積回路基板上に4つのキャパシタC1〜C4が隣接して形成されている。図2はキャパシタC1のA−A線矢視断面図である。キャパシタC1は、図示していない回路基板上に金属材料にて形成された下部電極1と、ミアンダ形状を有する上部電極2と、両電極間に形成された絶縁層3とで構成されている。上部電極2は、キャパシタC1の一方の電極として機能すると共に抵抗素子R1として機能する。キャパシタ電極として機能すると共に抵抗素子として機能する材料としてポリシリコンを用いている。他のキャパシタC2、C3、C4も上記キャパシタC1と同様に構成されている。すなわち、キャパシタC2、C3、C4は、下部電極4,6,8と、上部電極5,7,9と、両電極に挟まれた図示していない絶縁層とでそれぞれ構成されており、上部電極5,7,9が抵抗素子R2,R3,R4を構成している。キャパシタC1、C2、C3、C4と、それらの上部電極を構成する抵抗素子R1、R2、R3、R4とで第1〜第4の素子群を構成している。
図1は一実施の形態に係るポリフェーズフィルタのパターンレイアウトを示す図であり、図6(a)に示す回路構成と同じ等価回路となっている。半導体集積回路基板上に4つのキャパシタC1〜C4が隣接して形成されている。図2はキャパシタC1のA−A線矢視断面図である。キャパシタC1は、図示していない回路基板上に金属材料にて形成された下部電極1と、ミアンダ形状を有する上部電極2と、両電極間に形成された絶縁層3とで構成されている。上部電極2は、キャパシタC1の一方の電極として機能すると共に抵抗素子R1として機能する。キャパシタ電極として機能すると共に抵抗素子として機能する材料としてポリシリコンを用いている。他のキャパシタC2、C3、C4も上記キャパシタC1と同様に構成されている。すなわち、キャパシタC2、C3、C4は、下部電極4,6,8と、上部電極5,7,9と、両電極に挟まれた図示していない絶縁層とでそれぞれ構成されており、上部電極5,7,9が抵抗素子R2,R3,R4を構成している。キャパシタC1、C2、C3、C4と、それらの上部電極を構成する抵抗素子R1、R2、R3、R4とで第1〜第4の素子群を構成している。
キャパシタC1〜C4は、上部電極2,5,7,9の左端に位置する一端部に伝送ラインを構成するパターン11a,12a,13a,14aが形成されている。上部電極2,5,7,9の右端に位置する他端部に伝送ラインを構成するパターン11b,12b,13b,14bが形成されている。図1において1段目のキャパシタC1の下部電極1と2段目のキャパシタC2の上部電極5の他端部(パターン12b)とを接続するパターン11cが形成されている。パターン11cと12bとの連結点が、図6(a)における共通接続点27となる。2段目のキャパシタC2の下部電極4と3段目のキャパシタC3の上部電極7の他端部(パターン13b)とを接続するパターン12cが形成されている。パターン12cと13bとの連結点が、図6(a)における共通接続点26となる。3段目のキャパシタC3の下部電極6と4段目のキャパシタC4の上部電極9の他端部(パターン14b)とを接続するパターン13cが形成されている。パターン13cと14bとの連結点が、図6(a)における共通接続点25となる。4段目のキャパシタC4の下部電極9と1段目のキャパシタC1の上部電極2の他端部(パターン11b)とを接続するパターン14cが形成されている。パターン11bと14cとの連結点が、図6(a)における共通接続点28となる。
以上のように構成されたポリフェーズフィルタを既知の製造プロセスで作製した場合、キャパシタC1〜C4の容量値及び抵抗素子R1〜R4の抵抗値のそれぞれでバラツキが生じる。特に、抵抗のパターニングで抵抗素子の幅がばらつくために容量値よりも抵抗値のバラツキが大きくなる。抵抗素子の抵抗値が設計値よりも小さくなった場合、同じ割合でキャパシタの容量値が大きくなれば、インピーダンスは設計値と等しくなる。
本実施の形態のように、キャパシタの上部電極を抵抗素子として一体で形成した場合、容量値は上部電極の面積で決まり、抵抗値は上部電極の長さ及び幅で決まるので、キャパシタと抵抗素子のインピーダンスのバラツキが同一方向(容量大なら抵抗小、容量小なら抵抗大)になり、相対的な位相の変化のバラツキが小さくなる。したがって、抵抗素子の長さを十分にとれば、抵抗素子の電流が流れる方向の寸法誤差は無視でき、素子バラツキによって発生するインピーダンス変化を防止することができる。抵抗素子の電流が流れる方向の長さを幅方向に比べて十分大きくするためには、ミアンダ形状以外の構造を採用することもできる。
図3は上部電極を抵抗素子として一体で形成したキャパシタ(C1)を、集中定数近似した回路モデルである。図1における上部電極2の入力端子がポートP1に相当し、出力端子がポートP2に相当する。下部電極1はポートP3に接続された下側ラインが相当する。抵抗R01〜R08は抵抗素子2の長手方向の抵抗分布を集中定数近似し、容量C01〜C08はキャパシタC1の抵抗素子2長手方向に沿った容量分布を集中定数近似している。
上記集中定数近似モデルを用いて図1に示すポリフェーズフィルタのイメージ除去性能についてシミュレーションした。
図4(a)は容量及び抵抗のバラツキを0%に設定したシミュレーション結果を示す図である。図1に示すポリフェーズフィルタの周波数特性を太線で示し、比較例として図6(a)に示す従来回路(ポリフェーズフィルタ)の周波数特性を細線で示す。容量及び抵抗のバラツキが無い状態(0%)では本実施の形態及び従来回路共に70dB以上の十分なイメージ減衰量を実現している。
図4(b)は容量及び抵抗のバラツキを1%に設定したシミュレーション結果を示し、図4(c)はバラツキを10%に設定したシミュレーション結果を示している。従来回路は容量及び抵抗のバラツキが大きくなるのに従ってイメージ減衰量が大幅に低下しているが、本実施の形態では10%のバラツキでも50dB程度のイメージ減衰量を達成できていることが判る。
図5は3段のポリフェーズフィルタをイメージ除去フィルタに用いたLow-IF受信機の構成図である。同図に示すLow-IF受信機は、図示していないアンテナで受信されたRF(Radio Frequency)帯の受信信号を、LNA(Low Noise Amplifier)31に入力して増幅してからミキサ32,33に入力する。I側となる一方のミキサ32に対して局部発振信号cos(ωct)が直接入力し、Q側となる他方のミキサ33に対して局部発振信号cos(ωct)を位相器34で90度位相を異ならせた局部発振信号sin(ωct))が入力する。その結果、ミキサ32、33において直流付近の低いIF周波数に周波数変換され、I側のミキサ32からcos(ωc−ωr)tが出力され、Q側のミキサ33からsin(ωc−ωr)tが出力される。なお、図5のLow-IF受信機ではI信号、Q信号が差動信号で構成されているので、I_INに対してI_B_INは180度位相が異なり、Q_INに対してQ_B_INは180度位相が異なっている。
ポリフェーズフィルタ35は、各段の構成が上記図1及び図2に示す構造を有している。I_INとI_B_INとはI信号の差動入力であり、I_OUTとI_B_OUTとはI信号の差動出力となる。また、Q_INとQ_B_INとはQ信号の差動入力であり、Q_OUTとQ_B_OUTとはQ信号の差動出力である。ポリフェーズフィルタ35では、Q_OUT端子においてI_INからの出力が90度遅れて入力され、Q_INからの入力と合成される。この結果、Q出力は希望波ωr(=ωc+ωs)とイメージ信号ωr´(=ωc−ωs)とで位相が反転する。したがって、希望波ωr(=ωc+ωs)に対してI出力はcos(ωst)、Q出力はsin(ωst)となるので、信号が加算されて大きな信号として出力される。一方、イメージ信号ωr´(=ωc−ωs)に対してI出力はcos(ωst)、Q出力は−sin(ωst)となるので、信号が減算されてイメージ信号が抑圧される。キャパシタCのリアクタンスがωsにおいて抵抗素子Rの抵抗値と等しいように設定されていれば、イメージ信号は出力されないことになる。
ポリフェーズフィルタ35でイメージ信号を除去し、ローパスフィルタ36で高調波成分を除去した希望波ωr(=ωc+ωs)のIF信号がIFアンプ37で増幅されて出力される。
このように、縦接続された3段のポリフェーズフィルタ35のキャパシタ及び抵抗素子を図1及び図2に示すように一体形成することにより、素子のバラツキによらず正確に位相を反転させてイメージ信号を確実に除去することができる。
なお、図5ではポリフェーズフィルタ35をLow-IF受信機のイメージ除去フィルタに用いた例を説明したが、本発明は上記用途に限定されるものでは無く90度位相を回転させる用途であれば位相器等の他の用途に適用可能である。
本発明は、無線受信機におけるイメージ除去フィルタ又は局部発振回路において90度位相の異なる発振信号を生成する位相器に適用可能である。
C1〜C4…キャパシタ
R1、R2、R3、R4…抵抗素子
1,4,6,8…下部電極
2,5,7,9…上部電極
3…絶縁層
11a,12a,13a,14a…パターン(抵抗素子入力側)
11b,12b,13b,14b…パターン(抵抗素子出力側)
31…LNA
32、33…ミキサ
34…位相器
35…ポリフェーズフィルタ
36…ローパスフィルタ
37…IFアンプ
R1、R2、R3、R4…抵抗素子
1,4,6,8…下部電極
2,5,7,9…上部電極
3…絶縁層
11a,12a,13a,14a…パターン(抵抗素子入力側)
11b,12b,13b,14b…パターン(抵抗素子出力側)
31…LNA
32、33…ミキサ
34…位相器
35…ポリフェーズフィルタ
36…ローパスフィルタ
37…IFアンプ
Claims (5)
- 複数の容量及び複数の抵抗で回路網を構成してなるポリフェーズフィルタにおいて、
キャパシタと抵抗素子からなる素子群を複数備え、
前記各キャパシタを、下部電極、上部電極及び前記電極間に形成された絶縁層で構成し、前記各素子群の上部電極で同一素子群の抵抗素子を形成し、当該上部電極で形成された抵抗素子の形状を信号の流れる方向の長さが幅方向に対して十分長くなるようにしたことを特徴とするポリフェーズフィルタ。 - 前記上部電極がミアンダ形状であることを特徴とする請求項1記載のポリフェーズフィルタ。
- 前記上部電極をポリシリコン製の電極で構成したことを特徴とする請求項1又は請求項2記載のポリフェーズフィルタ。
- 前記複数の素子群は、一段分の回路網を構成する第1の素子群から第4の素子群を有し、
前記第1の素子群の抵抗素子の入力端を、当該第1の素子群のキャパシタを介して前記第2の素子群の抵抗素子の出力端に接続し、
前記第2の素子群の抵抗素子の入力端を、当該第2の素子群のキャパシタを介して前記第3の素子群の抵抗素子の出力端に接続し、
前記第3の素子群の抵抗素子の入力端を、当該第3の素子群のキャパシタを介して前記第4の素子群の抵抗素子の出力端に接続し、
前記第4の素子群の抵抗素子の入力端を、当該第4の素子群のキャパシタを介して前記第1の素子群の抵抗素子の出力端に接続したことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のポリフェーズフィルタ。 - 前記第1の素子群の抵抗素子の入力端に、周波数変換後のIF信号のうち同相成分のI信号を入力し、
前記第2の素子群の抵抗素子の入力端に、周波数変換後のIF信号のうち直交成分のQ信号を入力し、
前記第3の素子群の抵抗素子の入力端に、前記I信号から180度位相を異ならせた反転I信号を入力し、
前記第4の素子群の抵抗素子の入力端に、前記Q信号から180度位相を異ならせた反転Q信号を入力し、
前記第1から第4の素子群の出力端で信号合成することで、希望波と同一周波数のIF信号に周波数変換されるイメージ信号を除去することを特徴とする請求項4記載のポリフェーズフィルタ。
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