JP2009177189A - Ito膜用のエッチング液組成物、および、それを利用したito膜のエッチング方法 - Google Patents
Ito膜用のエッチング液組成物、および、それを利用したito膜のエッチング方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】ITO透明導電膜用のエッチング液組成物であって、エッチング液組成物総質量に対して、a)硫酸4〜10質量%、b)硝酸2.5〜6.0質量%、c)エッチング調整剤0.5〜5質量%および組成物総質量を100質量%にする量の水を含むエッチング液組成物を提供する。これにより、TFT−LCDをはじめとする、ITO膜を利用する表示装置などの電子部品製造の生産性を顕著に向上させ、硫酸のような安価でかつ高安定性の成分を活用して工程時間におけるエッチング液の組成変化を抑え、生産コストを低減させることが可能となる。
【選択図】図1
Description
本発明の実施形態に係るエッチング液組成物は、エッチング液組成物総質量に対して、a)硫酸4〜10質量%、b)硝酸2.5〜6.0質量%、c)エッチング調整剤0.5〜5質量%および組成物総質量を100質量%にする量の水を含む。
エッチング調整剤とは、エッチング液内で容易に解離される物質であって、電解質効果をさらに極大化させ、フォトレジストと金属膜との間の凝着力を減少させ、非晶質ITOで優秀なエッチング効果を示すように作用する。
前記製造した実施例および本発明者が想定した比較例1〜3のエッチング液に対して、ITO透明導電膜に対するそのエッチング能力を比較した。エッチング速度の測定結果は、下記表2に現れており、図1ないし4は、それぞれ実施例および本発明者が想定した比較例1〜3のエッチング液を使用してエッチングを終えたITO透明導電膜を電子顕微鏡で観察した写真である。
Claims (6)
- エッチング液組成物総質量に対して、硫酸4〜10質量%、硝酸2.5〜6.0質量%、エッチング調整剤0.5〜5質量%および組成物総質量が100質量%にする量の水を含むことを特徴とするエッチング液組成物。
- 前記エッチング調整剤は、KNO3、CH3COOK、KHSO4、KH2PO4、K2SO4、K2HPO4またはK3PO4であることを特徴とする請求項1に記載のエッチング液組成物。
- 前記エッチング調整剤は、KNO3またはCH3COOKであることを特徴とする請求項2に記載のエッチング液組成物。
- TFT−LCD画素表示電極の製造におけるITO膜のエッチング方法であって、
エッチング液組成物総質量に対して、硫酸4〜10質量%、硝酸2.5〜6.0質量%、エッチング調整剤0.5〜5質量%および組成物総質量を100質量%にする量の水を含むエッチング液組成物を利用して酸化インジウム錫膜をエッチングする段階を含むことを特徴とするITO膜のエッチング方法。 - 前記エッチング調整剤は、KNO3、CH3COOK、KHSO4、KH2PO4、K2SO4、K2HPO4またはK3PO4であることを特徴とする請求項4に記載のITO膜のエッチング方法。
- 前記エッチング調整剤は、KNO3またはCH3COOKであることを特徴とする請求項5に記載のITO膜のエッチング方法。
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