CN116540792B - 一种草酸系ito蚀刻液制备的流量自动化控制方法及系统 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及蚀刻液制备技术领域，揭露了一种草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法及系统，包括：根据ITO蚀刻液需求量计算溶液制备需求量，将氨水排至添加剂超纯水中并与添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液，根据温度预警值及有机酸需求量计算有机酸目标流量，利用排放调节阀、有机酸目标流量及有机酸需求量将有机酸排放至所述氨水稀释液搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂，将超纯水排放至蚀刻液搅拌槽内，得到蚀刻液超纯水，将草酸排放至蚀刻液超纯水内并将蚀刻液添加剂排放至所述蚀刻液搅拌槽内搅拌均匀，得到草酸系ITO蚀刻液。
Description
技术领域
本发明涉及一种草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法及系统，属于蚀刻液制备技术领域。
背景技术
氧化锡铟（ITO）是一种置换固溶体，由于其优良的物理性能，主要被用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器及触摸屏等设备。氧化锡铟薄膜通常是利用物理气相沉积或一些溅射沉积等技术进行沉积。
氧化锡铟在进行利用时，通常需要进行蚀刻，蚀刻液可以为兼容性蚀刻液、醋酸性蚀刻液以及草酸性蚀刻液等等。其中草酸性蚀刻液主要是通过草酸、蚀刻液添加剂及超纯水进行混合搅拌得到，在配置蚀刻液添加剂时往往只是简单的将有机酸，例如：正己酸与氨水以及超纯水进行混合制备，但蚀刻液添加剂的制备过程并未结合放热反应考虑正己酸的添加流量速度，因此当前在制备草酸系ITO蚀刻液的过程中，存在溶液流量未得到精准化控制，未能合理控制配置温度的问题。
发明内容
本发明提供一种草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法、系统及计算机可读存储介质，其主要目的在于解决在制备草酸系ITO蚀刻液的过程中，存在溶液流量未得到精准化控制，未能合理控制配置温度的问题。
为实现上述目的，本发明提供的一种草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法，包括：
接收ITO蚀刻液制备指令，根据所述ITO蚀刻液制备指令启动ITO蚀刻液制备设备，其中所述ITO蚀刻液制备设备包括：氨水储存槽、超纯水储存槽、有机酸储存槽、添加剂搅拌槽、草酸储存槽及蚀刻液搅拌槽；
在所述ITO蚀刻液制备指令中提取ITO蚀刻液需求量，根据所述ITO蚀刻液需求量计算各预设溶液的溶液制备需求量，其中所述溶液制备需求量包括：氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量、草酸需求量及蚀刻液超纯水需求量；
根据所述添加剂超纯水需求量将所述超纯水储存槽中的超纯水排放至所述添加剂搅拌槽，得到添加剂超纯水；
根据所述氨水需求量将所述氨水储存槽内的氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液；
根据预设的温度预警值及所述有机酸需求量，利用预构建的有机酸流量调节公式计算有机酸目标流量，其中所述有机酸流量调节公式，如下所示：
其中，表示温度预警值，/>表示加热系数，/>表示有机酸需求量，/>表示有机酸目标流量，/>表示散热速度，/>表示所述添加剂搅拌槽内的初始温度，/>表示散热系数，/>表示所述添加剂搅拌槽内的表面积，/>表示槽外温度，/>表示混合比热容，表示氨水需求量；
利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；
根据所述蚀刻液超纯水需求量将超纯水储存槽内的超纯水排放至所述蚀刻液搅拌槽内，得到蚀刻液超纯水；
根据草酸需求量将所述草酸储存槽内的草酸排放至所述蚀刻液超纯水内并将所述蚀刻液添加剂排放至所述蚀刻液搅拌槽内搅拌均匀，得到草酸系ITO蚀刻液，完成草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制。
可选地，所述根据所述ITO蚀刻液需求量计算各预设溶液的溶液制备需求量，包括：
根据预构建的草酸需求量公式，利用所述ITO蚀刻液需求量计算草酸需求量；
根据所述草酸需求量，利用预构建的添加剂需求量公式计算蚀刻液的添加剂需求量；
根据所述ITO蚀刻液需求量、草酸需求量及添加剂需求量，计算蚀刻液超纯水需求量；
根据所述添加剂需求量计算氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量。
可选地，所述草酸需求量公式，如下所示：
其中，表示草酸需求量，/>表示ITO蚀刻液需求量，/>表示草酸质量百分比。
可选地，所述添加剂需求量公式，如下所示：
其中，表示添加剂需求量，/>表示草酸添加剂配比系数。
可选地，所述根据所述添加剂需求量计算氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量，包括：
利用预设的氨水质量百分比，根据所述添加剂需求量计算氨水需求量；
利用预设的超纯水质量百分比，根据所述添加剂需求量计算添加剂超纯水需求量；
根据预设的有机酸质量百分比，利用所述添加剂需求量计算有机酸需求量。
可选地，所述根据所述氨水需求量将所述氨水储存槽内的氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液，包括：
根据预设的单次氨水排放量将所述氨水需求量分批次，得到氨水待排放量序列；
在所述氨水待排放量序列中依次提取待排放批次氨水，根据预设的时间间隔将所述待排放批次氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液。
可选地，所述利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂，包括：
获取所述有机酸储存槽内的有机酸当前存量，根据所述有机酸当前存量计算当前最大流量；
判断所述当前最大流量是否大于等于所述有机酸目标流量；
若所述当前最大流量大于等于所述有机酸目标流量，则调控所述排放调节阀的阀芯位移，直至所述有机酸储存槽内的有机酸流量等于所述有机酸目标流量并实时获取有机酸当前排放量；
判断所述有机酸当前排放量是否等于所述有机酸需求量；
若所述有机酸当前排放量不等于所述有机酸需求量，则返回上述获取所述有机酸储存槽内的有机酸当前存量的步骤；
若所述有机酸当前排放量等于所述有机酸需求量，则关闭所述排放调节阀并将所述有机酸储存槽内的有机酸与所述氨水稀释液搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；
若所述当前最大流量不大于等于所述有机酸目标流量，则根据所述当前最大流量及所述有机酸目标流量计算需求压力；
判断所述需求压力是否大于所述有机酸储存槽的最大承受压力；
若所述需求压力大于所述有机酸储存槽的最大承受压力，则按照所述最大承受压力对所述有机酸储存槽内进行加压并实时获取有机酸当前排放量，直至所述有机酸储存槽内的有机酸当前排放量等于所述有机酸需求量，则关闭所述排放调节阀并将所述有机酸储存槽内的有机酸与所述氨水稀释液搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；
若所述需求压力不大于所述有机酸储存槽的最大承受压力，则根据所述需求压力，对所述有机酸储存槽内进行加压，直至所述有机酸储存槽内的有机酸流量等于所述有机酸目标流量并实时获取有机酸当前排放量；
判断所述有机酸当前排放量是否等于所述有机酸需求量；
若所述有机酸当前排放量不等于所述有机酸需求量，则返回上述获取所述有机酸储存槽内的有机酸当前存量的步骤；
若所述有机酸当前排放量等于所述有机酸需求量，则关闭所述排放调节阀并将所述有机酸储存槽内的有机酸与所述氨水稀释液搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂。
可选地，所述根据所述当前最大流量及所述有机酸目标流量计算需求压力，包括：
根据所述当前最大流量及所述有机酸目标流量计算目标流量差值；
根据所述有机酸储存槽内的有机酸当前存量计算所述有机酸液面面积；
根据所述有机酸液面面积及所述目标流量差值，利用预构建的压力流量公式计算需求压力。
可选地，所述压力流量公式，如下所示：
其中，表示需求压力，/>表示流量压力转换系数，/>表示目标流量差值，/>表示有机酸液面面积。
为了解决上述问题，本发明还提供一种草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制系统，所述系统包括：
溶液制备需求量计算模块，用于接收ITO蚀刻液制备指令，根据所述ITO蚀刻液制备指令启动ITO蚀刻液制备设备，其中所述ITO蚀刻液制备设备包括：氨水储存槽、超纯水储存槽、有机酸储存槽、添加剂搅拌槽、草酸储存槽及蚀刻液搅拌槽；在所述ITO蚀刻液制备指令中提取ITO蚀刻液需求量，根据所述ITO蚀刻液需求量计算各预设溶液的溶液制备需求量，其中所述溶液制备需求量包括：氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量、草酸需求量及蚀刻液超纯水需求量；
氨水稀释液混合模块，用于根据所述添加剂超纯水需求量将所述超纯水储存槽中的超纯水排放至所述添加剂搅拌槽，得到添加剂超纯水；根据所述氨水需求量将所述氨水储存槽内的氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液；
有机酸排放模块，用于根据预设的温度预警值及所述有机酸需求量，利用预构建的有机酸流量调节公式计算有机酸目标流量，其中所述有机酸流量调节公式，如下所示：
其中，表示温度预警值，/>表示加热系数，/>表示有机酸需求量，/>表示有机酸目标流量，/>表示散热速度，/>表示所述添加剂搅拌槽内的初始温度，/>表示散热系数，/>表示所述添加剂搅拌槽内的表面积，/>表示槽外温度，/>表示混合比热容，表示氨水需求量；利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；
ITO蚀刻液搅拌模块，用于利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；根据所述蚀刻液超纯水需求量将超纯水储存槽内的超纯水排放至所述蚀刻液搅拌槽内，得到蚀刻液超纯水；根据草酸需求量将所述草酸储存槽内的草酸排放至所述蚀刻液超纯水内并将所述蚀刻液添加剂排放至所述蚀刻液搅拌槽内搅拌均匀，得到草酸系ITO蚀刻液，完成草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制。
为了解决上述问题，本发明还提供一种电子设备，所述电子设备包括：
至少一个处理器；以及，
与所述至少一个处理器通信连接的存储器；其中，
所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令，所述指令被所述至少一个处理器执行，以实现上述所述的用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法。
为了解决上述问题，本发明还提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质中存储有至少一个指令，所述至少一个指令被电子设备中的处理器执行以实现上述所述的用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法。
相比于背景技术所述问题，本发明实施例在实现草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制时，首先需要接收ITO蚀刻液制备指令，根据所述ITO蚀刻液制备指令启动ITO蚀刻液制备设备，其中所述ITO蚀刻液制备设备包括：氨水储存槽、超纯水储存槽、有机酸储存槽、添加剂搅拌槽、草酸储存槽及蚀刻液搅拌槽，在启动所述ITO蚀刻液制备，需要知道ITO蚀刻液需求量，由于ITO蚀刻液需求量与各预设溶液的溶液制备需求量有着固定的关系，因此根据所述ITO蚀刻液需求量即可计算氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量、草酸需求量及蚀刻液超纯水需求量，在得到各预设溶液的溶液制备需求量后，需要先制备氨水稀释液，首先需要根据所述添加剂超纯水需求量将所述超纯水储存槽中的超纯水排放至所述添加剂搅拌槽，得到添加剂超纯水，再根据所述氨水需求量将所述氨水储存槽内的氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液，然后需要将有机酸排放至所述氨水稀释液中，在排放过程中，需要根据预设的温度预警值及所述有机酸需求量，利用预构建的有机酸流量调节公式计算有机酸目标流量，此时即可利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂，当完成蚀刻液添加剂的制备后，即可根据所述蚀刻液超纯水需求量将超纯水储存槽内的超纯水排放至所述蚀刻液搅拌槽内，得到蚀刻液超纯水，根据草酸需求量将所述草酸储存槽内的草酸排放至所述蚀刻液超纯水内并将所述蚀刻液添加剂排放至所述蚀刻液搅拌槽内搅拌均匀，得到草酸系ITO蚀刻液。因此本发明提出的用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法、系统、电子设备及计算机可读存储介质，其主要目的在于解决在制备草酸系ITO蚀刻液的过程中，存在溶液流量未得到精准化控制，未能合理控制配置温度的问题。
附图说明
图1为本发明一实施例提供的用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法的流程示意图；
图2为图1中其中一个步骤的详细实施流程示意图；
图3为图1中另一个步骤的详细实施流程示意图；
图4为本发明一实施例提供的用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制系统的功能模块图；
图5为本发明一实施例提供的实现所述用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法的电子设备的结构示意图。
本发明目的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本申请实施例提供一种草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法。所述用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法的执行主体包括但不限于服务端、终端等能够被配置为执行本申请实施例提供的该方法的电子设备中的至少一种。换言之，所述用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法可以由安装在终端设备或服务端设备的软件或硬件来执行。所述服务端包括但不限于：单台服务器、服务器集群、云端服务器或云端服务器集群等。
实施例1
参照图1所示，为本发明一实施例提供的用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法的流程示意图。在本实施例中，所述用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法包括：
S1、接收ITO蚀刻液制备指令，根据所述ITO蚀刻液制备指令启动ITO蚀刻液制备设备，其中所述ITO蚀刻液制备设备包括：氨水储存槽、超纯水储存槽、有机酸储存槽、添加剂搅拌槽、草酸储存槽及蚀刻液搅拌槽。
可解释的，所述ITO蚀刻液制备指令指用户根据需求发出的包含ITO蚀刻液需求量及制备开始时间等命令的制备指令。一般情况下默认制备开始时间为当前时间。所述ITO蚀刻液需求量指ITO蚀刻液的需求质量。所述有机酸储存槽内存储的有机酸可以为正己酸、正戊酸、正庚酸和正辛酸中的任一种。所述添加剂搅拌槽内设置有压力传感器、温度传感器等监测仪器。
S2、在所述ITO蚀刻液制备指令中提取ITO蚀刻液需求量，根据所述ITO蚀刻液需求量计算各预设溶液的溶液制备需求量，其中所述溶液制备需求量包括：氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量、草酸需求量及蚀刻液超纯水需求量。
可理解的，所述溶液制备需求量指各溶液的需求质量，例如：氨水需求质量、有机酸需求质量。
本发明实施例中，所述根据所述ITO蚀刻液需求量计算各预设溶液的溶液制备需求量，包括：
根据预构建的草酸需求量公式，利用所述ITO蚀刻液需求量计算草酸需求量；
根据所述草酸需求量，利用预构建的添加剂需求量公式计算蚀刻液的添加剂需求量；
根据所述ITO蚀刻液需求量、草酸需求量及添加剂需求量，计算蚀刻液超纯水需求量；
根据所述添加剂需求量计算氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量。
本发明实施例中，所述草酸需求量公式，如下所示：
其中，表示草酸需求量，/>表示ITO蚀刻液需求量，/>表示草酸质量百分比。
可理解的，所述草酸质量百分比可以为3.2-3.6wt%。
本发明实施例中，所述添加剂需求量公式，如下所示：
其中，表示添加剂需求量，/>表示草酸添加剂配比系数。
应明白的，所述草酸添加剂配比系数指蚀刻液添加剂与所述草酸的质量比例，由于ITO蚀刻液内个溶液的配置比例是固定的，当其中一个溶液的质量确定后，其它溶液的质量也随之确定。
详细地，参阅图2所示，所述根据所述添加剂需求量计算氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量，包括：
S21、利用预设的氨水质量百分比，根据所述添加剂需求量计算氨水需求量；
S22、利用预设的超纯水质量百分比，根据所述添加剂需求量计算添加剂超纯水需求量；
S23、根据预设的有机酸质量百分比，利用所述添加剂需求量计算有机酸需求量。
可选择地，所述蚀刻液添加剂包括：有机酸质量百分比为40%的正己酸、正戊酸、正庚酸和正辛酸中的任一种，氨水质量百分比为40%的氨水以及超纯水质量百分比为20%的添加剂超纯水，其中所述氨水可以为28 wt％至30wt％的氨水。
S3、根据所述添加剂超纯水需求量将所述超纯水储存槽中的超纯水排放至所述添加剂搅拌槽，得到添加剂超纯水。
可解释的，需要先配置蚀刻液添加剂，因此在配置蚀刻液添加剂时需要先排放超纯水至所述添加剂搅拌槽，然后依次将氨水以及有机酸排放至所述添加剂搅拌槽进行搅拌均匀。
S4、根据所述氨水需求量将所述氨水储存槽内的氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液。
详细地，参阅图3所示，所述根据所述氨水需求量将所述氨水储存槽内的氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液，包括：
S41、根据预设的单次氨水排放量将所述氨水需求量分批次，得到氨水待排放量序列；
S42、在所述氨水待排放量序列中依次提取待排放批次氨水，根据预设的时间间隔将所述待排放批次氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液。
可理解的，由于一次性将所述氨水需求量的氨水排放至所述添加剂超纯水中可能由于过量导致氨水挥发损失，因此需要分批次并按照一定的时间间隔排放氨水至所述添加剂超纯水中，并且每排放一次需要进行搅拌直至混合均匀，当所述氨水储存槽内的氨水排放至氨水需求量时，则停止排放，当所有氨水与添加剂超纯水混合均匀时，得到所述氨水稀释液。
S5、根据预设的温度预警值及所述有机酸需求量，利用预构建的有机酸流量调节公式计算有机酸目标流量。
可理解的，由于氨水与有机酸的反应属于放热反应，因此当长期不间断的进行蚀刻液添加剂的配置时，所述添加剂搅拌槽内可能回产生较高的温度，出于安全考虑，需要对添加剂搅拌槽内的温度进行合理控制。所述温度预警值指添加剂搅拌槽内允许的最大温度。所述有机酸目标流量指当前有机酸单位时间内的最佳排放量。
详细地，所述有机酸流量调节公式，如下所示：
其中，表示温度预警值，/>表示加热系数，/>表示有机酸需求量，/>表示有机酸目标流量，/>表示散热速度，/>表示所述添加剂搅拌槽内的初始温度，/>表示散热系数，/>表示所述添加剂搅拌槽内的表面积，/>表示槽外温度，/>表示混合比热容，/>表示氨水需求量。
可理解的，当所述添加剂搅拌槽内的温度为温度预警值时，表示此时添加剂搅拌槽也达到最大可承受的温度，也达到最大的有机酸流量。兼顾安全性及生产效率，可以将所述有机酸储存槽内的有机酸按照所述有机酸目标流量排放至所述添加剂搅拌槽内。
进一步地，可知所述有机酸流量调节公式内有机酸目标流量是随温度预警值变化而变化的，因此当所述温度预警值（温度最大值）确定后，所述有机酸目标流量将达到最大值。所述混合比热容指氨水与有机酸混合后溶液的比热容。
进一步地，所述有机酸流量调节公式中预警温度的计算是根据添加剂搅拌槽内的温度变化率=加热速度-散热速度而得到的。此方法不需要在添加剂搅拌槽内安装冷却系统，大大节约了成本，提高安全性。
S6、利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂。
可理解的，所述排放调节阀指所述有机酸储存槽内的有机酸出口处的阀门，所述排放调节阀可以通过调节阀芯位移，来达到控制有机酸流量的目的，阀芯位移越大，阀门开口越大，有机酸流量越大。
本发明实施例中，所述利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂，包括：
获取所述有机酸储存槽内的有机酸当前存量，根据所述有机酸当前存量计算当前最大流量；
判断所述当前最大流量是否大于等于所述有机酸目标流量；
若所述当前最大流量大于等于所述有机酸目标流量，则调控所述排放调节阀的阀芯位移，直至所述有机酸储存槽内的有机酸流量等于所述有机酸目标流量并实时获取有机酸当前排放量；
判断所述有机酸当前排放量是否等于所述有机酸需求量；
若所述有机酸当前排放量不等于所述有机酸需求量，则返回上述获取所述有机酸储存槽内的有机酸当前存量的步骤；
若所述有机酸当前排放量等于所述有机酸需求量，则关闭所述排放调节阀并将所述有机酸储存槽内的有机酸与所述氨水稀释液搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；
若所述当前最大流量不大于等于所述有机酸目标流量，则根据所述当前最大流量及所述有机酸目标流量计算需求压力；
判断所述需求压力是否大于所述有机酸储存槽的最大承受压力；
若所述需求压力大于所述有机酸储存槽的最大承受压力，则按照所述最大承受压力对所述有机酸储存槽内进行加压并实时获取有机酸当前排放量，直至所述有机酸储存槽内的有机酸当前排放量等于所述有机酸需求量，则关闭所述排放调节阀并将所述有机酸储存槽内的有机酸与所述氨水稀释液搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；
若所述需求压力不大于所述有机酸储存槽的最大承受压力，则根据所述需求压力，对所述有机酸储存槽内进行加压，直至所述有机酸储存槽内的有机酸流量等于所述有机酸目标流量并实时获取有机酸当前排放量；
判断所述有机酸当前排放量是否等于所述有机酸需求量；
若所述有机酸当前排放量不等于所述有机酸需求量，则返回上述获取所述有机酸储存槽内的有机酸当前存量的步骤；
若所述有机酸当前排放量等于所述有机酸需求量，则关闭所述排放调节阀并将所述有机酸储存槽内的有机酸与所述氨水稀释液搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂。
可解释的，所述有机酸当前存量指当前时刻有机酸储存槽内的有机酸存储的质量。所述最大流量指在所述排放调节阀调节至最大时，当前时刻有机酸储存槽内的有机酸排放的最大速度。
进一步地，实时获取有机酸当前排放量可以按照一定的时间间隔获取，该时间间隔可以根据所述有机酸目标流量确定获取，有机酸目标流量越大，该时间间隔应该越小，例如：1s。时间过大可能导致有机酸排放过量。
本发明实施例中，所述根据所述当前最大流量及所述有机酸目标流量计算需求压力，包括：
根据所述当前最大流量及所述有机酸目标流量计算目标流量差值；
根据所述有机酸储存槽内的有机酸当前存量计算所述有机酸液面面积；
根据所述有机酸液面面积及所述目标流量差值，利用预构建的压力流量公式计算需求压力。
可解释的，当所述当前最大流量小于所述有机酸目标流量时，可以通过所述有机酸储存槽内的加压装置动态改变所述有机酸储存槽内的压力，进而增大有机酸的流量。
本发明实施例中，所述压力流量公式，如下所示：
其中，表示需求压力，/>表示流量压力转换系数，/>表示目标流量差值，/>表示有机酸液面面积。
应明白的，所述有机酸液面面积应与所述需求压力呈反比，所述目标流量差值应与所述需求压力呈正比。
S7、根据所述蚀刻液超纯水需求量将超纯水储存槽内的超纯水排放至所述蚀刻液搅拌槽内，得到蚀刻液超纯水。
S8、根据草酸需求量将所述草酸储存槽内的草酸排放至所述蚀刻液超纯水内并将所述蚀刻液添加剂排放至所述蚀刻液搅拌槽内搅拌均匀，得到草酸系ITO蚀刻液，完成草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制。
进一步地，在将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液之前，需要利用过滤器将所述蚀刻液添加剂进行过滤，所述过滤器可位于所述草酸储存槽与蚀刻液搅拌槽之间的联通导管内，直径为0.2-0.5um，可根据需要设置多个过滤器。
可理解的，判断所述添加剂搅拌槽及蚀刻液搅拌槽内的溶液是否混合均匀，可以通过设置的多个监测点对浓度进行检测，当浓度一致时，表示混合均匀。
相比于背景技术所述问题，本发明实施例在实现草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制时，首先需要接收ITO蚀刻液制备指令，根据所述ITO蚀刻液制备指令启动ITO蚀刻液制备设备，其中所述ITO蚀刻液制备设备包括：氨水储存槽、超纯水储存槽、有机酸储存槽、添加剂搅拌槽、草酸储存槽及蚀刻液搅拌槽，在启动所述ITO蚀刻液制备，需要知道ITO蚀刻液需求量，由于ITO蚀刻液需求量与各预设溶液的溶液制备需求量有着固定的关系，因此根据所述ITO蚀刻液需求量即可计算氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量、草酸需求量及蚀刻液超纯水需求量，在得到各预设溶液的溶液制备需求量后，需要先制备氨水稀释液，首先需要根据所述添加剂超纯水需求量将所述超纯水储存槽中的超纯水排放至所述添加剂搅拌槽，得到添加剂超纯水，再根据所述氨水需求量将所述氨水储存槽内的氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液，然后需要将有机酸排放至所述氨水稀释液中，在排放过程中，需要根据预设的温度预警值及所述有机酸需求量，利用预构建的有机酸流量调节公式计算有机酸目标流量，此时即可利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂，当完成蚀刻液添加剂的制备后，即可根据所述蚀刻液超纯水需求量将超纯水储存槽内的超纯水排放至所述蚀刻液搅拌槽内，得到蚀刻液超纯水，根据草酸需求量将所述草酸储存槽内的草酸排放至所述蚀刻液超纯水内并将所述蚀刻液添加剂排放至所述蚀刻液搅拌槽内搅拌均匀，得到草酸系ITO蚀刻液。因此本发明提出的用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法、系统、电子设备及计算机可读存储介质，其主要目的在于解决在制备草酸系ITO蚀刻液的过程中，存在溶液流量未得到精准化控制，未能合理控制配置温度的问题。
实施例2
如图4所示，是本发明一实施例提供的用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制系统的功能模块图。
本发明所述用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制系统100可以安装于电子设备中。根据实现的功能，所述用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制系统100可以包括溶液制备需求量计算模块101、氨水稀释液混合模块102、有机酸排放模块103及ITO蚀刻液搅拌模块104。本发明所述模块也可以称之为单元，是指一种能够被电子设备处理器所执行，并且能够完成固定功能的一系列计算机程序段，其存储在电子设备的存储器中。
所述溶液制备需求量计算模块101，用于接收ITO蚀刻液制备指令，根据所述ITO蚀刻液制备指令启动ITO蚀刻液制备设备，其中所述ITO蚀刻液制备设备包括：氨水储存槽、超纯水储存槽、有机酸储存槽、添加剂搅拌槽、草酸储存槽及蚀刻液搅拌槽；在所述ITO蚀刻液制备指令中提取ITO蚀刻液需求量，根据所述ITO蚀刻液需求量计算各预设溶液的溶液制备需求量，其中所述溶液制备需求量包括：氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量、草酸需求量及蚀刻液超纯水需求量；
所述氨水稀释液混合模块102，用于根据所述添加剂超纯水需求量将所述超纯水储存槽中的超纯水排放至所述添加剂搅拌槽，得到添加剂超纯水；根据所述氨水需求量将所述氨水储存槽内的氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液；
所述有机酸排放模块103，用于根据预设的温度预警值及所述有机酸需求量，利用预构建的有机酸流量调节公式计算有机酸目标流量，其中所述有机酸流量调节公式，如下所示：
其中，表示温度预警值，/>表示加热系数，/>表示有机酸需求量，/>表示有机酸目标流量，/>表示散热速度，/>表示所述添加剂搅拌槽内的初始温度，/>表示散热系数，/>表示所述添加剂搅拌槽内的表面积，/>表示槽外温度，/>表示混合比热容，/>表示氨水需求量；利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；/>
所述ITO蚀刻液搅拌模块104，用于利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；根据所述蚀刻液超纯水需求量将超纯水储存槽内的超纯水排放至所述蚀刻液搅拌槽内，得到蚀刻液超纯水；根据草酸需求量将所述草酸储存槽内的草酸排放至所述蚀刻液超纯水内并将所述蚀刻液添加剂排放至所述蚀刻液搅拌槽内搅拌均匀，得到草酸系ITO蚀刻液，完成草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制。
详细地，本发明实施例中所述用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制系统100中的所述各模块在使用时采用与上述的图1中所述的用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法一样的技术手段，并能够产生相同的技术效果，这里不再赘述。
实施例3
如图5所示，是本发明一实施例提供的实现用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法的电子设备的结构示意图。
所述电子设备1可以包括处理器10、存储器11、总线12和通信接口13，还可以包括存储在所述存储器11中并可在所述处理器10上运行的计算机程序，如用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制程序。
其中，所述存储器11至少包括一种类型的可读存储介质，所述可读存储介质包括闪存、移动硬盘、多媒体卡、卡型存储器（例如：SD或DX存储器等）、磁性存储器、磁盘、光盘等。所述存储器11在一些实施例中可以是电子设备1的内部存储单元，例如该电子设备1的移动硬盘。所述存储器11在另一些实施例中也可以是电子设备1的外部存储设备，例如电子设备1上配备的插接式移动硬盘、智能存储卡（SmartMediaCard，SMC）、安全数字（SecureDigital，SD）卡、闪存卡（FlashCard）等。进一步地，所述存储器11还可以既包括电子设备1的内部存储单元也包括外部存储设备。所述存储器11不仅可以用于存储安装于电子设备1的应用软件及各类数据，例如用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制程序的代码等，还可以用于暂时地存储已经输出或者将要输出的数据。
所述处理器10在一些实施例中可以由集成电路组成，例如可以由单个封装的集成电路所组成，也可以是由多个相同功能或不同功能封装的集成电路所组成，包括一个或者多个中央处理器（CentralProcessingunit，CPU）、微处理器、数字处理芯片、图形处理器及各种控制芯片的组合等。所述处理器10是所述电子设备的控制核心（ControlUnit），利用各种接口和线路连接整个电子设备的各个部件，通过运行或执行存储在所述存储器11内的程序或者模块（例如用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制程序等），以及调用存储在所述存储器11内的数据，以执行电子设备1的各种功能和处理数据。
所述总线可以是外设部件互连标准（peripheralcomponentinterconnect，简称PCI）总线或扩展工业标准结构（extendedindustrystandardarchitecture，简称EISA）总线等。该总线可以分为地址总线、数据总线、控制总线等。所述总线被设置为实现所述存储器11以及至少一个处理器10等之间的连接通信。
图5仅示出了具有部件的电子设备，本领域技术人员可以理解的是，图5示出的结构并不构成对所述电子设备1的限定，可以包括比图示更少或者更多的部件，或者组合某些部件，或者不同的部件布置。
例如，尽管未示出，所述电子设备1还可以包括给各个部件供电的电源（比如电池），优选地，电源可以通过电源管理系统与所述至少一个处理器10逻辑相连，从而通过电源管理系统实现充电管理、放电管理、以及功耗管理等功能。电源还可以包括一个或一个以上的直流或交流电源、再充电系统、电源故障检测电路、电源转换器或者逆变器、电源状态指示器等任意组件。所述电子设备1还可以包括多种传感器、蓝牙模块、Wi-Fi模块等，在此不再赘述。
进一步地，所述电子设备1还可以包括网络接口，可选地，所述网络接口可以包括有线接口和/或无线接口（如WI-FI接口、蓝牙接口等），通常用于在该电子设备1与其他电子设备之间建立通信连接。
可选地，该电子设备1还可以包括用户接口，用户接口可以是显示器（Display）、输入单元（比如键盘（Keyboard）），可选地，用户接口还可以是标准的有线接口、无线接口。可选地，在一些实施例中，显示器可以是LED显示器、液晶显示器、触控式液晶显示器以及OLED（OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管）触摸器等。其中，显示器也可以适当的称为显示屏或显示单元，用于显示在电子设备1中处理的信息以及用于显示可视化的用户界面。
应该了解，所述实施例仅为说明之用，在专利申请范围上并不受此结构的限制。
所述电子设备1中的所述存储器11存储的用于草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制程序是多个指令的组合，在所述处理器10中运行时，可以实现：
接收ITO蚀刻液制备指令，根据所述ITO蚀刻液制备指令启动ITO蚀刻液制备设备，其中所述ITO蚀刻液制备设备包括：氨水储存槽、超纯水储存槽、有机酸储存槽、添加剂搅拌槽、草酸储存槽及蚀刻液搅拌槽；
在所述ITO蚀刻液制备指令中提取ITO蚀刻液需求量，根据所述ITO蚀刻液需求量计算各预设溶液的溶液制备需求量，其中所述溶液制备需求量包括：氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量、草酸需求量及蚀刻液超纯水需求量；
根据所述添加剂超纯水需求量将所述超纯水储存槽中的超纯水排放至所述添加剂搅拌槽，得到添加剂超纯水；
根据所述氨水需求量将所述氨水储存槽内的氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液；
根据预设的温度预警值及所述有机酸需求量，利用预构建的有机酸流量调节公式计算有机酸目标流量，其中所述有机酸流量调节公式，如下所示：
其中，表示温度预警值，/>表示加热系数，/>表示有机酸需求量，/>表示有机酸目标流量，/>表示散热速度，/>表示所述添加剂搅拌槽内的初始温度，/>表示散热系数，/>表示所述添加剂搅拌槽内的表面积，/>表示槽外温度，/>表示混合比热容，/>表示氨水需求量；
利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；
根据所述蚀刻液超纯水需求量将超纯水储存槽内的超纯水排放至所述蚀刻液搅拌槽内，得到蚀刻液超纯水；
根据草酸需求量将所述草酸储存槽内的草酸排放至所述蚀刻液超纯水内并将所述蚀刻液添加剂排放至所述蚀刻液搅拌槽内搅拌均匀，得到草酸系ITO蚀刻液，完成草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制。具体地，所述处理器10对上述指令的具体实现方法可参考图1至图4对应实施例中相关步骤的描述，在此不赘述。
进一步地，所述电子设备1集成的模块/单元如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，可以存储在一个计算机可读存储介质中。所述计算机可读存储介质可以是易失性的，也可以是非易失性的。例如，所述计算机可读介质可以包括：能够携带所述计算机程序代码的任何实体或系统、记录介质、U盘、移动硬盘、磁碟、光盘、计算机存储器、只读存储器（ROM，Read-OnlyMemory）。
本发明还提供一种计算机可读存储介质，所述可读存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序在被电子设备的处理器所执行时，可以实现：
接收ITO蚀刻液制备指令，根据所述ITO蚀刻液制备指令启动ITO蚀刻液制备设备，其中所述ITO蚀刻液制备设备包括：氨水储存槽、超纯水储存槽、有机酸储存槽、添加剂搅拌槽、草酸储存槽及蚀刻液搅拌槽；
在所述ITO蚀刻液制备指令中提取ITO蚀刻液需求量，根据所述ITO蚀刻液需求量计算各预设溶液的溶液制备需求量，其中所述溶液制备需求量包括：氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量、草酸需求量及蚀刻液超纯水需求量；
根据所述添加剂超纯水需求量将所述超纯水储存槽中的超纯水排放至所述添加剂搅拌槽，得到添加剂超纯水；
根据所述氨水需求量将所述氨水储存槽内的氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液；
根据预设的温度预警值及所述有机酸需求量，利用预构建的有机酸流量调节公式计算有机酸目标流量，其中所述有机酸流量调节公式，如下所示：
/>
其中，表示温度预警值，/>表示加热系数，/>表示有机酸需求量，/>表示有机酸目标流量，/>表示散热速度，/>表示所述添加剂搅拌槽内的初始温度，/>表示散热系数，/>表示所述添加剂搅拌槽内的表面积，/>表示槽外温度，/>表示混合比热容，/>表示氨水需求量；
利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；
根据所述蚀刻液超纯水需求量将超纯水储存槽内的超纯水排放至所述蚀刻液搅拌槽内，得到蚀刻液超纯水；
根据草酸需求量将所述草酸储存槽内的草酸排放至所述蚀刻液超纯水内并将所述蚀刻液添加剂排放至所述蚀刻液搅拌槽内搅拌均匀，得到草酸系ITO蚀刻液，完成草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制。所述作为分离部件说明的模块可以是或者也可以不是物理上分开的，作为模块显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部模块来实现本实施例方案的目的。
另外，在本发明各个实施例中的各功能模块可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现，也可以采用硬件加软件功能模块的形式实现。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。
最后应说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围。
Claims (10)
1.一种草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法，其特征在于，所述方法包括：
接收ITO蚀刻液制备指令，根据所述ITO蚀刻液制备指令启动ITO蚀刻液制备设备，其中所述ITO蚀刻液制备设备包括：氨水储存槽、超纯水储存槽、有机酸储存槽、添加剂搅拌槽、草酸储存槽及蚀刻液搅拌槽；
在所述ITO蚀刻液制备指令中提取ITO蚀刻液需求量，根据所述ITO蚀刻液需求量计算各预设溶液的溶液制备需求量，其中所述溶液制备需求量包括：氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量、草酸需求量及蚀刻液超纯水需求量；
根据所述添加剂超纯水需求量将所述超纯水储存槽中的超纯水排放至所述添加剂搅拌槽，得到添加剂超纯水；
根据所述氨水需求量将所述氨水储存槽内的氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液；
根据预设的温度预警值及所述有机酸需求量，利用预构建的有机酸流量调节公式计算有机酸目标流量，其中所述有机酸流量调节公式，如下所示：
；
其中，表示温度预警值，/>表示加热系数，/>表示有机酸需求量，/>表示有机酸目标流量，/>表示散热速度，/>表示所述添加剂搅拌槽内的初始温度，/>表示散热系数，/>表示所述添加剂搅拌槽内的表面积，/>表示槽外温度，/>表示混合比热容，/>表示氨水需求量；
利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；
根据所述蚀刻液超纯水需求量将超纯水储存槽内的超纯水排放至所述蚀刻液搅拌槽内，得到蚀刻液超纯水；
根据草酸需求量将所述草酸储存槽内的草酸排放至所述蚀刻液超纯水内并将所述蚀刻液添加剂排放至所述蚀刻液搅拌槽内搅拌均匀，得到草酸系ITO蚀刻液，完成草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制。
2.如权利要求1所述的草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法，其特征在于，所述根据所述ITO蚀刻液需求量计算各预设溶液的溶液制备需求量，包括：
根据预构建的草酸需求量公式，利用所述ITO蚀刻液需求量计算草酸需求量；
根据所述草酸需求量，利用预构建的添加剂需求量公式计算蚀刻液的添加剂需求量；
根据所述ITO蚀刻液需求量、草酸需求量及添加剂需求量，计算蚀刻液超纯水需求量；
根据所述添加剂需求量计算氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量。
3.如权利要求2所述的草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法，其特征在于，所述草酸需求量公式，如下所示：
；
其中，表示草酸需求量，/>表示ITO蚀刻液需求量，/>表示草酸质量百分比。
4.如权利要求3所述的草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法，其特征在于，所述添加剂需求量公式，如下所示：
；
其中，表示添加剂需求量，/>表示草酸添加剂配比系数。
5.如权利要求2所述的草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法，其特征在于，所述根据所述添加剂需求量计算氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量，包括：
利用预设的氨水质量百分比，根据所述添加剂需求量计算氨水需求量；
利用预设的超纯水质量百分比，根据所述添加剂需求量计算添加剂超纯水需求量；
根据预设的有机酸质量百分比，利用所述添加剂需求量计算有机酸需求量。
6.如权利要求5所述的草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法，其特征在于，所述根据所述氨水需求量将所述氨水储存槽内的氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液，包括：
根据预设的单次氨水排放量将所述氨水需求量分批次，得到氨水待排放量序列；
在所述氨水待排放量序列中依次提取待排放批次氨水，根据预设的时间间隔将所述待排放批次氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液。
7.如权利要求6所述的草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法，其特征在于，所述利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂，包括：
获取所述有机酸储存槽内的有机酸当前存量，根据所述有机酸当前存量计算当前最大流量；
判断所述当前最大流量是否大于等于所述有机酸目标流量；
若所述当前最大流量大于等于所述有机酸目标流量，则调控所述排放调节阀的阀芯位移，直至所述有机酸储存槽内的有机酸流量等于所述有机酸目标流量并实时获取有机酸当前排放量；
判断所述有机酸当前排放量是否等于所述有机酸需求量；
若所述有机酸当前排放量不等于所述有机酸需求量，则返回上述获取所述有机酸储存槽内的有机酸当前存量的步骤；
若所述有机酸当前排放量等于所述有机酸需求量，则关闭所述排放调节阀并将所述有机酸储存槽内的有机酸与所述氨水稀释液搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；
若所述当前最大流量不大于等于所述有机酸目标流量，则根据所述当前最大流量及所述有机酸目标流量计算需求压力；
判断所述需求压力是否大于所述有机酸储存槽的最大承受压力；
若所述需求压力大于所述有机酸储存槽的最大承受压力，则按照所述最大承受压力对所述有机酸储存槽内进行加压并实时获取有机酸当前排放量，直至所述有机酸储存槽内的有机酸当前排放量等于所述有机酸需求量，则关闭所述排放调节阀并将所述有机酸储存槽内的有机酸与所述氨水稀释液搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；
若所述需求压力不大于所述有机酸储存槽的最大承受压力，则根据所述需求压力，对所述有机酸储存槽内进行加压，直至所述有机酸储存槽内的有机酸流量等于所述有机酸目标流量并实时获取有机酸当前排放量。
8.如权利要求7所述的草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法，其特征在于，所述根据所述当前最大流量及所述有机酸目标流量计算需求压力，包括：
根据所述当前最大流量及所述有机酸目标流量计算目标流量差值；
根据所述有机酸储存槽内的有机酸当前存量计算所述有机酸液面面积；
根据所述有机酸液面面积及所述目标流量差值，利用预构建的压力流量公式计算需求压力。
9.如权利要求8所述的草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制方法，其特征在于，所述压力流量公式，如下所示：
；
其中，表示需求压力，/>表示流量压力转换系数，/>表示目标流量差值，/>表示有机酸液面面积。
10.一种草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制系统，其特征在于，所述系统包括：
溶液制备需求量计算模块，用于接收ITO蚀刻液制备指令，根据所述ITO蚀刻液制备指令启动ITO蚀刻液制备设备，其中所述ITO蚀刻液制备设备包括：氨水储存槽、超纯水储存槽、有机酸储存槽、添加剂搅拌槽、草酸储存槽及蚀刻液搅拌槽；在所述ITO蚀刻液制备指令中提取ITO蚀刻液需求量，根据所述ITO蚀刻液需求量计算各预设溶液的溶液制备需求量，其中所述溶液制备需求量包括：氨水需求量、添加剂超纯水需求量、有机酸需求量、草酸需求量及蚀刻液超纯水需求量；
氨水稀释液混合模块，用于根据所述添加剂超纯水需求量将所述超纯水储存槽中的超纯水排放至所述添加剂搅拌槽，得到添加剂超纯水；根据所述氨水需求量将所述氨水储存槽内的氨水排放至所述添加剂超纯水中并与所述添加剂超纯水混合均匀，得到氨水稀释液；
有机酸排放模块，用于根据预设的温度预警值及所述有机酸需求量，利用预构建的有机酸流量调节公式计算有机酸目标流量，其中所述有机酸流量调节公式，如下所示：
；
其中，表示温度预警值，/>表示加热系数，/>表示有机酸需求量，/>表示有机酸目标流量，/>表示散热速度，/>表示所述添加剂搅拌槽内的初始温度，/>表示散热系数，/>表示所述添加剂搅拌槽内的表面积，/>表示槽外温度，/>表示混合比热容，/>表示氨水需求量；利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；
ITO蚀刻液搅拌模块，用于利用所述有机酸储存槽内的排放调节阀，根据所述有机酸目标流量及有机酸需求量将所述有机酸储存槽内的有机酸排放至所述氨水稀释液并搅拌均匀，得到蚀刻液添加剂；根据所述蚀刻液超纯水需求量将超纯水储存槽内的超纯水排放至所述蚀刻液搅拌槽内，得到蚀刻液超纯水；根据草酸需求量将所述草酸储存槽内的草酸排放至所述蚀刻液超纯水内并将所述蚀刻液添加剂排放至所述蚀刻液搅拌槽内搅拌均匀，得到草酸系ITO蚀刻液，完成草酸系ITO蚀刻液制备的流量自动化控制。
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