JP2009175732A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】フォトリソグラフィ工程でブラックマトリクス領域にスペーサを形成することから、カラーフォトレジスト領域にスペーサが形成されて光漏れによって表示品質が低下されることを防止することにある。
【解決手段】本発明は、第１基板と、第１基板を覆うように形成され、ブラックマトリクスとカラーフォトレジストとを含むカラーフィルタと、カラーフィルタのブラックマトリクス上に上部方向に突出されるように形成されたフォトスペーサ、フォトスペーサが形成された領域以外のカラーフィルタを覆うように第１方向に配列された第１透明電極、第１基板に対向する方向に形成された第２基板及び第２基板を覆うように第１方向と交差する第２方向に配列され、第２基板と第１透明電極との間に形成された第２透明電極を含む液晶表示装置及びその製造方法を開始する。
【選択図】図１

Description

本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関し、より詳しくは、フォトリソグラフィ工程でブラックマトリクス領域にスペーサを形成することから、カラーフォトレジスト領域にスペーサが形成されて光漏れによって表示品質が低下されることを防止することができる液晶表示装置及びその製造方法に関する。
平板表示装置(Ｆｌａｔ Ｐａｎｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ)の一種である液晶表示装置(Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ)は、液体の流動性と結晶の光学的性質を備える液晶に電界を加えて光学的異方性を変化させる装置である。前記液晶表示装置は、従来の陰極線管(Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ、ＣＲＴ)に比べて消費電力が低く、体積が小さくて大型化及び高精細化が可能なことから広く用いられている。
このような液晶表示装置は、駆動方式の差によって、スイッチング素子及びＴＮ(Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ)液晶を用いたアクティブマトリクス(Ａｃｔｉｖｅ ｍａｔｒｉｘ)表示方式とＳＴＮ(Ｓｕｐｅｒ-Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ)液晶を用いたパッシブマトリクス(Ｐａｓｓｉｖｅ ｍａｔｒｉｘ)表示方式で大きく分けられる。
前記２つの表示方式の最大の差は、アクティブマトリクス表示方式が薄膜トランジスタ(ＴＦＴ)をスイッチ使用で液晶表示装置を駆動する方式に比べて、パッシブマトリクス表示方式はトランジスタを使用しないことからそれに関する複雑な回路が不要である長所がある。
このような、パッシブマトリクス表示方式の液晶表示装置は、透明電極を形成した後にボルスペーサを形成する製作方法を一般的に用いた。前記ボルスペーサは、透明電極が形成されたガラス基板に溶媒に混ぜられたスペーサを入れて形成されるが、このとき、スペーサがカラーフォトレジストの上部にも形成されてスペーサによる光漏れによってパネルの表示品質が低下される短所がある。
また、透明電極を形成する工程は、パネル製作時に用いられる他の工程とは相異なっている工程ラインで行われる。それで、従来の液晶表示装置はパネルを製作するときに透明電極を形成する前後に工程ラインを変更しなければならないことで、工程ラインを変更するときに発生される費用が増加し、工程ラインを変更するときに基板の不安定によってパネルの品質が低下される短所がある。
本発明は、従来の問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、
フォトリソグラフィ工程でブラックマトリクス領域にスペーサを形成することから、カラーフォトレジスト領域にスペーサが形成されて光漏れによって表示品質が低下されることを防止することができる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、パネル製作において、透明電極形成を最後の工程で行うことで、工程ラインを変更するときに発生される費用を節減して安定的にパネルを製作することができる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
上述の目的を達成するために本発明による液晶表示装置及びその製造方法は、第１基板と、前記第１基板を覆うように形成されたブラックマトリクスとカラーフォトレジストを含むカラーフィルタと、前記カラーフィルタのブラックマトリクス上に上部方向に突出されるように形成されたフォトスペーサと、前記フォトスペーサが形成された領域以外の前記カラーフィルタを覆うように第１方向に配列された第１透明電極と、前記第１基板に対向する方向に形成された第２基板及び前記第２基板を覆うように第１方向と交差する第２方向に配列され、前記第２基板と前記第１透明電極との間に形成された第２透明電極とを含む。
前記フォトスペーサは、前記第１透明電極と前記第２透明電極が交差する領域の中で前記カラーフィルタのブラックマトリクス上に形成されることを特徴とする。
前記第１透明電極は、前記フォトスペーサの側面で離隔され、前記カラーフィルタと前記フォトスペーサとの間には、前記カラーフィルタを覆うようにオーバーコート層がさらに形成されることを特徴とする。
前記オーバーコート層と前記フォトスペーサとの間には、前記オーバーコート層を覆うように絶縁膜がさらに形成されることを特徴とする。
前記第１基板に形成された前記第１透明電極と前記第２基板に形成された前記第２透明電極との間に注入された液晶をさらに含むことができる。
前記液晶は、カラースーパーツイストネマチック(Ｃｏｌｏｒ Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ、ＣＳＴＮ)液晶であることができる。
前記カラーフォトレジストは、赤色フォトレジスト、緑色フォトレジスト及び青色フォトレジストからなり、前記カラーフィルタに複数の行と列を有して配列されることを特徴とする。
前記第１透明電極と前記第２透明電極との交差点に対応される領域として、前記赤色フォトレジスト、前記緑色フォトレジスト及び前記青色フォトレジストからなる領域である画素を含むことができる。
前記第１透明電極と前記第２透明電極は、お互いに直交して形成され、前記第１透明電極と前記第２透明電極はお互いに離隔して形成されることを特徴とする。
第１基板を準備する第１基板準備段階と、前記第１基板を覆うようにブラックマトリクスとカラーフォトレジストを形成するカラーフィルタ形成段階と、前記ブラックマトリクス上に上部方向に突出されるようにフォトスペーサを形成するフォトスペーサ形成段階と、前記カラーフィルタを覆うように第１透明電極を形成する第１透明電極形成段階と、前記第１透明電極のうち前記フォトスペーサの上部と側面に形成された第１透明電極を除去して前記第１方向に第１透明電極が配列されるように第１透明電極をパターニングする第１透明電極パターニング段階及び前記第１基板に第２基板を貼り合わせる第２基板合着段階とを含むことができる。
前記カラーフォトレジストは、赤色フォトレジスト、緑色フォトレジスト及び青色フォトレジストからなり、前記カラーフィルタに複数の行と列を有して配列されることを特徴とする。
前記第１透明電極パターニング段階では、前記赤色フォトレジスト、前記緑色フォトレジスト及び前記青色フォトレジストとを含む領域である画素を基準として、第１方向に第１透明電極が配列されるように第１透明電極をパターニングすることができる。
前記カラーフィルタ形成段階以後には、前記カラーフィルタを覆うようにオーバーコート層を形成するオーバーコート層形成段階をさらに含むことができる。
前記オーバーコート層形成段階以後には、前記オーバーコート層を覆うように絶縁層を形成する絶縁層形成段階をさらに含むことができる。
第２基板合着段階以後には、前記第１基板と前記第２基板との間に液晶を注入する液晶注入段階をさらに含むことができる。
本発明による液晶表示装置及びその製造方法は、フォトリソグラフィ工程でブラックマトリクス領域にスペーサを形成することで、カラーフォトレジスト領域にスペーサが形成されて光漏れによって表示品質が低下されることを防止することができる。
また、本発明による液晶表示装置及びその製造方法は、パネル製作において、透明電極形成を最後の工程で行うことで、工程ラインを変更するときに発生される費用を節減し、安定的にパネルを製作することができる。
本発明の一実施形態による液晶表示装置を示したブロック図である。 図１の液晶表示装置のパネルを示した斜視図である。 図１の液晶表示装置のパネルを示した２ｂ-２ｂ線の断面図である。 図１のパネルの一部を拡大して示した平面図である。 図２ｂの液晶表示装置の製造方法を示した手順図である。 図４に示された液晶表示装置の製造方法を示した断面図である。 図４に示された液晶表示装置の製造方法を示した断面図である。 図４に示された液晶表示装置の製造方法を示した断面図である。 図４に示された液晶表示装置の製造方法を示した断面図である。 図４に示された液晶表示装置の製造方法を示した断面図である。 図４に示された液晶表示装置の製造方法を示した断面図である。 図４に示された液晶表示装置の製造方法を示した断面図である。 図４に示された液晶表示装置の製造方法を示した断面図である。 図４に示された液晶表示装置の製造方法を示した断面図である。
以下、本発明の属する技術分野の通常の知識を有する者が容易に実施できるように、この発明の実施形態について図面に基づいて説明する。
ここで、本発明において、類似の構成及び動作を有する部分について同様な図面符号を付けた。また、いずれかの部分が他の部分と電気的に連結(ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ ｃｏｕｐｌｅｄ)されていることは、直接的に連結されている場合のみならず、その中間に他の素子を間に置いて連結されている場合も含む。
図１には、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示したブロック図が示されている。
図１に示すように、液晶表示装置１０は、液晶表示パネル(以下、パネル１００)、Ｘ電極駆動部２００、Ｙ電極駆動部３００とを含む。
前記パネル１００は、行方向に配列されている複数の第１透明電極(Ｘ[１]、Ｘ[２]、…、Ｘ[ｎ])と、列方向に配列される複数の第２透明電極(Ｙ[１]、Ｙ[２]、…、Ｙ[ｍ])と、前記の複数の第１透明電極(Ｘ[１]、Ｘ[２]、…、Ｘ[ｎ])及び第２透明電極(Ｙ[１]、Ｙ[２]、…、Ｙ[ｍ])によって定義される画素(１５０、Ｐｉｘｅｌ)とを含むことができる。ここで、前記画素１５０は、１つの第１透明電極と第２透明電極の交差する交差点で定義された領域に形成される。
前記Ｘ電極駆動部２００は、前記パネル１００と電気的に連結された第１透明電極(Ｘ[１]、Ｘ[２]、…、Ｘ[ｎ])を介して前記パネル１００の画素１５０に電界を印加する。
前記Ｙ電極駆動部３００は、前記パネル１００と電気的に連結された第２透明電極(Ｙ[１]、Ｙ[２]、…、Ｙ[ｍ])を介して前記パネル１００の画素１５０に電界を印加する。
勿論、上述のように前記第１透明電極(Ｘ[１]、Ｘ[２]、…、Ｘ[ｎ])には、前記Ｘ電極駆動部２００から電圧が供給され、前記第２透明電極(Ｙ[１]、Ｙ[２]、…、Ｙ[ｍ])には前記のＹ電極駆動部３００から電圧が供給される。
図２ａないし図２ｂには、図１の液晶表示装置のパネルを示した斜視図と図１の２ｂ−２ｂ線の断面図が示されている。
図２ａないし図２ｂに示すように、液晶表示装置のパネル１００は第１基板部１１０、第２基板部１２０及び液晶１３０とを含む。
図２ａに示すように、第１基板部１１０は第１基板１１１、カラーフィルタ１１２、オーバーコート層１１３、絶縁膜１１４、フォトスペーサ１１５及び第１透明電極１１６とを含む。
前記第１基板１１１は、通常、ガラス基板を用い、前記第１基板１１１はガラスの化学造成によってソーダ石灰ガラス(Ｓｏｄａ ｌｉｍｅ Ｇｌａｓｓ)、中性ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス及びその等価物の中から選択されたいずれか１つに形成できるが、本発明でこれが限定されるものではない。
図２ｂに示すように前記カラーフィルタ１１２は、前記第１基板１１１の上部を覆うように形成される。前記カラーフィルタ１１２は、カラーフォトレジスト１１２ｂと前記カラーフォトレジスト１１２ｂとの間に位置するブラックマトリクス１１２ａを含む。前記カラーフォトレジスト１１２ｂは、赤色(Ｒｅｄ、Ｒ)フォトレジスト、緑色(Ｇｒｅｅｎ、Ｇ)フォトレジスト及び青色(Ｂｌｕｅ、Ｂ)フォトレジストからなり、前記カラーフォトレジスト１１２ｂはカラーフィルタに複数の行と列を有して配列される。ここで、パネル１００の画素１５０は、赤色(Ｒ)フォトレジスト、緑色(Ｇ)フォトレジスト及び青色(Ｂ)フォトレジストとを含む。すなわち、１つの画素１５０は、３個のフォトレジストを含む。ここで、前記ブラックマトリクス１１２ａは樹脂、クロム、カーボンブラック、酸化チタン及びその等価物の中から選択されたいずれか１つに形成できるが、本発明でこれが限定されるものではない。
前記オーバーコート層１１３は、前記カラーフィルタ１１２の上部を覆うように形成される。前記オーバーコート層１１３は、前記カラーフィルタ１１２を形成するときにブラックマトリクス１１２ａとカラーフォトレジスト１１２ｂとの間に発生される段差を平坦化する。前記オーバーコート層１１３は、アクリル(Ａｃｒｙｌ)系樹脂またはポリイミド(Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ)系樹脂及びその等価物の中から選択されたいずれか１つに形成できるが、本発明でこれが限定されるものではない。
前記絶縁膜１１４は、前記オーバーコート層１１３の上部を覆うように形成される。前記絶縁膜１１４は、前記オーバーコート層１１３の上部に形成される前記第１透明電極１１５との密着力を改善するために形成される。前記絶縁膜１１４は、酸化膜(ＳｉＯ２)及びその等価物の中から選択されたいずれか１つに形成できるが、本発明でこれが限定されるものではない。
前記フォトスペーサ１１５は、前記絶縁膜１１４の上部に前記カラーフィルタ１１２のブラックマトリクス１１２ａが形成された領域に対応する領域のうち一部分に形成される。前記フォトスペーサ１１５は、前記第１基板部１１０と第２基板部１２０との間の間隔(ｃｅｌｌ ｇａｐ)を制御して液晶１３０が形成される厚さを均一に維持するために形成される。このとき、前記フォトスペーサ１１５は前記第１基板部１１０との密着力が前記第２基板部１２０との密着力より良い。前記フォトスペーサ１１５は、前記第１透明電極１１６と第２透明電極１２２が交差する交差点である画素１５０に１つが形成されるように図示したが、画素１５０によるフォトスペーサ１１５の数を本発明でこれが限定されるものではない。前記青色(Ｂ)フォトレジストが小さく形成されて発生したブラックマトリクス１１２ａ領域にフォトスペーサ１１５が形成されたが、フォトスペーサ１１５が形成される領域を本発明でこれが限定されるものではない。すなわち、ブラックマトリクス１１２ａ領域のどこでもフォトスペーサ１１５は形成できる。前記フォトスペーサ１１５は、フォトリソグラフィ工程を用いて選択領域のみ形成することができる。ここで、前記フォトスペーサ１１５は、フォトリソグラフィ工程で形成されるので、カラーフォトレジスト１１２ｂの上部に所望しないスペーサが形成されて発生する光漏れのようなパネルの表示品質を低下させる現象を防止することができる。
前記第１透明電極１１６は、 前記フォトスペーサ１１５の側面で離隔されて前記絶縁膜１１４の上部を覆うように形成される。前記第１透明電極１１６は、カラーフィルタ１１２のカラーフォトレジスト１１２ｂを覆うように第１方向に配列される。図２ａないし図２ｂには、前記第１方向を行方向に図示したが、列方向に形成できる。このとき、前記第１透明電極１１６が行方向に形成される場合、前記第２透明電極１２２は列方向に形成され、第１透明電極１１６が列方向に形成される場合、下記する第２透明電極１２２は行方向に形成される。すなわち、図３に示すように、第１透明電極１１６と第２透明電極１２２は、お互いに直交するように形成される。前記第１透明電極１１６は、酸化インジウム(ＩＴＯ:Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ)酸化柱石(ＳｎＯ２)及びその等価物の中から選択されたいずれか１つに形成できるが、本発明でこれが限定されるものではない。
また、第２基板部１２０は、第２基板１２１と第２透明電極１２２とを含む。
前記第２基板１２１は、通常にガラス基板を用い、前記第２基板１２１はガラスの化学造成によってソーダ石灰ガラス(Ｓｏｄａ ｌｉｍｅ Ｇｌａｓｓ)、中性ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス及びその等価物の中から選択されたいずれか１つに形成できるが、本発明でこれが限定されるものではない。
前記第２透明電極１２２は、前記第２基板１２１と前記第１透明電極１１６との間に形成される。前記第２透明電極１２２は、前記第２基板１２１を覆うように第２方向に配列される。図２ａないし図２ｂには、前記第２方向を列方向に示したが、行方向に形成できる。このとき、前記第２透明電極１２２が行方向に形成される場合、前記第１透明電極１１６は列方向に形成され、第２透明電極１２２が列方向に形成される場合、前記第１透明電極１１６は行方向に形成される。すなわち、第１透明電極１１６と第２透明電極１２２は、お互いに直交するように形成される。このとき、前記第１透明電極１１６と第２透明電極１２２は、第１透明電極１１６と第２透明電極１２２との間に形成された液晶に電界を印加するため、お互いに離隔して形成される。前記第２透明電極１２２は、酸化インジウム(ＩＴＯ:Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ)酸化柱石(ＳｎＯ２)及びその等価物の中から選択されたいずれか１つに形成できるが、本発明でこれが限定されるものではない。
また、液晶１３０は、前記第１基板部１１０と第２基板部１２０との間に形成され、第１透明電極１１６と第２透明電極１２２との間に電界が印加されば液晶分子の配列を変化させる。このとき、パネル１００の画素１５０は、液晶分子の配列によって映像を表示するようになる。前記液晶１３０は、カラースーパーツイストネマチック(Ｃｏｌｏｒ Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ、以下、ＣＳＴＮ)液晶を用いる。前記ＣＳＴＮ液晶は、ねじり角が２４０度ないし２７０度で印加電圧による透過図が非常に急激に変化される点を利用することとして、受動型マトリクス駆動に好適である。
図３には、図１の液晶表示装置のパネルを拡大して示した平面図が示されている。
先ず、図３に示すように、パネル１００の平面図はカラーフォトレジスト１１２ｂ、フォトスペーサ１１５、第１透明電極１１６及び第２透明電極１２２を拡大して示した。
前記カラーフォトレジスト１１２ｂは、赤色(Ｒ)フォトレジスト、緑色(Ｇ)フォトレジスト及び青色(Ｂ)フォトレジストからなり、前記カラーフォトレジスト１１２ｂはカラーフィルタ１１２に複数の行と列を有して配列される。前記カラーフォトレジスト１１２ｂの間には、ブラックマトリクス１１２ａが形成される。ここで、パネル１００の画素１５０は、赤色(Ｒ)フォトレジスト、緑色(Ｇ)フォトレジスト及び青色(Ｂ)フォトレジストとを含む。すなわち、１つの画素１５０は、３個のフォトレジストを含む。
前記フォトスペーサ１１５は、ブラックマトリクス１１２ａが形成された領域の一部領域に形成される。前記青色(Ｂ)フォトレジストが赤色(Ｒ)フォトレジスト及び緑色(Ｇ)フォトレジストより小さく形成される。前記青色(Ｂ)フォトレジストが小さく形成されて発生するブラックマトリクス１１２ａ領域にフォトスペーサ１１５が形成されたが、フォトスペーサが１１５が形成される領域を本発明で限定されるものではない。すなわち、ブラックマトリクス１１２ａ領域のどこでもフォトスペーサ１１５は形成できる。そして、前記フォトスペーサ１１５は、画素１５０に１つが形成されるように図示したが、画素１５０によるフォトスペーサ１１５の数を本発明でこれが限定されるものではない。
前記第１透明電極１１６は、カラーフィルタ１１２のカラーフォトレジスト１１２ｂを覆うように第１方向に配列される。図３で、第１方向を行方向に示したが、列方向に形成できる。このとき、前記第１透明電極１１６が行方向に形成される場合、前記第２透明電極１２２は列方向に形成され、第１透明電極１１６が列方向に形成される場合、前記第２透明電極１２２は行方向に形成される。すなわち、第１透明電極１１６と第２透明電極１２２は、お互いに直交するように形成される。そして、このとき、前記第１透明電極１１６と第２透明電極１２２は、お互いに直交する交差点は画素１５０になる。
前記第２透明電極１２２は、前記第１透明電極１１６が配列された第１方向と直交する第２方向に配列される。ここで、前記第２透明電極１２２は、赤色(Ｒ)フォトレジストの上部を覆うように第２方向に形成される第２赤色透明電極１２２Ｒ、緑色(Ｇ)フォトレジスト上部を覆うように第２方向に形成される第２緑色透明電極１２２Ｇ及び青色(Ｂ)フォトレジストの上部を覆うように第２方向に形成される第２青色透明電極１２２ｂからなる。図３では、前記第２方向を列方向に示したが、行方向に形成でき、前記第２方向が行方向であれば、第１方向に形成された前記第１透明電極１１６は列方向に配列される。そして、このとき、前記第１透明電極１１６と第２透明電極１２２がお互いに直交する交差点は画素１５０になる。前記第１透明電極１１６と第２透明電極１２２Ｒ、１２２Ｇ、１２２ｂとの間に電界が印加されば、液晶分子の配列を変化させる。このとき、パネル１００の画素１５０は、液晶分子の配列によって映像を表示するようになる。
以下、上述した液晶表示装置を得るための製造方法を説明する。
図４には、図２ｂの液晶表示装置の製造方法を示した手順図が示されている。図４に示すように、液晶表示装置の製造方法は第１基板準備段階Ｓ１、カラーフィルタ形成段階Ｓ２、オーバーコート層形成段階Ｓ３、絶縁膜形成段階Ｓ４、フォトスペーサ形成段階Ｓ５、第１透明電極形成段階Ｓ６、第１透明電極パターニング段階Ｓ７、第２基板合着段階Ｓ８及び液晶注入段階Ｓ９とを含む。
図５ａないし図５ｉには、図４に示された液晶表示装置の製造方法を示した断面図が示されている。
図５ａに示すように、第１基板準備段階Ｓ１では、ほぼ平らな或いは完全に平らな第１面１１１ａと、前記第１面１１１ａの反対面としてほぼ平らな或いは完全に平らな第２面１１１ｂを有する第１基板１１１を用意する。前記第１基板１１１は、ガラスの化学造成によってソーダ石灰ガラス(Ｓｏｄａ ｌｉｍｅ Ｇｌａｓｓ)、中性ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス及びその等価物の中から選択されたいずれか１つに形成できるが、本発明でこれが限定されるものではない。
図５ｂに示すように、カラーフィルタ形成段階Ｓ２では、前記第１基板１１１の第１面１１１ａに遮光物質を蒸着した後、露光及び現象工程を介してパターニングした後に硬化させてブラックマトリクス１１２ａを形成する。前記遮光物質は、樹脂、クロム、カーボンブラック、酸化チタン及びその等価物の中から選択されたいずれか１つに形成できるが、本発明でこれが限定されるものではない。また、前記ブラックマトリクス１１２ａが形成されない画素１５０領域に色を発現する顔料を含むそれぞれの感光膜を順次に塗布して露光及び現象工程を経った後、硬化させてカラーフォトレジスト１１２ｂを形成してカラーフィルタ１１２を形成する。前記カラーフォトレジスト１１２ｂは、赤色(Ｒｅｄ、Ｒ)フォトレジスト、緑色(Ｇｒｅｅｎ、Ｇ)フォトレジスト及び青色(Ｂｌｕｅ、Ｂ)フォトレジストからなる。
図５ｃに示すように、オーバーコート層形成段階Ｓ３では、前記カラーフィルタ１１２を全部覆うようにオーバーコート層１１３を蒸着する。前記オーバーコート層１１３は、前記カラーフィルタ１１２を形成するときにブラックマトリクス１１２ａとカラーフォトレジスト１１２ｂとの間に発生される段差を平坦化する。前記オーバーコート層１１３は、アクリル(Ａｃｒｙｌ)系樹脂またはポリイミド(Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ)系樹脂及びその等価物の中から選択されたいずれか１つに形成できるが、本発明でこれが限定されるものではない。
図５ｄに示すように、絶縁膜形成段階Ｓ４では、前記オーバーコート層１１３を全部覆うように絶縁膜１１４を蒸着する。前記絶縁膜１１４は、蒸着熱酸化(ｔｈｅｒｍａｌ ｏｘｉｄａｔｉｏｎ)法、化学気相蒸着(ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＣＶＤ)方法、また電気化学的酸化(ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ ｏｘｉｄａｔｉｏｎ、ａｎｏｄｉｚａｔｉｏｎ)方法及びその等価方法の中から選択されたいずれか１つを用いて形成できるが、ここでその方法が限定されるものではない。前記絶縁膜１１４は、酸化膜(ＳｉＯ２)及びその等価物の中から選択されたいずれか１つに形成できるが、本発明でこれが限定されるものではない。
図５ｅに示すように、フォトスペーサ形成段階Ｓ５では、前記絶縁膜１１４を全部覆うようにフォトレジスト塗布して露光、現象及び蝕刻を介して所望位置にフォトスペーサ１１５を形成する。前記フォトスペーサ１１５は、フォトリソグラフィ工程に形成されるので、カラーフォトレジスト１１２ｂの上部に所望しないスペーサが形成されて発生する光漏れのようなパネルの表示品質を低下させる現象を防止することができる。
図５ｆに示すように、第１透明電極形成段階Ｓ６では、前記絶縁膜１１４と前記フォトスペーサ１１５を覆うように電極性物質である第１透明電極１１６を蒸着する。前記電極性物質は、酸化インジウム(ＩＴＯ:Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ)、酸化柱石(ＳｎＯ２)及びその等価物の中から選択されたいずれか１つに形成できるが、本発明でこれが限定されるものではない。前記第１透明電極１１６形成方法は、スクリーン印刷方法、オフセット印刷方法、フォトリソグラピ方法及びその等価方法の中から選択されたいずれか１つを用いて形成できるが、ここでその方法が限定されるものではない。
図５ｇに示すように、第１透明電極パターニング段階Ｓ７では、前記電極性物質をパターニングして第１方向に配列された第１透明電極１１６を形成する。前記パターニングを進行時には、前記フォトスペーサ１１５の上部と前記フォトスペーサ１１５の側面に形成された第１透明電極１１６も共に除去する。前記第１透明電極１１６パターニング方法は、フォトレジストコーティングの後に露光及び現象で第１透明電極を蝕刻してパターニングするフォトリソグラフィ工程で形成できるが、ここでその方法が限定されるものではない。
図５ｈに示すように、第２基板合着段階Ｓ８では、前記形成された第１基板部１１０の第１透明電極１１６とカラーフィルタ１１２が第２基板部１２０の第２透明電極１２２と交差するように前記第１基板部１１０に第２基板部１２０を精密に貼り合わせる。このとき、第１基板部１１０と第２基板部１２０を接着、固定して液晶が入れられるフレームを作るためにシール(ｓｅａｌ、図示せず)を印刷した後に第１基板部１１０と第２基板部１２０との間を貼り合わせる。前記の合着方法としては、真空合着、高温合着及び加圧合着に形成できるが、ここでその方法が限定されるものではない。ここで、前記第２基板部１２０の第２基板は、ガラスの化学造成によってソーダ石灰ガラス(Ｓｏｄａ ｌｉｍｅ Ｇｌａｓｓ)、中性ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス及びその等価物の中から選択されたいずれか１つに形成できるが、本発明でこれが限定されるものではない。そして、第２基板部１２０の第２透明電極１２２は、第１透明電極１１６と同一工程で形成及びパターニングすることができる。
図５ｉに示すように、液晶注入段階Ｓ９では、第１基板部１１０と第２基板部１２０との間に液晶１３０を注入する。前記液晶１３０は、第１基板部１１０と第２基板部１２０との間の内部の空の空間を満たすようになる。前記液晶１３０注入方法は、液晶ディスペンサーを利用して注入口に第１基板部１１０と第２基板部１２０との間の内部に液晶を注入して注入口を封止する方法で注入することができるが、ここでその方法が限定されるものではない。
このような液晶表示装置製作方法は、従来の第１透明電極１１６を形成した後にスペーサを形成する製作方法に比べて、前記第１透明電極１１６形成工程を最後に行うことから、液晶表示装置のパネル製作工程で工程ラインを変更することに用いられる必要費用を減少して従来に比べてより安定的にパネルを製作することができる。また、本発明では、第１透明電極１１６を形成する前にフォトスペーサ１１５を形成することから、フォトスペーサ１１５が形成される以前まで第１基板部１１０を形成する工程ラインと同一な工程ラインで製作可能なフォトリソグラフィ工程でフォトスペーサ１１５を形成することができる。
以上、本発明は、上述した特定の好適な実施例に限定されるものではなく、特許請求範囲から請求する本発明の基本概念に基づき、当該技術分野における通常の知識を有する者であれば、様々な実施変形が可能であり、そのような変形は本発明の特許請求範囲に属するものである。
１０００…液晶表示装置
１００…パネル
２００…Ｘ電極駆動部
３００…Ｙ電極駆動部
１１０…第１基板部
１１１…第１基板
１１２…カラーフィルタ
１１３…オーバーコート層
１１４…絶縁膜
１１５…フォトスペーサ
１１６…第１透明電極
１２０…第２基板部
１２１…第１基板
１２２…第２透明電極
１３０…液晶
１５０…画素

Claims (16)

  1. 第１基板と、
    前記第１基板を覆うように形成され、ブラックマトリクスとカラーフォトレジストとを含むカラーフィルタと、
    前記カラーフィルタのブラックマトリクス上に上部方向に突出されるように形成されたフォトスペーサと、
    前記フォトスペーサが形成された領域以外の前記カラーフィルタを覆うように第１方向に配列された第１透明電極と、
    前記第１基板に対向する方向に形成された第２基板及び、
    前記第２基板を覆うように第１方向と交差する第２方向に配列され、前記第２基板と前記第１透明電極との間に形成された第２透明電極とを含んでなることを特徴とする液晶表示装置。
  2. 前記フォトスペーサは、前記第１透明電極と前記第２透明電極が交差する領域の中で前記カラーフィルタのブラックマトリクス上に形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
  3. 前記第１透明電極は、前記フォトスペーサの側面で離隔されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
  4. 前記カラーフィルタと前記フォトスペーサとの間には、前記カラーフィルタを覆うようにオーバーコート層がさらに形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
  5. 前記オーバーコート層と前記フォトスペーサとの間には、前記オーバーコート層を覆うように絶縁膜がさらに形成されることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
  6. 前記第１基板に形成された前記第１透明電極と前記第２基板に形成された前記第２透明電極との間に注入された液晶をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
  7. 前記液晶は、カラースーパーツイストネマチック(Ｃｏｌｏｒ Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ、ＣＳＴＮ)液晶であることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
  8. 前記カラーフォトレジストは、赤色フォトレジスト、緑色フォトレジスト及び青色フォトレジストからなり、前記カラーフィルタに複数の行と列を有して配列されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
  9. 前記第１透明電極と前記第２透明電極の交差点に対応する領域として、前記赤色フォトレジスト、前記緑色フォトレジスト及び前記青色フォトレジストからなる領域である画素を含んでなることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
  10. 前記第１透明電極と前記第２透明電極は、お互いに直交して形成され、前記第１透明電極と前記第２透明電極はお互いに離隔して形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
  11. 第１基板を準備する第１基板準備段階と、
    前記第１基板を覆うようにブラックマトリクスとカラーフォトレジストを形成するカラーフィルタ形成段階と、
    前記ブラックマトリクス上に上部方向に突出されるようにフォトスペーサを形成するフォトスペーサ形成段階と、
    前記カラーフィルタを覆うように第１透明電極を形成する第１透明電極形成段階と、
    前記第１透明電極のうち前記フォトスペーサの上部と側面に形成された第１透明電極を除去し、前記第１方向に第１透明電極が配列されるように第１透明電極をパターニングする第１透明電極パターニング段階及び、
    前記第１基板に第２基板を貼り合わせる第２基板合着段階を含んでなることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  12. 前記カラーフォトレジストは、赤色フォトレジスト、緑色フォトレジスト及び青色フォトレジストからなり、前記カラーフィルタに複数の行と列を有して配列されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
  13. 前記第１透明電極パターニング段階では、前記赤色フォトレジスト、前記緑色フォトレジスト及び前記青色フォトレジストを含む領域である画素を基準として、第１方向に第１透明電極が配列されるように第１透明電極をパターニングすることを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置の製造方法。
  14. 前記カラーフィルタ形成段階以後には、前記カラーフィルタを覆うようにオーバーコート層を形成するオーバーコート層形成段階をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
  15. 前記オーバーコート層形成段階以後には、前記オーバーコート層を覆うように絶縁層を形成する絶縁層形成段階をさらに含むことを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
  16. 第２基板合着段階以後には、前記第１基板と前記第２基板との間に液晶を注入する液晶注入段階をさらに含んでなることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
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