JP2009135520A - 有機半導体回路基板 - Google Patents
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Abstract
【課題】製造方法を簡略化することができる有機半導体回路基板を提供する。
【解決手段】有機トランジスタ2、有機ダイオード3及び薄膜コンデンサ4を基板5に設けて形成される有機半導体回路基板1に関する。有機トランジスタ2は、ゲート電極6、ゲート絶縁層7、半導体層8及びソース・ドレイン電極9,10を積層して形成される。有機ダイオード3は、陽極11、半導体層12及び陰極13を積層して形成される。薄膜コンデンサ4は、陽極14、誘電体層15及び陰極16を積層して形成される。有機トランジスタ2のゲート絶縁層7と薄膜コンデンサ4の誘電体層15とが五酸化タンタル、二酸化チタン、三酸化アルミニウム、チタン酸バリウム及びチタン酸バリウム・ストロンチウムから選択される同じ誘電体材料17で形成され、かつ、有機トランジスタ2の半導体層8と有機ダイオード3の半導体層12とが同じ有機半導体材料18で形成される。
【選択図】図1
【解決手段】有機トランジスタ2、有機ダイオード3及び薄膜コンデンサ4を基板5に設けて形成される有機半導体回路基板1に関する。有機トランジスタ2は、ゲート電極6、ゲート絶縁層7、半導体層8及びソース・ドレイン電極9,10を積層して形成される。有機ダイオード3は、陽極11、半導体層12及び陰極13を積層して形成される。薄膜コンデンサ4は、陽極14、誘電体層15及び陰極16を積層して形成される。有機トランジスタ2のゲート絶縁層7と薄膜コンデンサ4の誘電体層15とが五酸化タンタル、二酸化チタン、三酸化アルミニウム、チタン酸バリウム及びチタン酸バリウム・ストロンチウムから選択される同じ誘電体材料17で形成され、かつ、有機トランジスタ2の半導体層8と有機ダイオード3の半導体層12とが同じ有機半導体材料18で形成される。
【選択図】図1
Description
本発明は、有機トランジスタ、有機ダイオード及び薄膜コンデンサを基板に設けて形成される有機半導体回路基板に関するものである。
近年、有機半導体デバイスの開発が盛んに行われ、これらの実用化検討が始まってきており、それと同時に集積化技術も重要となっている。
特に、有機EL(エレクトロルミネッセンス)ディスプレイ分野における開発は目覚ましく、その表示用のスイッチチング機能として有機トランジスタが注目され、有機ELと有機トランジスタを集積化したデバイス及びその製造方法が報告されている。
例えば、特許文献1に記載された発明は、薄膜トランジスタ(TFT)が発光ダイオード(LED)とモノリシックに集積化されたデバイスに係るものであり、このデバイスは次のような工程で作製されている。すなわち、一体となった基板上に、薄膜トランジスタのゲート接触と発光ダイオードの陽極を形成する工程;ゲート接触上に誘電体材料の層を形成する工程;誘電体材料の層上に、有機半導体材料の層を形成する工程;誘電体材料の層上に有機半導体材料の層を形成する前又は形成した後に、薄膜トランジスタのソース接触及びドレイン接触を形成し、ソース接触及びドレイン接触の1つは、陽極に電気的に接続される工程;発光ダイオードの陽極上に、有機発光材料の層を形成する工程;及び有機発光材料上に、陰極を形成する工程である。
そして、上記のような集積化方法が他にも数多く報告されているが、有機ELと有機トランジスタの集積化に関するものが大部分であり、それ以外のデバイス回路(有機半導体デバイス)あるいは3つ以上のデバイス回路の集積化についてはあまり報告されていない。
既述の通り、有機EL及び有機トランジスタに代表される有機半導体デバイスの集積化は進んでいるものの、現在提供されている集積化の方法はどれも複雑なものである。
今後、更なる有機半導体デバイスの性能向上に伴い、無機半導体回路は有機半導体回路に置き換わると考えられるため、様々な有機半導体回路の高集積化・製造技術が必要になるものと考えられる。
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、製造方法を簡略化することができる有機半導体回路基板を提供することを目的とするものである。
本発明の請求項1に係る有機半導体回路基板は、有機トランジスタ2、有機ダイオード3及び薄膜コンデンサ4を基板5に設けて形成される有機半導体回路基板1であって、前記有機トランジスタ2は、ゲート電極6、ゲート絶縁層7、半導体層8及びソース・ドレイン電極9,10をこの順に積層して形成され、前記有機ダイオード3は、陽極11、半導体層12及び陰極13をこの順に積層して形成され、前記薄膜コンデンサ4は、陽極14、誘電体層15及び陰極16をこの順に積層して形成されると共に、前記有機トランジスタ2のゲート絶縁層7と前記薄膜コンデンサ4の誘電体層15とが五酸化タンタル、二酸化チタン、三酸化アルミニウム、チタン酸バリウム及びチタン酸バリウム・ストロンチウムから選択される同じ誘電体材料17で形成され、かつ、前記有機トランジスタ2の半導体層8と前記有機ダイオード3の半導体層12とが同じ有機半導体材料18で形成されて成ることを特徴とするものである。
請求項2の発明は、請求項1において、前記有機半導体材料18として、ペンタセン及び金属フタロシアニンから選択されるものを用いて成ることを特徴とするものである。
請求項3の発明は、請求項1又は2において、前記有機トランジスタ2のゲート絶縁層7と前記薄膜コンデンサ4の誘電体層15とが同じ厚みであることを特徴とするものである。
請求項4の発明は、請求項1乃至3のいずれかにおいて、前記有機トランジスタ2の半導体層8と前記有機ダイオード3の半導体層12とが同じ厚みであることを特徴とするものである。
本発明の請求項1に係る有機半導体回路基板によれば、有機トランジスタのゲート絶縁層と薄膜コンデンサの誘電体層とを共通の材料で形成し、かつ、有機トランジスタの半導体層と有機ダイオードの半導体層とを共通の材料で形成することにより、製造方法を簡略化することができると共に、他の誘電体材料を用いるよりも、デバイス特性が優れた有機半導体回路基板を製造することができるものである。
請求項2の発明によれば、他の有機半導体材料を用いるよりも、デバイス特性が優れた有機半導体回路基板を製造することができるものである。
請求項3の発明によれば、有機トランジスタのゲート絶縁層と薄膜コンデンサの誘電体層とを同じ厚みで形成することにより、製造方法をさらに簡略化することができるものである。
請求項4の発明によれば、有機トランジスタの半導体層と有機ダイオードの半導体層とを同じ厚みで形成することにより、製造方法をさらに簡略化することができるものである。
以下、本発明の実施の形態を説明する。
本発明に係る有機半導体回路基板1は、有機トランジスタ2、有機ダイオード3及び薄膜コンデンサ4の3種の有機半導体デバイスをそれぞれ少なくとも1つ以上基板5に設けて形成されるものであり、具体的にはこのような有機半導体回路基板1は、図1(断面図)及び図2(平面図)に示すような手順に従って製造することができる。以下においては、有機トランジスタ2、有機ダイオード3及び薄膜コンデンサ4をそれぞれ1つずつ基板5に設けて形成される有機半導体回路基板1について説明するが、本発明はこのような有機半導体回路基板1に限定されるものではない。
まず、図1(a)及び図2(a)に示すように、基板5の表面に電極材料19を供給することによって、有機トランジスタ2のゲート電極6、有機ダイオード3の陽極11及び薄膜コンデンサ4の陽極14を同時に形成する。ここで、基板5としては、特に限定されるものではないが、例えば、フィルム基板、ガラス基板、Si基板等を用いることができる。また、電極材料19としては、特に限定されるものではないが、例えば、金、ITO(Indium Tin Oxide)、アルミニウム等を用いることができる。電極材料19を基板5に供給するにあたっては、スパッタリングや真空蒸着による薄膜の製膜法を行うことができ、また、パターンニングはメタルマスク等を用いて公知の方法で行うことができる。このようにして得られる有機トランジスタ2のゲート電極6、有機ダイオード3の陽極11及び薄膜コンデンサ4の陽極14の厚みは500〜2000Åであることが好ましい。
次に、図1(b)及び図2(b)に示すように、有機トランジスタ2のゲート電極6及び薄膜コンデンサ4の陽極14の表面に誘電体材料17を供給することによって、有機トランジスタ2のゲート絶縁層7及び薄膜コンデンサ4の誘電体層15を同時に形成する。ここで、誘電体材料17としては、五酸化タンタル、二酸化チタン、三酸化アルミニウム、チタン酸バリウム及びチタン酸バリウム・ストロンチウムから選択されるものを用いるのが好ましい。このような誘電体材料17を用いると、他の誘電体材料17を用いるよりも、デバイス特性が優れた有機半導体回路基板1を製造することができるものである。具体的には、有機トランジスタ2についてはキャリア移動度を高めることができ、また、薄膜コンデンサ4については所望の静電容量を得ることができるものである。誘電体材料17を供給するにあたっては、スパッタリングや真空蒸着による薄膜の製膜法を行うことができる。このとき、有機トランジスタ2のゲート絶縁層7と薄膜コンデンサ4の誘電体層15とが同じ厚みであることが好ましい。このように同じ厚みであれば、これらの層7,15の形成を同時に開始することによりこれらの層7,15の形成を同時に終了させることが可能となり、有機半導体回路基板1の製造方法をさらに簡略化することができるものである。このようにして得られる有機トランジスタ2のゲート絶縁層7及び薄膜コンデンサ4の誘電体層15の厚みは1000〜5000Åであることが好ましい。
次に、図1(c)及び図2(c)に示すように、有機トランジスタ2のゲート絶縁層7及び有機ダイオード3の陽極11の表面に有機半導体材料18を供給することによって、有機トランジスタ2の半導体層8及び有機ダイオード3の半導体層12を同時に形成する。ここで、有機半導体材料18としては、ペンタセン及び銅フタロシアニン等の金属フタロシアニンから選択されるものを用いるのが好ましい。このような有機半導体材料18を用いると、他の有機半導体材料18を用いるよりも、デバイス特性が優れた有機半導体回路基板1を製造することができるものである。具体的には、有機トランジスタ2についてはキャリア移動度を高めることができ、また、有機ダイオード3については優れた電流−電圧特性(I−V特性)を得ることができるものである。有機半導体材料18を供給するにあたっては、スパッタリングや真空蒸着による薄膜の製膜法を行うことができる。このとき、有機トランジスタ2の半導体層8と有機ダイオード3の半導体層12とが同じ厚みであることが好ましい。このように同じ厚みであれば、これらの層8,12の形成を同時に開始することによりこれらの層8,12の形成を同時に終了させることが可能となり、有機半導体回路基板1の製造方法をさらに簡略化することができるものである。このようにして得られる有機トランジスタ2の半導体層8及び有機ダイオード3の半導体層12の厚みは500〜1500Åであることが好ましい。
その後、図1(d)及び図2(d)に示すように、有機トランジスタ2の半導体層8、有機ダイオード3の半導体層12、薄膜コンデンサ4の誘電体層15及び基板5の表面に電極材料19を供給することによって、有機トランジスタ2のソース・ドレイン電極9,10、有機ダイオード3の陰極13及び薄膜コンデンサ4の陰極16並びに有機トランジスタ2、有機ダイオード3及び薄膜コンデンサ4を導通する配線パターン20を同時に形成する。なお、ソース・ドレイン電極9,10は、ソース電極9とドレイン電極10からなるものであり、これらは分離していずれも半導体層8の表面に形成されている。以上のようにして有機半導体回路基板1を簡便に製造することができるものである。ここで、電極材料19としては、特に限定されるものではないが、例えば、金、ITO、アルミニウム等を用いることができる。電極材料19を供給するにあたっては、スパッタリングや真空蒸着による薄膜の製膜法を行うことができ、また、パターンニングはメタルマスク等を用いて公知の方法で行うことができる。このようにして得られる有機トランジスタ2のソース・ドレイン電極9,10、有機ダイオード3の陰極13及び薄膜コンデンサ4の陰極16並びに有機トランジスタ2、有機ダイオード3及び薄膜コンデンサ4を導通する配線パターン20の厚みは500〜1500Åであることが好ましい。また、有機トランジスタ2の性能については、図1(d)に示すようにソース電極9及びドレイン電極10の部分が半導体層8の上に形成される上部接触の方が、ソース電極9及びドレイン電極10の部分が半導体層8の下に形成される下部接触よりも、特性が良好であるため、上部接触の方が好ましい。
本発明に係る有機半導体回路基板にあっては、有機トランジスタ2は、ゲート電極6、ゲート絶縁層7、半導体層8及びソース・ドレイン電極9,10をこの順に積層して形成され、有機ダイオード3は、陽極11、半導体層12及び陰極13をこの順に積層して形成され、薄膜コンデンサ4は、陽極14、誘電体層15及び陰極16をこの順に積層して形成されると共に、有機トランジスタ2のゲート絶縁層7と薄膜コンデンサ4の誘電体層15とが同じ誘電体材料17で形成され、かつ、有機トランジスタ2の半導体層8と有機ダイオード3の半導体層12とが同じ有機半導体材料18で形成されているので、有機トランジスタ2のゲート絶縁層7と薄膜コンデンサ4の誘電体層15とを共通の材料で形成し、かつ、有機トランジスタ2の半導体層8と有機ダイオード3の半導体層12とを共通の材料で形成することにより、製造方法を簡略化することができ、簡便に有機半導体回路基板1を製造することができるものである。よって、結果として有機半導体回路基板1の生産性を向上させることができるものである。そして、このようにして得られる有機半導体回路基板1は、例えば、高周波無線タグ等に応用することができるものである。
図1及び図2に示す有機半導体回路基板1は、有機トランジスタ2、有機ダイオード3及び薄膜コンデンサ4をそれぞれ1つずつ基板5に設けて形成される最も簡単な構造を取るものであるが、有機トランジスタ2、有機ダイオード3及び薄膜コンデンサ4のうち1種、2種又は3種すべての有機半導体デバイスを複数個同一の基板5に設けて有機半導体回路基板1を形成してもよい。そうすると、例えば、有機ダイオード3でブリッジ回路を形成することにより、交流電流を整流することが可能となるものである。
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。
まず、基板5に電極材料19を供給することによって、有機トランジスタ2のゲート電極6、有機ダイオード3の陽極11及び薄膜コンデンサ4の陽極14を同時に形成した(図1(a)及び図2(a))。ここで、基板5としては、シクロオレフィン系フィルム基板を用いた。また、電極材料19としては、ITOを用いた。これをフィルム基板に供給するにあたっては、スパッタリングによる薄膜の製膜法を行った。このようにして得られた有機トランジスタ2のゲート電極6、有機ダイオード3の陽極11及び薄膜コンデンサ4の陽極14の厚みはいずれも1000Åであった。なお、後に配線パターン20を形成する都合上、有機トランジスタ2のゲート電極6、有機ダイオード3の陽極11及び薄膜コンデンサ4の陽極14は若干大きめに形成してある。
次に、有機トランジスタ2のゲート電極6及び薄膜コンデンサ4の陽極14に誘電体材料17を供給することによって、有機トランジスタ2のゲート絶縁層7及び薄膜コンデンサ4の誘電体層15を同時に形成した(図1(b)及び図2(b))。ここで、誘電体材料17としては、五酸化タンタルを用いた。これを供給するにあたっては、スパッタリングによる薄膜の製膜法を行った。このようにして得られた有機トランジスタ2のゲート絶縁層7及び薄膜コンデンサ4の誘電体層15の厚みはいずれも3800Åであった。
次に、有機トランジスタ2のゲート絶縁層7及び有機ダイオード3の陽極11に有機半導体材料18を供給することによって、有機トランジスタ2の半導体層8及び有機ダイオード3の半導体層12を同時に形成した(図1(c)及び図2(c))。ここで、有機半導体材料18としては、ペンタセンを用いた。これを供給するにあたっては、真空蒸着による薄膜の製膜法を行った。このようにして得られた有機トランジスタ2の半導体層8及び有機ダイオード3の半導体層12の厚みはいずれも1000Åであった。
その後、有機トランジスタ2の半導体層8、有機ダイオード3の半導体層12、薄膜コンデンサ4の誘電体層15及び基板5に電極材料19を供給することによって、有機トランジスタ2のソース・ドレイン電極9,10、有機ダイオード3の陰極13及び薄膜コンデンサ4の陰極16並びに有機トランジスタ2、有機ダイオード3及び薄膜コンデンサ4を導通する配線パターン20を同時に形成した(図1(d)及び図2(d))。このようにして有機半導体回路基板1を製造した。これについての電気回路図を図3に示す。ここで、有機ダイオード3の陰極13及び薄膜コンデンサ4の陰極16を形成するための電極材料19としては、アルミニウムを用い、また、有機トランジスタ2のソース・ドレイン電極9,10及び配線パターン20を形成するための電極材料19としては、金を用いた。いずれの電極材料19を供給するにあたっても、真空蒸着による薄膜の製膜法を行った。また、パターンニングはメタルマスクを用いて行った。このようにして得られた有機ダイオード3の陰極13及び薄膜コンデンサ4の陰極16の厚みは1000Åであり、また、上記のようにして得られた有機トランジスタ2のソース・ドレイン電極9,10及び配線パターン20の厚みは500Åであった。以上のようにして有機半導体回路基板1を簡便に製造することができた。
そして、上記のようにして得られた有機半導体回路基板1のデバイス特性を調査したところ、以下のような結果が得られた。すなわち、有機ダイオード3については、図4に示すように逆電圧印加時における漏れ電流がほぼゼロであり、優れた電流−電圧特性を得ることができた。また、有機トランジスタ2については、0.1cm2/Vs以上という高いキャリア移動度を得ることができた。さらに、薄膜コンデンサ4については、その面積を変化させることにより、容易に所望の静電容量を得ることができた。
1 有機半導体回路基板
2 有機トランジスタ
3 有機ダイオード
4 薄膜コンデンサ
5 基板
6 ゲート電極
7 ゲート絶縁層
8 半導体層
9 ソース電極
10 ドレイン電極
11 陽極
12 半導体層
13 陰極
14 陽極
15 誘電体層
16 陰極
17 誘電体材料
18 有機半導体材料
19 電極材料
20 配線パターン
2 有機トランジスタ
3 有機ダイオード
4 薄膜コンデンサ
5 基板
6 ゲート電極
7 ゲート絶縁層
8 半導体層
9 ソース電極
10 ドレイン電極
11 陽極
12 半導体層
13 陰極
14 陽極
15 誘電体層
16 陰極
17 誘電体材料
18 有機半導体材料
19 電極材料
20 配線パターン
Claims (4)
- 有機トランジスタ、有機ダイオード及び薄膜コンデンサを基板に設けて形成される有機半導体回路基板であって、前記有機トランジスタは、ゲート電極、ゲート絶縁層、半導体層及びソース・ドレイン電極をこの順に積層して形成され、前記有機ダイオードは、陽極、半導体層及び陰極をこの順に積層して形成され、前記薄膜コンデンサは、陽極、誘電体層及び陰極をこの順に積層して形成されると共に、前記有機トランジスタのゲート絶縁層と前記薄膜コンデンサの誘電体層とが五酸化タンタル、二酸化チタン、三酸化アルミニウム、チタン酸バリウム及びチタン酸バリウム・ストロンチウムから選択される同じ誘電体材料で形成され、かつ、前記有機トランジスタの半導体層と前記有機ダイオードの半導体層とが同じ有機半導体材料で形成されて成ることを特徴とする有機半導体回路基板。
- 前記有機半導体材料として、ペンタセン及び金属フタロシアニンから選択されるものを用いて成ることを特徴とする請求項1に記載の有機半導体回路基板。
- 前記有機トランジスタのゲート絶縁層と前記薄膜コンデンサの誘電体層とが同じ厚みであることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機半導体回路基板。
- 前記有機トランジスタの半導体層と前記有機ダイオードの半導体層とが同じ厚みであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の有機半導体回路基板。
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