JP2009132133A5 - - Google Patents
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Claims (17)
- インクを吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を一方の面に有する基板と、
前記エネルギー発生素子に対応して設けられたインクの吐出口と、
前記吐出口に連通するインクの流路と、
前記基板の前記一方の面から前記一方の面の裏面である他方の面までを貫通し、前記流路と連通する供給口と、
前記供給口の内壁を覆う膜と、
を有するインクジェット記録ヘッドであって、
前記膜は、前記一方の面の上にまで設けられ、かつ前記一方の面の上に設けられた層に覆われている、インクジェット記録ヘッド。 - 前記基板はシリコンで形成される、請求項1に記載のインクジェット記録ヘッド。
- 前記層は前記エネルギー発生素子を覆う層である、請求項1または2に記載のインクジェット記録ヘッド。
- 前記層はシリコンの窒化物で形成される、請求項1から3のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド。
- 前記膜の一部は、前記一方の面に設けられたシリコンの酸化物の層とシリコンの窒化物の前記層とに挟まれている、請求項4に記載のインクジェット記録ヘッド。
- 前記膜はポリパラキシリレンを含む、請求項1から5のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド。
- 前記層は、前記供給口の内壁面よりも、前記供給口から後退した位置に端部を有する、請求項1から6のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド。
- インクを吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を一方の面に有する基板と、
前記エネルギー発生素子に前記基板上で接続され、前記エネルギー発生素子を駆動するための信号を供給する駆動回路を構成する電極層と、
を有するインクジェット記録ヘッドであって、
前記基板は、前記基板の前記一方の面側で前記駆動回路と電気的に接続され、前記一方の面から前記一方の面の裏面である他方の面まで前記基板を貫通して設けられる貫通電極を有し、
前記貫通電極と前記基板との間に絶縁膜が設けられており、該絶縁膜は、前記一方の面の上にまで設けられ、かつ前記一方の面の上に設けられた層に覆われている、インクジェット記録ヘッド。 - 前記層は前記電極層である、請求項8に記載のインクジェット記録ヘッド。
- 前記絶縁膜は、前記電極層と、前記エネルギー発生素子を覆う層とに覆われている、請求項8または9に記載のインクジェット記録ヘッド。
- インクを吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を一方の面側に有する基板と、前記エネルギー発生素子に対応して設けられたインクの吐出口と、前記吐出口に連通するインクの流路と、前記基板の前記一方の面から前記一方の面の裏面である他方の面までを貫通し、前記流路と連通する供給口と、前記供給口の内壁を覆う膜と、を有するインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
前記基板の一方の面に前記基板に対して選択的に除去可能な犠牲層を形成する工程と、
前記犠牲層を覆うパッシベイション層を形成する工程と、
前記他方の面側から前記犠牲層の領域内に達する穴を前記基板に形成し、前記犠牲層を部分的に露出させる工程と、
前記犠牲層を除去する工程と、
前記一方の面の上で前記パッシベイション層と接するように、前記膜を形成する工程と、
前記穴を前記流路と連通させ、前記供給口とする工程と、
を有する、インクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 前記膜はポリパラキシリレンを含む、請求項11に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記パッシベイション層は窒化シリコンを含む、請求項11または12に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 基板の一方の面に設けられた電子回路と、
前記基板の前記一方の面から前記一方の裏面である他方の面に渡って前記基板を貫通して設けられ、前記電子回路と電気的に接続される貫通電極と、
前記貫通電極と前記基板との間に設けられた絶縁膜と、
を有する半導体デバイスであって、
前記絶縁膜は、前記基板の表面で前記基板の表面に設けられた層に覆われている、半導体デバイス。 - 前記層は前記電子回路を構成する層である、請求項14に記載の半導体デバイス。
- 前記層は窒化シリコンで形成される、請求項14または15に記載の半導体デバイス。
- 前記絶縁膜はポリパラキシリレンで形成される、請求項14から16のいずれか1項に記載の半導体デバイス。
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