JP2009131926A - 放電加工装置及び放電加工の段取り方法 - Google Patents

放電加工装置及び放電加工の段取り方法 Download PDF

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Abstract

【課題】被加工物の放電加工時と段取時とでテーブル定盤の温度を略同一にすることができる放電加工装置及び放電加工の段取り方法を得ること。
【解決手段】加工液が貯留される加工槽1と、前記加工槽1内の底板1bから所定の高さに載置面が存在し、被加工物4を載置するテーブル定盤2と、前記加工槽1に加工液貯蔵タンクから送られた加工液を供給する加工液供給口7と、前記加工液供給口7から供給され、前記加工槽1に貯留される加工液を排出する加工液排出手段5gと、加工液が前記テーブル定盤2の載置面を露出し浸漬するように、前記載置面高さに相当する高さを有した液面位調節手段6と、を備える。
【選択図】 図1

Description

本発明は、放電加工装置及び放電加工の段取り方法に関するものである。
従来、被加工体を浸漬する加工液が循環供給される加工槽と、上記加工槽中に浸漬された被加工体を上下から挟んで位置する一対のワイヤ電極ガイドとを有するワイヤカット放電加工装置において、上記ワイヤ電極ガイド近傍の加工液面水位を検出する検出器と、該検出器の検出出力に基づいて上記加工槽内に貯えられた加工液の一部を排出する機能とを備え、例えば、UV軸スライダ等のように浸漬してはならない部分に加工液が浸入することを確実に防止できるようにしたものがある(例えば、特許文献1参照)。
また、加工槽に固定されている外管と、該外管に対し上下に滑動可能な内管とを有し、前記内管を前記外管に対し上下に滑動させることにより、放電加工時の加工液面から加工槽底面までの液面位の調節を可能とする液面位調節手段を有し、前記加工槽へ加工液を供給する配管が前記内管の内側を貫通して配置されている放電加工装置がある(例えば、特許文献2参照)。
特開昭58−094935号公報 特開平07−314256号公報
しかしながら、上記の特許文献1に記載された技術によれば、テーブル定盤上に被加工物を載置して放電加工の段取りを行なうときは、加工槽内の加工液を全排出してテーブル定盤を空気に曝している。そのため、被加工物の放電加工時と段取時とでテーブル定盤の温度が異なり、テーブル定盤の熱歪みの影響を受けて被加工物の加工精度が出ない、という問題があった。また、特許文献2に記載された技術によれば、二重構造のパイプを上下する機構となっているため、高さ方向にスペースが必要であるのと、段取り時に必要な液面高さを、段取り毎に微調整する必要があった。さらに、パイプとパイプの間がパッキン構造のため、上下の摺動による経年変化により、液面位調整の信頼性が低い、という問題があった。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、被加工物の放電加工時と段取り時とでテーブル定盤の温度を略同一にすることができる放電加工装置及び放電加工の段取り方法を得ることを目的とする。また、簡単な構造で、段取り時に必要な液面位調節が可能な構造を実現することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、加工液が貯留される加工槽と、前記加工槽内の底板から所定の高さに載置面が存在し、被加工物を載置するテーブル定盤と、前記加工槽に加工液貯蔵タンクから送られた加工液を供給する加工液供給口と、前記加工液供給口から供給され、前記加工槽に貯留される加工液を排出する加工液排出手段と、加工液が前記テーブル定盤の載置面を露出し浸漬するように、前記載置面高さに相当する高さを有した液面位調節手段と、を備えることを特徴とする。
この発明によれば、被加工物の放電加工時と段取時とでテーブル定盤の温度を略同一にすることができる放電加工装置が得られる、という効果を奏する。
以下に、本発明にかかる放電加工装置の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。
実施の形態1.
図1は、本発明にかかる放電加工装置の実施の形態1を模式的に示す透視斜視図であり、図2は、加工液の第2排出路の縦断面図であり、図3は、実施の形態1の放電加工装置を模式的に示す縦断面図である。
図1〜図3に示すように、実施の形態1の放電加工装置100の加工槽1は、上方が開放された直方体状に形成されている。加工槽1には、被加工物4を浸漬するように、第1側板1aの低部に設けられた加工液供給口7から加工液が供給される。加工液は、加工槽1の下方に設置された加工液貯蔵タンク20(図3参照)から循環ポンプ21により加工液供給口7に供給される。
加工槽1内には、加工槽底板1bから所定の高さhに載置面が存在する直方体状のテーブル定盤2が設置されている。テーブル定盤2の載置面には、放電加工の段取時に、被加工物4が載置されクランプされる。
加工槽1の第1側板1aと直交する第2側板1cには、加工時液面位調節手段としてのオーバーフロー仕切板9を、ガイド溝に嵌合して上下移動させるガイド板1dが設けられている。握りレバー13を握りオーバーフロー仕切板9をガイド溝に沿って上下移動させ、加工液の液面位が被加工物4の放電加工面に対し、所定の高さになるように調節する。
第2側板1cの外側には、オーバーフローした加工液を加工液貯蔵タンク20に導く第1排出路1eが形成されている。第1排出路1eの第3側板1f寄りの加工槽底板1bには、第1排出口1gが設けられ、第1排出口1gには加工液貯蔵タンク20に連通する第1排出管1hが接続されている。
テーブル定盤2の上方には、放電加工ヘッド3aが上下動可能に配置され、放電加工ヘッド3aには、被加工物4を放電加工する電極3が取付けられている。第1側板1aの左方には、加工液の液面位を検出し検出値を出力するフロート式の液面位検出器8が設置されている。
加工槽1の一側板としての第2側板1cとテーブル定盤2との間の加工槽底板1b上には、テーブル定盤2の高さhと略同一のオーバーフロー高さ(オーバーフローする液面の高さ)を有する液面位調節手段としての堰6が設置されている。堰6は、堰6をオーバーフローした加工液を加工液貯蔵タンク20に導くチャンネル形の第2排出路5の一部として形成され、オーバーフロー高さが固定された固定堰である。堰6を、オーバーフロー高さが調節可能な可動堰としてもよい。
第2排出路5の天板には、堰6をオーバーフローした加工液の加工屑を捕捉し加工液のみを第2排出路5に通す多数の小孔5aが設けられている。堰6の一側板(第2側板1c)側となる第2排出路5の第3側板1f寄りの加工槽底板(底部)1bには、堰外排出口(加工液排出手段)としての第2排出口5gが設けられ、第2排出口5gには加工液貯蔵タンク20に連通する第2排出管5hが接続されている。第2排出管5hには、第2排出口5gの開閉手段としての開閉弁5iが接続されている。
通常、堰6のオーバーフロー高さは、テーブル定盤2の高さh以下とする。テーブル定盤2の高さh以下とすれば、加工液がテーブル定盤2の天部(載置面)を浸漬することがなく、載置面が露出し、被加工物4をテーブル定盤4に載置する放電加工の段取時に、テーブル定盤4上に設置する計測器等が加工液で汚されることはない。堰6は、ボルト5c(図2参照)により、加工槽1に着脱可能となっており、ユーザーにより、堰6を取外しメンテナンス可能としている。また、ユーザーの要望により、オーバーフロー高さが、テーブル定盤2の高さh以上の堰を設置してもよい。
堰6は、全長に亘り同一のオーバーフロー高さに形成されている。また、堰6は、テーブル定盤2に向かって凹となるように滑らかに湾曲形成され、加工槽1の加工液供給口7は、第1側板1aの、堰6の一端の接続部の近傍に設けられている。また、堰6のテーブル定盤2側の加工槽底板(底部)1bの第3側板1f寄りには、堰内排出口としての第3排出口6gが設けられ、第3排出口6gには加工液貯蔵タンク20に連通する第3排出管6hが接続されている。第3排出管6hには、第3排出口6gの開閉手段としての開閉弁6iが接続されている。
次に、上記のように構成された実施の形態1の放電加工装置100の作用について説明する。放電加工時には、開閉弁5i、6iを全て閉じ、加工液の液面位が、テーブル定盤2上に載置された被加工物4の放電加工面に対し、所定の高さになるように、オーバーフロー仕切板9の高さ調節を行なう。
循環ポンプ21を駆動し、加工液貯蔵タンク20から温度コントロールされた所定温度の加工液を汲み上げ、加工液供給口7から加工槽1に加工液を常時供給し、オーバーフロー仕切板9の上端から加工液をオーバーフローさせ、第1排出路1eを通して加工液貯蔵タンク20へ循環させる。この状態で、電極3を降下させ、被加工物4の放電加工を行なう。
上記の放電加工が終了した後、次の被加工物4をテーブル定盤2に載置、固定する段取時は、開閉弁5iを開き、加工槽1内の加工液を第2排出口5gから加工液貯蔵タンク20へ排出し、加工槽1の液面位を、テーブル定盤2の高さhと略同一の堰6のオーバーフロー高さまで下げる。
次に、循環ポンプ21を駆動し、加工液貯蔵タンク20から所定温度の加工液を汲み上げ、加工液供給口7から加工槽1に加工液を常時供給し、加工液を、湾曲した堰6から第3側板1f、第4側板1i、第1側板1aに沿ってテーブル定盤2の周りを循環させ(堰6がテーブル定盤2に向かって凹となるように滑らかに湾曲しているので、湾曲に沿って加工液が滑らかに循環する。)、テーブル定盤2の温度を所定温度(例えば、室内温)に保ちながら、堰6の上端からオーバーフローさせ、第2排出路5を通して第2排出口5gから加工液貯蔵タンク20へ循環させる。この状態で、テーブル定盤2上に次の被加工物4を載置、固定し、次の放電加工の段取りを行なう。
以上のように、所定温度(例えば、室内温)の加工液をテーブル定盤2の周りに循環させ、テーブル定盤2の温度を所定温度に保ちながら、テーブル定盤2上に次の被加工物4を載置、固定し、次の放電加工の段取りを行なうので、段取時と加工時のテーブル定盤2の温度が一定に保たれ、テーブル定盤2の歪みが最小に維持され、被加工物4の位置決めが高精度に行なわれるため、高精度な放電加工を行なうことができる。
また、被加工物4の放電加工後に、テーブル定盤2周りに加工屑が沈殿したときは、開閉弁6iを開き、加工槽1内の加工液を堰内排出口としての第3排出口6gから全排出することにより、加工屑を加工槽1内から排出することができる。
加工液を堰6の上端からオーバーフローさせながら行なう放電加工の段取り中に、開閉弁5iに加工屑が詰まる等して、加工液の液面位が設定されたオーバーフロー高さを超えようとするときは、液面位検出器8により、これを検出して警報を発することができる。
実施の形態2.
図4は、本発明にかかる放電加工装置の実施の形態2を模式的に示す縦断面図である。図4に示すように、実施の形態2の放電加工装置200が実施の形態1の放電加工装置100と異なるところは、堰6、第2排出路5、第2排出口5g、第2排出管5h及び開閉弁5i、6iの替わりに、第3排出口6gが設けられ、第3排出口6gには加工液貯蔵タンク20に連通する第3排出管6hが接続され、第3排出管6hには、第3排出口6gの開閉手段としての流量調整弁18が接続され、液面位検出器8からの検出信号に基づいて、流量調整弁18の開度又は循環ポンプ21の吐出量を調節する制御手段30が備えられていることである。
制御手段30には、段取時の液面位の上限値及び下限値が設定されていて、制御手段30は、液面位検出器8からの検出信号に基づいて、加工槽1内の液面位が、段取時の液面位の上限値以下且つ下限値以上(テーブル定盤2の高さと略同一)となるように、流量調整弁18の開度又は循環ポンプ21の吐出量を調節する。
以上のように、本発明にかかる放電加工装置及び放電加工の段取り方法は、高精度な放電加工を行なうものとして有用である。
本発明にかかる放電加工装置の実施の形態1を模式的に示す透視斜視図である。 加工液の第2排出路の縦断面図である。 実施の形態1の放電加工装置を模式的に示す縦断面図である。 本発明にかかる放電加工装置の実施の形態2を模式的に示す縦断面図である。
符号の説明
1 加工槽
1a 第1側板
1b 加工槽底板
1c 第2側板
1d ガイド板
1e 第1排出路
1f 第3側板
1g 第1排出口
1h 第1排出管
1i 第4側板
2 テーブル定盤
3 電極
3a 放電加工ヘッド
4 被加工物
5 第2排出路
5a 小孔
5c ボルト
5g 第2排出口(堰外排出口、加工液排出手段)
5h 第2排出管
5i 開閉弁
6 堰(液面位調節手段)
6g 第3排出口
6h 第3排出管
6i 開閉弁
7 加工液供給口
8 液面位検出器
9 オーバーフロー仕切板(加工時液面位調節手段)
13 握りレバー
18 流量調整弁(開閉手段)
20 加工液貯蔵タンク
21 循環ポンプ
30 制御手段
100,200 放電加工装置

Claims (10)

  1. 加工液が貯留される加工槽と、
    前記加工槽内の底板から所定の高さに載置面が存在し、被加工物を載置するテーブル定盤と、
    前記加工槽に加工液貯蔵タンクから送られた加工液を供給する加工液供給口と、
    前記加工液供給口から供給され、前記加工槽に貯留される加工液を排出する加工液排出手段と、
    加工液が前記テーブル定盤の載置面を露出し浸漬するように、前記載置面高さに相当する高さを有した液面位調節手段と、
    を備えることを特徴とする放電加工装置。
  2. 前記液面位調節手段は、
    前記加工槽の一側板と前記テーブル定盤との間の加工槽底板上に設置され該テーブル定盤の高さと略同一のオーバーフロー高さを有する堰と、
    前記堰の前記一側板側の加工槽底部に設けられた堰外排出口と、
    からなることを特徴とする請求項1記載の放電加工装置。
  3. 前記堰は、オーバーフロー高さが固定された固定堰であることを特徴とする請求項2に記載の放電加工装置。
  4. 前記堰は、全長に亘って同一のオーバーフロー高さであることを特徴とする請求項2又は3に記載の放電加工装置。
  5. 前記堰は、前記テーブル定盤に向かって凹となるように湾曲形成され、前記加工液供給口は、前記加工槽の側板の前記堰の一端の接続部の近傍に設けることで、加工液を前記テーブル定盤の周りに循環させることを特徴とする請求項2〜4のいずれか一つに記載の放電加工装置。
  6. 前記堰は、前記加工槽に着脱可能であることを特徴とする請求項2〜5のいずれか一つに記載の放電加工装置。
  7. 前記堰のテーブル定盤側の加工槽底部に堰内排出口を設け、該堰内排出口に開閉手段を接続したことを特徴とする請求項2〜6のいずれか一つに記載の放電加工装置。
  8. 前記液面位調節手段は、
    前記加工槽内に設置され前記液面位を検出する液面位検出器と、
    前記加工槽の底部に設けられた排出口と、
    前記排出口に接続された開閉手段と、
    前記液面位検出器からの検出信号に基づいて前記開閉手段の開度を調節し、前記液面位を前記テーブル定盤の高さと略同一に維持する制御手段と、
    を備えることを特徴とする請求項1に記載の放電加工装置。
  9. 前記液面位調節手段は、
    前記加工槽内に設置され前記液面位を検出する液面位検出器と、
    前記加工槽の底部に設けられた排出口と、
    前記排出口に接続された開閉手段と、
    前記液面位検出器からの検出信号に基づいて前記加工液供給口に加工液を供給する循環ポンプの吐出量を調節し、前記液面位を前記テーブル定盤の高さと略同一に維持する制御手段と、
    を備えることを特徴とする請求項1に記載の放電加工装置。
  10. 加工槽の加工液面位をテーブル定盤の高さと略同一とする工程と、
    前記加工槽に所定温度の加工液を供給し、前記加工液面位を前記テーブル定盤の高さと略同一に維持しつつ前記加工液を前記テーブル定盤の周りに循環させ、該テーブル定盤を前記所定温度近傍に保ちながら該テーブル定盤上に被加工物を載置して放電加工の段取りを行なう工程と、
    を含むことを特徴とする放電加工の段取り方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016145567A (ja) * 2015-02-06 2016-08-12 有限会社スマートポンプジャパン 圧送排水ポンプユニットにおけるバックアップ機能に係る本体ケースの構造
EP3181282A1 (en) * 2015-12-15 2017-06-21 Fanuc Corporation Machining fluid level adjusting mechanism for wire electric discharge machine
CN114473091A (zh) * 2022-03-15 2022-05-13 江苏理工学院 一种水平式电解电火花加工装置及方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60213433A (ja) * 1984-04-04 1985-10-25 Mitsubishi Electric Corp 放電加工装置
JPH0392217A (ja) * 1989-09-01 1991-04-17 Zedomu Kk ワイヤカット放電加工機
JPH08197333A (ja) * 1995-01-19 1996-08-06 Mitsubishi Electric Corp 放電加工機用加工液循環装置
JP2000000722A (ja) * 1998-06-16 2000-01-07 Hitachi Via Mechanics Ltd 放電加工装置
JP2000071124A (ja) * 1998-08-27 2000-03-07 Mitsubishi Electric Corp 放電加工装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60213433A (ja) * 1984-04-04 1985-10-25 Mitsubishi Electric Corp 放電加工装置
JPH0392217A (ja) * 1989-09-01 1991-04-17 Zedomu Kk ワイヤカット放電加工機
JPH08197333A (ja) * 1995-01-19 1996-08-06 Mitsubishi Electric Corp 放電加工機用加工液循環装置
JP2000000722A (ja) * 1998-06-16 2000-01-07 Hitachi Via Mechanics Ltd 放電加工装置
JP2000071124A (ja) * 1998-08-27 2000-03-07 Mitsubishi Electric Corp 放電加工装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016145567A (ja) * 2015-02-06 2016-08-12 有限会社スマートポンプジャパン 圧送排水ポンプユニットにおけるバックアップ機能に係る本体ケースの構造
EP3181282A1 (en) * 2015-12-15 2017-06-21 Fanuc Corporation Machining fluid level adjusting mechanism for wire electric discharge machine
JP2017109261A (ja) * 2015-12-15 2017-06-22 ファナック株式会社 ワイヤ放電加工機の加工液面高さ調節機構
CN114473091A (zh) * 2022-03-15 2022-05-13 江苏理工学院 一种水平式电解电火花加工装置及方法
CN114473091B (zh) * 2022-03-15 2023-08-11 江苏理工学院 一种水平式电解电火花加工装置及方法

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