JP2009120445A - ガラス溶融炉 - Google Patents

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Kazuya Noguchi
和也 野口
Yoshinori Hasegawa
義徳 長谷川
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    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B5/00Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
    • C03B5/16Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
    • C03B5/24Automatically regulating the melting process
    • C03B5/245Regulating the melt or batch level, depth or thickness

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Abstract

【課題】清澄槽内の溶融ガラスの液面の気泡によってレーザ反射光が乱される惧れがなく、溶融ガラスの液面をレーザ変位計で正確に計測監視することができるガラス溶融炉を提供すること。
【解決手段】ガラス原料を加熱溶融する溶融槽1と、溶融槽1で溶融された溶融ガラスGを清澄する清澄槽2と、清澄槽2で清澄された溶融ガラスGを流出させる作業槽3とを備え、清澄槽2内の溶融ガラスGの液面レベルをレーザ変位計4で計測し、液面レベルの変位に応じて溶融槽1へのガラス原料の投入量を調節するガラス溶融炉10において、清澄槽2の槽内に、レーザ変位計4による計測領域Aを仕切る仕切部5を設けた。
【選択図】図1

Description

本発明は、溶融ガラスをガラス成形設備等に連続供給し得るガラス溶融炉に関するものである。
従来、溶融ガラスをガラス成形設備に連続供給する場合、ガラス原料を加熱溶融する溶融槽と、溶融槽で溶融された溶融ガラスを清澄する清澄槽と、清澄槽で清澄された溶融ガラスを流出させる作業槽とを備えたガラス溶融炉が広く用いられている。そして、作業槽からの溶融ガラスの流出を一定に保って溶融ガラスをガラス成形設備に安定に供給するために、清澄槽内の溶融ガラスの液面レベルを監視し、液面レベルの変位に応じて溶融槽へのガラス原料の投入量を調節することが行われている。
下記の特許文献1には、清澄槽内の溶融ガラスの液面にレーザ光を照射し、その液面からの反射光を受光して液面レベルの変位を監視することが記載されている。
特開2005−60133号公報
ところが、このガラス溶融炉の清澄槽においては、溶融ガラスに含まれるガス成分が気泡として溶融ガラスの液面に浮上し、液面を覆うため、液面の気泡によってレーザ反射光が乱されてレーザ変位計の誤計測を招く難点があった。
また、上記の特許文献1には、清澄槽に連通するモニター槽を設け、このモニター槽内で溶融ガラスの液面レベルを監視することが記載されている。しかしながら、この方法は清澄槽とは別個にモニター槽を設けなければならない上に、モニター槽の加熱手段を増設しなければならないため、ガラス溶融炉の清澄槽の構造の複雑化、及び加熱制御の複雑化を招く難点がある。
本発明は、ガラス原料を加熱溶融する溶融槽と、該溶融槽で溶融された溶融ガラスを清澄する清澄槽と、該清澄槽で清澄された溶融ガラスを流出させる作業槽とを含み、前記清澄槽内の溶融ガラスの液面レベルをレーザ変位計で計測し、該液面レベルの変位に応じて前記溶融槽への前記ガラス原料の投入量を調節するガラス溶融炉であって、
前記清澄槽の槽内に、前記溶融ガラスの液面において前記レーザ変位計の計測領域を仕切り、該計測領域内への気泡の流れ込みを防ぐ仕切部を設けてなることを特徴としている。
また、本発明は、仕切部の下端が、清澄槽の溶融ガラス液面からの深さの10分の6以上深い位置にあることを特徴としている。
本発明のガラス溶融炉で、仕切部の下端が、清澄槽の溶融ガラス液面からの深さの10分の6未満の浅い位置にあると、下方から計測領域内に溶融ガラス中の微塵泡が流れ込む確率が高くなり、微塵泡が成長して液面に浮上するとレーザ反射光が乱されてレーザ変位計の誤計測を招くことになる。本発明のガラス溶融炉では、仕切部の下端が、清澄槽の溶融ガラス液面からの深さの10分の6以上深い位置にあることが、レーザ変位計の高い計測精度を確保する上で好ましい。一方、仕切部の下端が、溶融ガラス液面からの深さの10分の9の深さを超える位置まで溶融ガラス中に没していると、溶融ガラスの流れを阻害する場合がある。本発明のガラス溶融炉では、仕切部の下端が、清澄槽の溶融ガラス液面からの深さの10分の9以内の位置にあることが、さらに好ましい。
本発明に係るガラス溶融炉によれば、清澄槽内の溶融ガラスの液面においてレーザ変位計の計測領域を仕切る仕切部によって、計測領域内に気泡が流れ込むのを確実に防ぐことができるので、従来のように、液面の気泡によってレーザ反射光が乱される惧れもなく、溶融ガラスの液面をレーザ変位計で正確に計測することができる。
しかも、清澄槽の槽内に仕切部を設けるだけの至って簡素な構成でレーザ変位計の誤計測を確実に防ぐことができる。したがって、従来のように、清澄時の気泡による悪影響を回避するためにモニター槽を別設して装置構造の複雑化を招いたり、このモニター槽用の加熱手段を増設して加熱制御の複雑化を招いたりすることもない。
図1に示すように、本実施形態のガラス溶融炉10は主として、ガラス原料を加熱溶融する溶融槽1と、溶融槽1で溶融された溶融ガラスGを清澄する清澄槽2と、清澄槽2で清澄された溶融ガラスGをガラス成形設備Mへ流出させる作業槽3と、清澄槽2内の溶融ガラスGの液面レベルを計測するレーザ変位計4と、清澄槽2内の溶融ガラスGの液面においてレーザ変位計4の計測領域Aを仕切る仕切部5と、から構成されている。
溶融槽1は、不図示の加熱手段を備えており、投入装置Hにより溶融槽1内に投入されたガラス原料を加熱し溶融する。溶融槽1で溶融された溶融ガラスGは、連結パイプ11を通って清澄槽2へ流れ、清澄槽2において、溶融ガラスGに含まれるガス成分が気泡Bとして溶融ガラスGの液面に浮上し、時間経過にともなって気泡Bははじけてガス成分を大気中に放出する。こうして溶融ガラスGが清澄される。そして、清澄槽2で清澄された溶融ガラスGは、連結パイプ21を通って作業槽3へ流れ、作業槽3において必要に応じて撹拌され、ガラス成形設備Mへ供給される。
レーザ変位計4は、レーザ光を清澄槽2の天井部に設けられた開口部22を通して溶融ガラスGの液面に照射し、この液面からの反射光を再び開口部22を通して受光部で受光する。こうして、レーザ変位計4は、レーザ光が照射される液面の計測領域Aにおいて、溶融ガラスGの液面レベルを三角測距方式により計測する。そして、不図示の制御装置が、レーザ変位計4で計測した溶融ガラスGの液面レベルの変位に応じて上記投入装置Hを制御し、溶融槽1へのガラス原料の投入量を調節する。こうして、作業槽3からの溶融ガラスGの流出量が一定に保たれる。
本実施形態では、レーザ変位計4を溶融ガラスGの液面から約700mmの高さ位置に設け、そして、レーザ変位計4のレーザ光を照射する計測領域Aを、溶融ガラスGの液面の下流側に設定している。また、レーザ変位計4の受光部には、溶融ガラスGからの輻射光を遮ることによって誤計測を回避するための不図示のフィルタが設けられている。
仕切部5は、矩形の板状部材51が清澄槽2の対向する内壁面の間に架け渡されて構成されている。この板状部材51によって、清澄槽2内の溶融ガラスGの液面がその上流側と下流側とに二分され、その下流側においてレーザ変位計4の計測領域Aが仕切られている。このことで、溶融ガラスGの上流側の気泡Bが下流側の計測領域A内に流れ込むのを防ぐことができ、溶融ガラスGの液面レベルをレーザ変位計4で正確に計測することが可能となる。
本実施形態において、仕切部5の上端は、溶融ガラスGの液面よりも約10mm上方へ突出しており、気泡Bが仕切部5を乗り越えることを防いでいる。そして、仕切部5の上端と清澄槽2の天井部との間の隙間52と上記開口部22とを通して、溶融ガラスGから出たガスを外部へ放出するようにしている。
一方、仕切部5の下端は、溶融ガラスGの深さの約10分の7の深さ位置にまで溶融ガラスG中に没しており、清澄された溶融ガラスGの清澄領域まで達している。このことで、溶融ガラスG中の気泡Bが仕切部5を潜って計測領域Aへ流れ込むことを防いでいる。清澄された溶融ガラスGは、仕切部5の下端と清澄槽2の底部との間の隙間53を通って下流へ流れる。
このように本実施形態のガラス溶融炉10は、清澄槽2内の溶融ガラスGの液面においてレーザ変位計4の計測領域Aを仕切る仕切部5を設け、この仕切部5によって、計測領域A内に気泡Bが流れ込むのを確実に防ぐことができるので、従来のように、液面の気泡によってレーザ反射光が乱される惧れもなく、溶融ガラスGの液面をレーザ変位計4で正確に計測することができる。
しかも、本実施形態のガラス溶融炉10は、清澄槽2の槽内に仕切部5を設けるだけの至って簡素な構成でレーザ変位計4の誤計測を確実に防ぐことができる。したがって、従来のように、清澄時の気泡による悪影響を回避するためにモニター槽を別設して装置構造の複雑化を招いたり、モニター槽用の加熱手段を増設して加熱制御の複雑化を招いたりする難点もない。
以上、本実施形態の溶融ガラス供給装置10について説明したが、本発明はその他の形態でも実施することができる。
例えば、図2に示す溶融ガラス供給装置20のように、レーザ変位計4の計測領域Aを仕切る仕切部5を筒状部材54により構成しても良い。筒状部材54は、連結部55を介して清澄槽2の上部に連結固定されており、清澄槽2の四周の内壁面に対し間隔を開けて配設されている。この筒状部材54によって、清澄槽2内の溶融ガラスGの液面がその中流域とその他の流域とに二分され、その中流域においてレーザ変位計4の計測領域Aが仕切られている。
筒状部材54もまた、その上端が溶融ガラスGの液面よりも上方へ突出しており、その下端は、清澄された溶融ガラスGの清澄領域まで達している。このことで、溶融ガラスGの気泡Bが計測領域A内に流れ込むのを確実に防ぐことができ、溶融ガラスGの液面の中流域においても溶融ガラスGの液面レベルをレーザ変位計4で正確に計測することが可能となる。
本発明は、その他、その趣旨を逸脱しない範囲内で、当業者の知識に基づいて種々の改良、修正、変形を加えた態様で実施し得るものである。また、同一の作用又は効果が生じる範囲内でいずれかの発明特定事項を他の技術に置換した形態で実施しても良い。
本実施形態のガラス溶融炉の概略側面断面図である。 本発明に係るガラス溶融炉の実施変形例の概略側面断面図である。
符号の説明
10、20 ガラス溶融炉
1 溶融槽
2 清澄槽
3 作業槽
4 レーザ変位計
5 仕切部
G 溶融ガラス
A(レーザ変位計の)計測領域
B 気泡

Claims (2)

  1. ガラス原料を加熱溶融する溶融槽と、該溶融槽で溶融された溶融ガラスを清澄する清澄槽と、該清澄槽で清澄された溶融ガラスを流出させる作業槽とを含み、前記清澄槽内の溶融ガラスの液面レベルをレーザ変位計で計測し、該液面レベルの変位に応じて前記溶融槽への前記ガラス原料の投入量を調節するガラス溶融炉であって、
    前記清澄槽の槽内に、前記溶融ガラスの液面において前記レーザ変位計の計測領域を仕切り、該計測領域内への気泡の流れ込みを防ぐ仕切部を設けてなることを特徴とするガラス溶融炉。
  2. 仕切部の下端が、清澄槽の溶融ガラス液面からの深さの10分の6以上深い位置にあることを特徴とする請求項1記載のガラス溶融炉。
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