JP2009111239A - 積層セラミック基板および積層セラミック基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】積層されたグリーンシート毎のビアホールの数の差を原因とするグリーンシート毎の収縮率の差を小さくすることにより反りを抑制された積層セラミック基板を供給する。
【解決手段】ビアホール2を設けた複数のセラミックグリーンシート1を積層し、焼成することにより形成される積層セラミックス基板において、複数のセラミックグリーンシート1の各々におけるセラミックグリーンシート1全体に対するビアホール2の体積占有率が、略等しい。ビアホール2の体積占有率はビアホール2の径dをセラミックグリーンシート1ごとに変えることで調整されている。
【選択図】図7
【解決手段】ビアホール2を設けた複数のセラミックグリーンシート1を積層し、焼成することにより形成される積層セラミックス基板において、複数のセラミックグリーンシート1の各々におけるセラミックグリーンシート1全体に対するビアホール2の体積占有率が、略等しい。ビアホール2の体積占有率はビアホール2の径dをセラミックグリーンシート1ごとに変えることで調整されている。
【選択図】図7
Description
本発明は、積層セラミック基板に関する。更に特定的には、焼成時の反りを抑制することができる積層セラミック基板に関する。また、積層セラミック基板の製造方法に関する。
近年電子機器の小型化要請はますます強くなっている。そのため、セラミック基板内にもコンデンサや、インダクタなどの電子化回路を内蔵した積層セラミック基板が使用されている。この積層セラミック基板は低温同時焼成セラミックス(Low Temperature Co-fired Ceramics)原料を混成したシート(セラミックグリーンシート)を作成し、ビアホールを設け、表面に銀などの導電原料を使用して必要な配線パターンを印刷した後、乾燥し、複数のセラミックグリーンシートを積層・圧着後、焼成することで作成される。低温同時焼成セラミックスは銀などの導電原料の融点より低い温度で焼成できるため、上記印刷により積層セラミック基板内に形成された回路パターンは損傷されることはない。
しかし、セラミックグリーンシートはセラミック原料で形成されているため、焼成により収縮する。この収縮は印刷された回路パターンや設けられたビアホールの数などに影響されるため、セラミックグリーンシートごとに収縮率が異なる。そのため、セラミックグリーンシートの収縮率の差を原因とする反りが焼成後の積層セラミック基板に生じ問題となっていた。
印刷された導体配線のパターンの違いを原因とする収縮率の差を抑制する技術として、配線を有する面の反対面にダミー配線を設けることで収縮率の差を相殺し、反りの発生を抑制する技術が提示されている(例えば特許文献1)。
特開2006−108529号公報
特許文献1の技術によって、導体配線のパターンの違いを原因とする収縮率の差は抑制することができる。しかし、この方法においてもセラミックグリーンシート毎のビアホールの数の差を原因とする収縮率の差を抑制することはできない。従って、積層セラミック基盤の反りを十分に抑制することができず、問題となっている。
本発明は、かかる問題を解消するためになされたもので、積層されたグリーンシート毎のビアホールの数の差を原因とするグリーンシート毎の収縮率の差を小さくすることにより、反りを抑制された積層セラミック基板を供給することを目的とする。また、反りを抑制された積層セラミック基板の製造方法を供給することを目的とする。
本発明にかかる積層セラミック基板は、ビアホールを設けた複数のセラミックグリーンシートを積層し、焼成することにより形成される積層セラミックス基板において、前記複数のセラミックグリーンシートの各々におけるセラミックグリーンシート全体に対するビアホールの体積占有率が、略等しい。
上記構成によると、複数のセラミックグリーンシートの各々におけるセラミックグリーンシート全体の体積、即ちビアホール体積を含めたセラミックグリーンシート体積、に対するビアホールの体積占有率が略等しいため、焼成時の各セラミックグリーンシートの収縮率も略等しい。従って、積層セラミック基板の収縮率の差を原因とする反りが抑制される。
本発明にかかる積層セラミック基板は、前記複数のセラミックグリーンシートの各々における前記体積占有率の比が、0.85以上1.18以下であることが好ましい。
上記構成によると、複数のセラミックグリーンシートの各々における上記体積占有率の比が、0.85以上1.18以下であるため、積層セラミック基板の反りが所定の基準値以下に抑制される。
本発明にかかる積層セラミック基板の製造方法は、複数のセラミックグリーンシートの各々におけるセラミックグリーンシート全体に対するビアホールの体積占有率が略等しくなるように、各々のセラミックグリーンシートにビアホールを設ける工程と、前記複数のセラミックグリーンシートを積層し、焼成する工程とを備える。
上記構成によると、複数のセラミックグリーンシートの各々におけるセラミックグリーンシート全体に対するビアホールの体積占有率が略等しくなるように、各々のセラミックグリーンシートにビアホールを設ける工程を備えるため、セラミックグリーンシート全体に対するビアホールの体積占有率が略等しい積層セラミック基板を製造することができる。かかる積層セラミック基板は反りが抑制されているため、本発明にかかる製造方法によって反りが抑制された積層セラミック基板を製造することができる。
本発明にかかる積層セラミック基板の製造方法においては、前記複数のセラミックグリーンシートの各々における前記体積占有率の比が、0.85以上1.18以下となるように、各々のセラミックグリーンシートにビアホールを設ける工程を備える。
上記構成によると、複数のセラミックグリーンシートの各々における体積占有率の比が、0.85以上1.18以下となるように、各々のセラミックグリーンシートにビアホールを設ける工程を備えるため、反りが所定の基準値以下に抑制された積層セラミック基板を製造することができる。
以下、本発明を具体化した積層セラミック基板の製造方法および積層セラミック基板の一実施形態を図を用いて説明する。
まず、誘電体セラミックスと焼結助剤より成る原料粉末、有機バインダー、可塑剤と溶剤を混合し、スラリー状の混合物を作り、ドクターブレード成形機によって厚さ130μm程度のシート状に形成後、所定のサイズに打ち抜いて、セラミックグリーンシートを作成する。次いで、回路を上下に接続するためのビアホール(貫通孔)を必要数作成する。このときグリーンシートに作成されるビアホールの総体積はいずれのグリーンシートにおいても略等しくなるようにする。次に、スクリーン印刷法により導体を含んだ導電ペーストを、セラミックグリーンシート表面に印刷することにより回路パターン形成するとともにビアホール内にも導電ペーストが充填される。印刷する導電体としては導電率の大きい銀が最適である。また、導電体である銀の融点以下で焼結する必要があるため、焼結助剤としてはSiO2やMgOなどガラス原料を用いる。
こうして作成されたセラミックグリーンシートを複数積層した後圧着し、グリーンシート積層体を形成する。このグリーンシート積層体を所望の大きさに切り出し、焼成して積層セラミック基板を作成する。こうして作成された積層セラミック基板はセラミックグリーンシート全体に対するビアホールの体積占有率が、積層された複数のセラミックグリーンシートのいずれについても略等しいので、複数のセラミックグリーンシートのいずれについても略等しい収縮率で収縮する。従って、ビアホールを原因とする積層セラミック基板の反りは抑制されている。
ここで、ビアホール体積と収縮率について説明する。図1に示すように、セラミックグリーンシートの収縮率は他の要件が同じであれば、ビアホールの体積占有率に対して負の相関関係を有している。即ち、収縮率に影響するのはビアホールの数ではなく、体積であるといえる。そのため、セラミックグリーンシートに設けられているビアホールの数が異なっていても、セラミックグリーンシートに設けられているビアホールの総体積を等しくすれば、セラミックグリーンシートの収縮率も等しくすることができる。なお、セラミックグリーンシートの収縮率は図2に示すような25mm四方の矩形のセラミックグリーンシート1に、格子形状の各頂点に位置するように9つビアホール2を10mm間隔に設け、このビアホール2間の距離を焼成前と焼成後に測定し、その比率を計算することにより算出した。
また、図3(a)に示すように、ビアホール2を設けたセラミックグリーンシート1(図中のA層)とビアホールを設けないセラミックグリーンシート1(図中のB層)を積層したグリーンシート積層体を焼成した積層セラミック基板を用いて、A層のビアホール体積占有率と積層セラミック基板反り量と関係を測定し、図3(b)に示した。このグラフより判るように、A層のビアホール体積占有率と積層セラミック基板の反り量とは正の相関関係を有しており、A層のビアホール体積占有率が0、即ちA層にビアホールがない場合には、積層セラミック基板の反りもほとんど生じないことが確認できる。なお、積層セラミック基板の反り量は以下のように測定した。図4に示すように、製造した積層セラミック基板10を水平な台4上に凹面を下向きに載せ、中央部の高さをハイトゲージ5で測定した。この測定値より、図5に示すようにマイクロメータ6で測定した積層セラミック基板10の膜厚の測定値を引いて積層セラミック基板10の反り量を算出した。また、焼成前のグリーンシート積層体は80mm角の正方形であり、各セラミックグリーンシートの厚みは130μmであった。焼成後は各セラミックグリーンシートの厚みが約100μmに収縮するとともに、積層セラミック基板の厚みは200μm程度、全体形状は約70mm角の正方形となった。
次に、各セラミックグリーンシートに作成されるビアホールの総体積を積層されるいずれのセラミックグリーンシートにおいても略等しくなるようにビアホールを作成する方法を説明する。
ビアホールはセラミックグリーンシート間に形成された回路同士を接続するために形成されるものであるから、その数は回路接続の必要に応じて決定される。例えば図6に示す従来例のように、図6(a)に示したセラミックグリーンシート1に設けられたビアホール2数が、図6(b)に示したセラミックグリーンシート1や図6(c)に示したセラミックグリーンシート1に設けられたビアホール2数より多い場合であっても、図6(b)に示したセラミックグリーンシート1や図6(c)に示したセラミックグリーンシート1に設けられたビアホール2を増やすことは困難である。
一方、接続配線としての機能を損なわなければ、ビアホール1つあたりの体積を変化させることは可能である。即ち、図7に示す例のように、図7(a)に示したセラミックグリーンシート1に設けられたビアホール2の面積と同面積となるように図7(b)に示したセラミックグリーンシート1や図7(c)に示したセラミックグリーンシート1に設けられたビアホール2の径dを大きくすることでシート面上のビアホール面積は変化させることができる。従って、ビアホール2の径dを変化させることで、片面表面全体に対するビアホール面積占有率を、セラミックグリーンシート1毎に等しくすることができる。また、セラミックグリーンシート1の厚みが同じであれば、ビアホール2の占める体積は面積に比例するため、セラミックグリーンシートの片面表面全体に対するビアホール面積占有率を、セラミックグリーンシート毎に一定にすれば、セラミックグリーンシート全体に対するビアホール体積占有率をセラミックグリーンシート毎に一定にすることができる。なお、ビアホール2の径dを大きくすることは層間配線を太くすることに相当するため、接続配線としての機能を損なうことはない。
図8(a)に示すように、通常のビアホール2を設けたセラミックグリーンシート1(図中のA層)とA層に設けたビアホール2の径dより大きな径dのビアホール2を設けたセラミックグリーンシート1(図中のB層)を積層したグリーンシート積層体を焼成した積層セラミック基板を用いて、A層のビアホール体積占有率とB層のビアホール体積占有率との比を横軸とし、積層セラミック基板反り量を縦軸としたグラフを図8(b)に示した。図8(b)より判るように、A層のビアホール体積占有率とB層ビアホール体積占有率との比は、積層セラミック基板の反り量と負の相関関係を有しており、A層およびB層のビアホール体積占有率の比が1、即ちA層およびB層のビアホール体積占有率が等しい場合には、基板反り量が0となり反りが生じないことが確認できる。ここで、基板の反り量が100μm以下であれば事実上問題がないので、A層およびB層のビアホール体積占有率の比は0.85以上1.00以下であることが好ましい。なお、本実施例では特に考慮していないが、A層のビアホール体積占有率がB層のビアホール体積占有率より大きい場合を考慮すると、A層およびB層のビアホール体積占有率の比は0.85以上1.18(=1/0.85)以下であることが好ましい。また、積層セラミック基板の反り量の測定方法は上述した「A層のビアホール体積占有率と積層セラミック基板の反り量」の説明の際に述べた方法と同様であるので、その説明を省略する。
上記実施形態の積層セラミック基板の製造方法によれば、以下のような効果を得ることができる。
(1)上記実施形態の積層セラミック基板によれば、複数のセラミックグリーンシート1の各々におけるセラミックグリーンシート1全体に対するビアホール2の体積占有率が略等しいため、焼成時の各セラミックグリーンシート1の収縮率も略等しい。従って、積層セラミック基板の収縮率の差を原因とする反りが抑制される。
(2)上記実施形態の積層セラミック基板によれば、複数のセラミックグリーンシート1の各々における上記体積占有率の比が、0.85以上1.18以下であるため、積層セラミック基板の反り量が事実状問題のない範囲に抑制される。
(3)上記実施形態の積層セラミック基板の製造方法によると、複数のセラミックグリーンシート1の各々におけるセラミックグリーンシート1全体に対するビアホール2の体積占有率が略等しくなるように、各々のセラミックグリーンシート1にビアホール2を設ける工程を備えるため、セラミックグリーンシート1全体に対するビアホール2の体積占有率が略等しい積層セラミック基板を製造することができる。かかる積層セラミック基板は反りが抑制されているため、本発明にかかる製造方法によって反りが抑制された積層セラミック基板を製造することができる。
(4)上記実施形態の積層セラミック基板の製造方法によると、複数のセラミックグリーンシート1の各々における体積占有率の比が、0.85以上1.18以下となるように、各々のセラミックグリーンシート1にビアホール2を設ける工程を備えるため、反り量が事実上問題がない範囲以下に抑制された積層セラミック基板を製造することができる。
なお、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態にかかる積層セラミック基板においては、効果の確認するため2枚のセラミックグリーンシート1を積層したが、セラミックグリーンシート1は3枚以上積層しても良い。この場合においても、セラミックグリーンシート1全体に対するビアホール2の体積占有率が積層されるすべてのセラミックグリーンシート1において略等しければ積層セラミック基板の反りは抑制される。
・また、セラミックグリーンシート1は3枚以上積層についてもセラミックグリーンシート1全体に対するビアホール2の体積占有率が0.85以上1.18以下とすることが好ましい。セラミックグリーンシート1は3枚以上積層されている場合においても、積層されている任意の2枚の体積占有率の比が0.85以上1.18以下とすることにより、基準以下の反り量とすることができる。
・上記実施形態にかかる積層セラミック基板においては、ビアホール2の径dを変えることによりビアホール1個あたりの体積を調整したが、他の構成であっても良い。例えばビアホール2の形状を長方形・長円形等に変えてビアホールの体積を調整しても良い。
本発明にかかる積層セラミック基板は、焼成時の反りが抑制されているため産業上広く利用することが可能である。
1・・・セラミックグリーンシート、2・・・ビアホール、4・・・台、5・・・ハイトゲージ、6・・・マイクロメータ、10・・・積層セラミック基板。
Claims (4)
- ビアホールを設けた複数のセラミックグリーンシートを積層し、焼成することにより形成される積層セラミックス基板において、
前記複数のセラミックグリーンシートの各々におけるセラミックグリーンシート全体に対するビアホールの体積占有率が、略等しいことを特徴とする積層セラミック基板。 - 前記複数のセラミックグリーンシートの各々における前記体積占有率の比が、0.85以上1.18以下であることを特徴とする請求項1に記載の積層セラミック基板。
- 複数のセラミックグリーンシートの各々におけるセラミックグリーンシート全体に対するビアホールの体積占有率が略等しくなるように、各々のセラミックグリーンシートにビアホールを設ける工程と、
前記複数のセラミックグリーンシートを積層し、焼成する工程とを備える積層セラミック基板の製造方法。 - 前記複数のセラミックグリーンシートの各々における前記体積占有率の比が、0.85以上1.18以下となるように、各々のセラミックグリーンシートにビアホールを設ける工程を備える請求項3に記載の積層セラミック基板。
Priority Applications (1)
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Family
ID=40779398
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JP2014033101A (ja) * | 2012-08-03 | 2014-02-20 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 配線基板及び配線基板の製造方法 |
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