JP2009109413A - 位置検出器、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明は、基板Wに形成されたマークWMの位置を検出する位置検出器Mであって、生成部9とサーチ部13と補正部14とを含む。生成部9は、検出すべきマークWMを含む画像に基づいて当該マークWMを識別するために使用されるテンプレートを生成する。サーチ部13は、検出すべきマークWMを含む画像を生成部9によって生成されたテンプレートを用いてサーチし、検出すべきマークWMのパターン以外にテンプレートとのマッチング度が基準値より高い偽パターンが存在するか否かを判断する。補正部14は、偽パターンが存在すると判断された場合に、偽パターンの情報に基いて、生成部9によって生成されたテンプレートを補正して、偽パターンとのマッチング度が基準値を下回る補正されたテンプレートを生成する。
【選択図】図1
Description
露光装置で使用される位置検出器における第1の実施例を示す。
図3における、S103からS105,S106,S107,S300,S400を経由して,S102に戻る補正ループを、テンプレートとのマッチング度が基準値より高い偽パターンがなくなるまで繰り返す。それにより、検出すべきマークを確実に検出可能な補正されたテンプレートを決定することができる。決定されたテンプレートはテンプレートの記憶部10によって記憶され、マーク位置の検出時にマッチング部11に呼び出されマッチング処理に利用される。本実施例ではS300,S400の2段階で偽パターンとのマッチング度を減少させるテンプレートを作成した。しかし、S300,S400どちらか一方のシーケンスで偽パターンとのマッチング度が減少するテンプレートを作成できるならば、S300,S400のシーケンスの両方を行う必要は無い。
露光装置で使用される位置検出器における第2の実施例を示す。
以下、本発明の位置検出器が適用される例示的な露光装置を説明する。露光装置は図10に示すように、照明系ユニット501、レチクルを搭載したレチクルステージ502、投影光学系1、ウエハを搭載したウエハステージ12とを有する。露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウエハに投影露光するものであり、ステップアンドリピート投影露光方式又はステップアンドスキャン投影露光方式であってもよい。
次に、図11及び図12を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図10は、デバイス(ICやLSIなどの半導体チップ、LCD、CCD等)の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
Claims (9)
- 基板に形成されたマークの位置を検出する位置検出器であって、
検出すべきマークを含む画像に基づいて当該マークを識別するために使用されるテンプレートを生成する生成部と、
検出すべきマークを含む画像を前記生成部によって生成されたテンプレートを用いてサーチし、前記検出すべきマークのパターン以外に前記テンプレートとのマッチング度が基準値より高い偽パターンが存在するか否かを判断するサーチ部と、
前記偽パターンが存在すると判断された場合に、前記偽パターンの情報に基いて、前記生成部によって生成されたテンプレートを補正して、前記偽パターンとのマッチング度が前記基準値を下回る補正されたテンプレートを生成する補正部と、
を含むことを特徴とする位置検出器。 - 前記偽パターンの情報は、前記検出すべきマークのパターン及び前記偽パターンのうち一方のパターンのみに存在する部分の情報であることを特徴とする請求項1に記載の位置検出器。
- 前記偽パターンの情報は、前記検出すべきマークのパターンには存在するが前記偽パターンには存在しない部分の情報を含むことを特徴とする請求項2に記載の位置検出器。
- 前記偽パターンの情報は、前記検出すべきマークのパターンには存在しないが前記偽パターンには存在する部分の情報を含むことを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の位置検出器。
- 前記サーチ部により用いられる画像は、前記生成部がテンプレートを生成する際に使用する画像であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の位置検出器。
- 前記サーチ部により用いられる画像は、前記生成部がテンプレートを生成する際に使用する画像より広い領域の画像であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の位置検出器。
- 基板に形成されたマークの位置を検出する位置検出方法であって、
検出すべきマークを含む画像に基づいて当該マークを識別するために使用されるテンプレートを生成する生成工程と、
検出すべきマークを含む画像を前記生成工程において生成されたテンプレートを用いてサーチし、前記検出すべきマークのパターン以外に前記テンプレートとのマッチング度が基準値より高い偽パターンが存在するか否かを判断するサーチ工程と、
前記偽パターンが存在すると判断された場合に、前記偽パターンの情報に基いて、前記生成工程において生成されたテンプレートを補正して、前記偽パターンとのマッチング度が前記基準値を下回る補正されたテンプレートを生成する補正工程と、
を含むことを特徴とする位置検出方法。 - 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の位置検出器を備えることを特徴とする露光装置。
- 請求項8に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程と、
を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
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