JP2009182334A - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光装置は、感光剤が塗布された基板の複数のショット領域を投影光学系を介して順に露光する。露光装置は、基板が走査駆動された状態で、連続する複数のショット領域内に定義された計測点の面位置を計測する計測器と、計測器による計測結果に基づいて、基板の被露光領域が投影光学系の像面に一致するように基板の面位置を制御する制御部とを備える。複数のショット領域401、402において、計測点を共通の配置とする。
【選択図】図4
Description
K=INT((L−M)/P)、
D=Ypitch−K×P
を満たす。
K=INT((L−M)/P)
である。なお、INT( )は、小数点以下を切り捨てる演算記号とする。
D=Ypitch−K×P
である。
ΔT=T2−T1=(D−P)/S
となる。つまり、ショット領域内の最後の計測点を計測してから次のショット領域の最初の計測点を計測するまでに、ショット内計測時間隔T1にΔTを加えた時間を待つことになる。
2 原版
3 原版ステージ機構
4 基板
5 基板チャック
6 露光ステージ機構
7 定盤
8 照明光学系
9 基準面
10 光源
11 コリメータレンズ
12 スリット部材
13、16 光学系
14、15 ミラー
17 ストッパー絞り
18 補正光学系群
19 光電センサ
20 XYバーミラー
21 干渉計
22 計測ステージ機構
23 合焦用マーク
24 ハーフミラー
25 集光レンズ
26 検出器
27a、27b ステージバーミラー
28a、28b 干渉計
50 第1面位置検出ユニット
100 第2面位置検出ユニット
110 メイン制御部
120a、120b ドライバ
130 メモリ
Claims (4)
- 感光剤が塗布された基板の複数のショット領域を投影光学系を介して順に露光する露光装置であって、
基板が走査駆動された状態で、連続する複数のショット領域内に定義された計測点の面位置を計測する計測器と、
前記計測器による計測結果に基づいて、基板の被露光領域が前記投影光学系の像面に一致するように基板の面位置を制御する制御部とを備え、
ショット領域の端から当該ショット領域内の計測点までの距離Mが複数のショット領域において共通し、ショット領域内の隣接する計測点の間隔が共通の第1距離Pになり、ショット領域内の最後の計測点と次のショット内の最初の計測点との間隔が第2距離Dとなるように、複数のショット領域のそれぞれについて複数の計測点が定義され、
前記計測器は、ショット領域毎に加速および減速がされることなく基板が等速度で走査駆動された状態で、走査駆動方向に沿って連続して配列された少なくとも2つのショット領域内の計測点の面位置を計測し、
ショット領域のスキャン長をL、ショット領域間の距離をYpitchとしたとき、
K=INT((L−M)/P)、
D=Ypitch−K×P
を満たす、ことを特徴とする露光装置。 - 基板を保持し、かつ基板を露光するための露光ステーションと前記計測器による計測を実施するための計測ステーションとの間を移動する基板ステージを備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記基板ステージを複数備え、前記露光ステーションでの基板の露光処理と、前記計測ステーションでの基板の計測処理とが並列に実施されることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- デバイス製造方法であって、
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、前記露光された基板を現像する現像工程と、
前記現像された基板を処理する処理工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011203248A (ja) * | 2010-03-12 | 2011-10-13 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
US8351024B2 (en) | 2009-03-13 | 2013-01-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method involving a level sensor having a detection grating including three or more segments |
US8488107B2 (en) | 2009-03-13 | 2013-07-16 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method involving a level sensor having multiple projection units and detection units |
US8675210B2 (en) | 2009-03-13 | 2014-03-18 | Asml Netherlands B.V. | Level sensor, lithographic apparatus, and substrate surface positioning method |
US8842293B2 (en) | 2009-03-13 | 2014-09-23 | Asml Netherlands B.V. | Level sensor arrangement for lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2014225581A (ja) * | 2013-05-16 | 2014-12-04 | キヤノン株式会社 | 露光装置および物品の製造方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1047915A (ja) * | 1996-08-02 | 1998-02-20 | Canon Inc | 面位置検出方法 |
JPH1140491A (ja) * | 1997-07-17 | 1999-02-12 | Canon Inc | 合焦点位置検出方法 |
JP2000021768A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-21 | Canon Inc | 面位置検出装置及びそれを用いた走査型投影露光装置 |
JP2000323404A (ja) * | 1999-03-08 | 2000-11-24 | Asm Lithography Bv | リソグラフィック投影装置のオフアキシレベリング |
JP2004071851A (ja) * | 2002-08-07 | 2004-03-04 | Canon Inc | 半導体露光方法及び露光装置 |
JP2005129674A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Canon Inc | 走査露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2005277030A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Canon Inc | ステージ装置および露光装置 |
JP2006071440A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Nikon Corp | 位置計測装置、該位置計測装置を備えた露光装置及び該位置計測装置を使用する露光方法 |
-
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1047915A (ja) * | 1996-08-02 | 1998-02-20 | Canon Inc | 面位置検出方法 |
JPH1140491A (ja) * | 1997-07-17 | 1999-02-12 | Canon Inc | 合焦点位置検出方法 |
JP2000021768A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-21 | Canon Inc | 面位置検出装置及びそれを用いた走査型投影露光装置 |
JP2000323404A (ja) * | 1999-03-08 | 2000-11-24 | Asm Lithography Bv | リソグラフィック投影装置のオフアキシレベリング |
JP2004071851A (ja) * | 2002-08-07 | 2004-03-04 | Canon Inc | 半導体露光方法及び露光装置 |
JP2005129674A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Canon Inc | 走査露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2005277030A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Canon Inc | ステージ装置および露光装置 |
JP2006071440A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Nikon Corp | 位置計測装置、該位置計測装置を備えた露光装置及び該位置計測装置を使用する露光方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8351024B2 (en) | 2009-03-13 | 2013-01-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method involving a level sensor having a detection grating including three or more segments |
US8488107B2 (en) | 2009-03-13 | 2013-07-16 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method involving a level sensor having multiple projection units and detection units |
US8675210B2 (en) | 2009-03-13 | 2014-03-18 | Asml Netherlands B.V. | Level sensor, lithographic apparatus, and substrate surface positioning method |
US8842293B2 (en) | 2009-03-13 | 2014-09-23 | Asml Netherlands B.V. | Level sensor arrangement for lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2011203248A (ja) * | 2010-03-12 | 2011-10-13 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
JP2011209278A (ja) * | 2010-03-12 | 2011-10-20 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
US8619235B2 (en) | 2010-03-12 | 2013-12-31 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2014225581A (ja) * | 2013-05-16 | 2014-12-04 | キヤノン株式会社 | 露光装置および物品の製造方法 |
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