JP2009107875A - 遠赤外線放射複合材料及びその製造方法 - Google Patents
遠赤外線放射複合材料及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009107875A JP2009107875A JP2007280900A JP2007280900A JP2009107875A JP 2009107875 A JP2009107875 A JP 2009107875A JP 2007280900 A JP2007280900 A JP 2007280900A JP 2007280900 A JP2007280900 A JP 2007280900A JP 2009107875 A JP2009107875 A JP 2009107875A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- far
- composite material
- infrared radiation
- titanium dioxide
- metal germanium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】本発明の遠赤外線放射複合材料は、金属ゲルマニウムと、チタンアルコキシドが加水分解し、その後、ゲル化して生成した二酸化チタンとを含有する。また、本発明の遠赤外線放射複合材料の製造方法は、金属ゲルマニウム、チタンアルコキシド及び有機溶媒を混合し、チタンアルコキシドを加水分解させ、その後、生成したゲルを150℃以下で乾燥させることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
本発明は、上記の従来の状況に鑑みてなされたものであり、金属ゲルマニウムと二酸化チタンとを含有し、特に、金属ゲルマニウムと、特定の方法により生成させた二酸化チタンとを含有し、金属ゲルマニウムの遠赤外線放射率より優れた放射率を有する遠赤外線放射複合材料(以下、複合材料ということもある。)、及びゾルゲル法により生成させた二酸化チタンを含有し、優れた遠赤外線放射率を有する複合材料の製造方法を提供することを目的とする。
1.金属ゲルマニウムと二酸化チタンとを含有する遠赤外線放射複合材料であって、上記二酸化チタンは、チタンアルコキシドが加水分解し、その後、ゲル化して生成した二酸化チタンであることを特徴とする遠赤外線放射複合材料。
2.金属ゲルマニウム、チタンアルコキシド及び有機溶媒が混合され、該チタンアルコキシドが加水分解し、その後、生成したゲルが150℃以下で乾燥されてなり、該金属ゲルマニウム及び二酸化チタンが含有されていることを特徴とする遠赤外線放射複合材料
3.上記乾燥の後、更に200〜350℃で加熱されてなる上記2.に記載の遠赤外線放射複合材料。
4.上記金属ゲルマニウムと上記二酸化チタンとの合計を100質量%とした場合に、該二酸化チタンは10〜30質量%である上記1.乃至3.のうちのいずれか1項に記載の遠赤外線放射複合材料。
5.比表面積が30〜120m2/gである上記1.乃至4.のうちのいずれか1項に記載の遠赤外線放射複合材料。
6.上記1.乃至5.のうちのいずれか1項に記載の遠赤外線放射複合材料の製造方法であって、金属ゲルマニウム、チタンアルコキシド及び有機溶媒を混合し、該チタンアルコキシドを加水分解させ、その後、生成したゲルを150℃以下で乾燥させることを特徴とする遠赤外線放射複合材料の製造方法。
7.上記金属ゲルマニウムと上記チタンアルコキシドとの合計を100質量%とした場合に、該チタンアルコキシドは10〜80質量%である上記6.に記載の遠赤外線放射複合材料の製造方法。
8.上記有機溶媒が炭素数1〜3のアルコールであり、上記加水分解は塩酸の存在下になされ、上記乾燥の温度は40〜120℃である上記6.又は7.に記載の遠赤外線放射複合材料の製造方法。
9.上記乾燥の後、更に200〜350℃で加熱する上記6.乃至8.のうちのいずれか1項に記載の遠赤外線放射複合材料の製造方法。
10.上記金属ゲルマニウムの比表面積が2〜8m2/gである上記6.乃至9.のうちのいずれか1項に記載の遠赤外線放射複合材料の製造方法。
また、他の本発明の複合材料であって、乾燥の後、更に200〜350℃で加熱されてなる場合は、有機溶媒ばかりでなく、有機バインダ等の他の有機物も十分に除去された複合材料とすることができる。
更に、金属ゲルマニウムと二酸化チタンとの合計を100質量%とした場合に、二酸化チタンが10〜30質量%である場合は、より優れた遠赤外線放射率を有する複合材料とすることができる。
また、複合材料の比表面積が30〜120m2/gである場合は、遠赤外線放射率を十分に向上させることができる。
本発明の遠赤外線放射複合材料の製造方法によれば、金属ゲルマニウムとチタンアルコキシドとを混合し、生成したゲルを乾燥させるという特定の方法により、二酸化チタンを含有し、金属ゲルマニウムの本来の遠赤外線放射率より優れた放射率を有する複合材料を容易に製造することができる。この金属ゲルマニウムは比較的低温で放射率が低下するが、この製造方法では、金属ゲルマニウムを含有するゾルを用いて低温で二酸化チタンを生成させることができるため、複合材料の遠赤外線放射率を金属ゲルマニウムが本来有する放射率より向上させることができる。
更に、金属ゲルマニウムとチタンアルコキシドとの合計を100質量%とした場合に、チタンアルコキシドが10〜80質量%である場合は、所定量の二酸化チタンを含有し、優れた遠赤外線放射率を有する複合材料を容易に製造することができる。
また、有機溶媒が炭素数1〜3のアルコールであり、加水分解は塩酸の存在下になされ、乾燥の温度が40〜120℃である場合は、容易に且つ効率よく優れた遠赤外線放射率を有する複合材料を製造することができる。
更に、乾燥の後、更に200〜350℃で加熱する場合は、有機溶媒ばかりでなく、有機バインダ等の他の有機物も十分に除去された複合材料を容易に製造することができる。
また、金属ゲルマニウムの比表面積が2〜8m2/gである場合は、適度な比表面積を有し、優れた遠赤外線放射率を有する複合材料を容易に製造することができる。
[1]遠赤外線放射複合材料
本発明の遠赤外線放射複合材料は、金属ゲルマニウムと二酸化チタンとを含有し、この二酸化チタンは、チタンアルコキシドが加水分解し、その後、ゲル化して生成した二酸化チタンであることを特徴とする。
また、他の本発明の遠赤外線放射複合材料は、金属ゲルマニウム、チタンアルコキシド及び有機溶媒が混合され、チタンアルコキシドが加水分解し、その後、生成したゲルが150℃以下で乾燥されてなり、金属ゲルマニウム及び二酸化チタンが含有されていることを特徴とする。
尚、この150℃を越えての加熱、特に200〜350℃での加熱では、金属ゲルマニウムの遠赤外線放射率が低下することがなく、二酸化チタンが有する光感応性のうちの紫外光感応性も低下することはないが、可視光感応性は損なわれてしまう。そのため、複合材料に特に可視光感応性が必要とされるときは、200〜350℃及びそれ以上の高温での加熱はしないことが好ましい。
本発明の遠赤外線放射複合材料の製造方法は、金属ゲルマニウム、チタンアルコキシド及び有機溶媒を混合し、該チタンアルコキシドを加水分解させ、その後、生成したゲルを150℃以下で乾燥させることを特徴とする。
上記の金属ゲルマニウムについては前記[1]における金属ゲルマニウムに係る記載をそのまま適用することができる。
また、金属ゲルマニウムの比表面積は特に限定されないが、2〜8m2/g、特に3〜7m2/gであることが好ましい。金属ゲルマニウムの比表面積が2〜8m2/gであれば、前記[1]に記載された比表面積を有する複合材料を容易に製造することができ、複合材料の遠赤外線放射率を十分に向上させることができる。
尚、アルキル基がブチル基であるときは、チタンアルコキシドの加水分解により生成するアルコール分(ブタノール)が分相するため、減圧下に留去する等の処理をすることなくアルコール含量の少ないゾルとすることができる。
酸は特に限定されず、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸でもよく、蟻酸、しゅう酸等の有機酸でもよい。酸は1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。この酸としては、通常、揮散させることが容易な塩酸(塩化水素の水溶液)が用いられ、例えば、濃塩酸(市販品では約37.2質量%濃度の水溶液である。)を用いることができる。このように、有機溶媒はアルコールであり、且つ酸は塩酸であることが好ましい。また、有機溶媒はエタノールであり、且つ酸は塩酸であることがより好ましい。酸の配合量は特に限定されないが、金属ゲルマニウムを100質量部としたときに、2〜10質量部、好ましくは4〜8質量部とすることができる。
また、安定化剤も必要に応じて配合される。この安定化剤は特に限定されず、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類、アセチルアセトン等のケトン類などが挙げられる。安定化剤の配合量は特に限定されず、金属ゲルマニウムを100質量部としたときに、1〜10質量部、好ましくは3〜8質量部とすることができる。
更に、触媒活性向上剤も必要に応じて配合される。この触媒活性向上剤は特に限定されないが、通常、径が数nmの白金ナノ微粒子が用いられる。触媒活性向上剤の配合量は特に限定されず、生成する二酸化チタンの推定量を100質量%とした場合に、0.2〜0.8質量%とすることができる。
尚、減圧下に乾燥すれば、15℃未満の乾燥温度であってもゲルを十分に乾燥させることができる。また、減圧下に15℃以上で乾燥することもできる。更に、光感応性、乾燥及び二酸化チタンの結晶化の促進等を併せて考慮した場合、乾燥温度は、15〜140℃が好ましく、40〜120℃がより好ましく、60〜110℃が更に好ましく、80〜110℃が特に好ましい。
以上、複合材料の製造時に用いる成分及び乾燥温度を総体的に勘案した場合、ゾルゲル反応は、有機溶媒として炭素数1〜3のアルコールを使用して塩酸の存在下になされ、ゲルは40〜120℃(減圧下の乾燥でもよいが、特に減圧下である必要はない。)で乾燥させることが特に好ましい。
尚、350℃を越える高温、特に400℃以上の高温での加熱は、上記の理由で好ましくないが、これは金属ゲルマニウムが酸化されて酸化物になってしまうためである。従って、加熱雰囲気(焼成雰囲気)を、不活性雰囲気、例えば、窒素雰囲気及びアルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気にする等により、金属ゲルマニウムの酸化が抑制され、遠赤外線放射率の低下が抑えられれば、より高温、例えば、400℃以上で加熱(焼成)することもできる。
[1]遠赤外線放射複合材料の製造
実施例1
ビーカーに、エタノール100g、アセチルアセトン6g、チタンテトラ−iso−プロポキシド100g(0.35モル、TiO2換算;28g)、塩酸(36質量%濃度の水溶液)6g、ポリエチレングリコール(重量平均分子量;200)6g及び金属ゲルマニウム100g(南京向康技術開発有限公司社製)を投入し(金属ゲルマニウムとチタンアルコキシドとの合計を100質量%とした場合に、チタンアルコキシドは100質量%である。)、攪拌して混合し、チタンテトラ−iso−プロポキシドを加水分解させ、チタンゾルを調製した。その後、攪拌を継続してゾルをゲル化させた。次いで、105℃で12時間乾燥し、遠赤外線放射複合材料を製造した。金属ゲルマニウムと生成した二酸化チタンとの合計を100質量%とした場合に、二酸化チタンは28質量%であり、チタンテトラ−iso−プロポキシドが有するチタン元素の全量が二酸化チタンになっていた。
実施例1で製造した遠赤外線放射複合材料及び実施例1で用いた金属ゲルマニウムの各々の遠赤外線放射率を測定した。各々の試料は、複合材料又は金属ゲルマニウムとバインダとを等量(質量)湿式ポットミルに投入し、3時間、攪拌し、混合して調製した。また、遠赤外線放射率の測定は、ペースト状の試料をアルミナ板に塗布し、105℃で乾燥して作製した試験体を用いて実施した。
尚、実施例1の複合材料には銀系抗菌剤を3質量%配合し、300℃で3時間加熱してポリエチレングリコールを除去して放射率測定用の試料を作製した。
実施例1の複合材料及び金属ゲルマニウムの各々の測定結果は、それぞれ図1、2のとおりである。
Claims (10)
- 金属ゲルマニウムと二酸化チタンとを含有する遠赤外線放射複合材料であって、
上記二酸化チタンは、チタンアルコキシドが加水分解し、その後、ゲル化して生成した二酸化チタンであることを特徴とする遠赤外線放射複合材料。 - 金属ゲルマニウム、チタンアルコキシド及び有機溶媒が混合され、該チタンアルコキシドが加水分解し、その後、生成したゲルが150℃以下で乾燥されてなり、該金属ゲルマニウム及び二酸化チタンが含有されていることを特徴とする遠赤外線放射複合材料。
- 上記乾燥の後、更に200〜350℃で加熱されてなる請求項2に記載の遠赤外線放射複合材料。
- 上記金属ゲルマニウムと上記二酸化チタンとの合計を100質量%とした場合に、該二酸化チタンは10〜30質量%である請求項1乃至3のうちのいずれか1項に記載の遠赤外線放射複合材料。
- 比表面積が30〜120m2/gである請求項1乃至4のうちのいずれか1項に記載の遠赤外線放射複合材料。
- 請求項1乃至5のうちのいずれか1項に記載の遠赤外線放射複合材料の製造方法であって、
金属ゲルマニウム、チタンアルコキシド及び有機溶媒を混合し、該チタンアルコキシドを加水分解させ、その後、生成したゲルを150℃以下で乾燥させることを特徴とする遠赤外線放射複合材料の製造方法。 - 上記金属ゲルマニウムと上記チタンアルコキシドとの合計を100質量%とした場合に、該チタンアルコキシドは10〜80質量%である請求項6に記載の遠赤外線放射複合材料の製造方法。
- 上記有機溶媒が炭素数1〜3のアルコールであり、上記加水分解は塩酸の存在下になされ、上記乾燥の温度は40〜120℃である請求項6又は7に記載の遠赤外線放射複合材料の製造方法。
- 上記乾燥の後、更に200〜350℃で加熱する請求項6乃至8のうちのいずれか1項に記載の遠赤外線放射複合材料の製造方法。
- 上記金属ゲルマニウムの比表面積が2〜8m2/gである請求項6乃至9のうちのいずれか1項に記載の遠赤外線放射複合材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007280900A JP5070002B2 (ja) | 2007-10-29 | 2007-10-29 | 遠赤外線放射複合材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007280900A JP5070002B2 (ja) | 2007-10-29 | 2007-10-29 | 遠赤外線放射複合材料の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009107875A true JP2009107875A (ja) | 2009-05-21 |
JP5070002B2 JP5070002B2 (ja) | 2012-11-07 |
Family
ID=40776815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007280900A Active JP5070002B2 (ja) | 2007-10-29 | 2007-10-29 | 遠赤外線放射複合材料の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5070002B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102477253A (zh) * | 2010-11-26 | 2012-05-30 | 深圳市嘉达高科产业发展有限公司 | 一种隔热和透光性能可变的玻璃隔热涂料及制造工艺 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01176693A (ja) * | 1987-12-29 | 1989-07-13 | Shimadzu Corp | 遠赤外線放射体の製造方法 |
JPH0277272A (ja) * | 1988-06-20 | 1990-03-16 | Takeda Chem Ind Ltd | 皮接治療用成形体 |
JP2002211928A (ja) * | 2000-12-30 | 2002-07-31 | Altra:Kk | 可視光反応型チタン酸化物及びその製造方法並びに汚染物質の除去方法 |
JP2003171169A (ja) * | 2001-12-04 | 2003-06-17 | Shiro Nomura | 遠赤外線放射材料 |
JP2004359811A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Ceramission Kk | 放熱性、遮熱性に優れた組成物及び皮膜 |
-
2007
- 2007-10-29 JP JP2007280900A patent/JP5070002B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01176693A (ja) * | 1987-12-29 | 1989-07-13 | Shimadzu Corp | 遠赤外線放射体の製造方法 |
JPH0277272A (ja) * | 1988-06-20 | 1990-03-16 | Takeda Chem Ind Ltd | 皮接治療用成形体 |
JP2002211928A (ja) * | 2000-12-30 | 2002-07-31 | Altra:Kk | 可視光反応型チタン酸化物及びその製造方法並びに汚染物質の除去方法 |
JP2003171169A (ja) * | 2001-12-04 | 2003-06-17 | Shiro Nomura | 遠赤外線放射材料 |
JP2004359811A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Ceramission Kk | 放熱性、遮熱性に優れた組成物及び皮膜 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102477253A (zh) * | 2010-11-26 | 2012-05-30 | 深圳市嘉达高科产业发展有限公司 | 一种隔热和透光性能可变的玻璃隔热涂料及制造工艺 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5070002B2 (ja) | 2012-11-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103396634B (zh) | 一种自清洁抗菌防雾薄膜 | |
JP5845182B2 (ja) | 安定なナノチタニアゾルおよびそれらの製法 | |
JP5447178B2 (ja) | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液及びその製造方法 | |
TW201111038A (en) | Photocatalyst dispersion liquid and photocatalyst functional product using the same | |
JP2002154823A (ja) | 無機系酸窒化物の製造方法および無機系酸窒化物 | |
WO2011145385A1 (ja) | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液及びその製造方法 | |
KR100678524B1 (ko) | 티타니아 용액의 제조방법 | |
JP5212353B2 (ja) | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法 | |
JP5447177B2 (ja) | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液及びその製造方法 | |
JP5070002B2 (ja) | 遠赤外線放射複合材料の製造方法 | |
JP2008037697A (ja) | 遠赤外線放射複合材料及びその製造方法 | |
JP4540971B2 (ja) | 中性酸化チタンゾルおよびその製造方法 | |
JP2002239395A (ja) | 光触媒及びその製造方法並びにそれを用いた光触媒体 | |
JP4980204B2 (ja) | 酸化チタン系消臭剤の製造方法 | |
JP3886594B2 (ja) | 酸化チタンを担持したシリカ三次元網状構造光触媒の製造方法 | |
JP7088082B2 (ja) | 酸化チタン微粒子混合物、その分散液、光触媒薄膜、光触媒薄膜を表面に有する部材及び酸化チタン微粒子分散液の製造方法 | |
JP2005318999A (ja) | 抗菌性消臭剤およびその製造方法 | |
JP7224767B2 (ja) | チタニアナノ粒子及びそれを用いた紫外線遮蔽材 | |
JP2004073910A (ja) | 可視光応答型光触媒及びその製造方法並びにそれを用いた光触媒体 | |
JP3978636B2 (ja) | 光触媒膜形成用コーティング組成物 | |
JP2000325785A (ja) | 光触媒物質の担持体への付着方法及び光触媒物質が付着された担持体 | |
JP3955122B2 (ja) | 酸化亜鉛超微粒子及びその製造方法 | |
JP4343335B2 (ja) | 光触媒用酸化チタン塗膜形成性組成物及びその製法 | |
JP2022156812A (ja) | 酸化亜鉛ナノ粒子の製造方法 | |
JP2005169160A (ja) | 光触媒液状組成物およびそれを用いて形成した光触媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101019 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120413 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120424 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120621 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120710 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120718 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120807 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120820 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150824 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5070002 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |