JP2009099723A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 本発明は、半導体集積回路等のリソグラフィに用いられる露光装置に関し、真空チャンバの変形による装置本体の位置の変動を低減あるいは解消することを目的とする。
【解決手段】 基礎上に立設される柱部材と、装置本体を気密に内包する真空チャンバとを備え、前記柱部材に対する真空チャンバ上壁の変位が許容されるように、前記柱部材と前記真空チャンバ上壁とが弾性部材を介して弾性的に接続されることを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 基礎上に立設される柱部材と、装置本体を気密に内包する真空チャンバとを備え、前記柱部材に対する真空チャンバ上壁の変位が許容されるように、前記柱部材と前記真空チャンバ上壁とが弾性部材を介して弾性的に接続されることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体集積回路等のリソグラフィに用いられる露光装置に関する。
近年、半導体集積回路の微細化に伴い、光の回折限界によって制限される光学系の解像力を向上させるために、13nm程度の波長を有するEUV光を使用したEUV露光装置が開発されている。このような露光装置では、EUV光が大気により吸収されるため、真空中において露光を行う必要がある。そして、真空中において露光を行うため、レチクルステージ、投影光学系、ウエハステージ等を備えた装置本体を真空チャンバ内に収容し、真空チャンバ内を真空排気した状態でウエハへの露光が行われる。
特開2002−15989号公報
しかしながら、従来の露光装置では、真空チャンバ内を真空排気すると、大気圧により真空チャンバが変形し、真空チャンバの内面にブラケット等を介して支持されるレチクルステージ、投影光学系、ウエハステージ等の装置本体の位置が変動するという問題があった。
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、真空チャンバの変形による装置本体の位置の変動を低減あるいは解消することができる露光装置を提供することを目的とする。
第1の発明の露光装置は、基礎上に立設される柱部材と、装置本体を気密に内包する真空チャンバとを備え、前記柱部材に対する真空チャンバ上壁の変位が許容されるように、前記柱部材と前記真空チャンバ上壁とが弾性部材を介して弾性的に接続されることを特徴とする。
第2の発明の露光装置は、第1の発明の露光装置において、前記装置本体が前記真空チャンバの底面に設置されることを特徴とする。
第3の発明の露光装置は、第1の発明の露光装置において、前記真空チャンバ上壁は、前記弾性部材を介して前記柱部材に吊り下げ支持されることを特徴とする。
第4の発明の露光装置は、第3の発明の露光装置において、前記真空チャンバは前記柱部材の少なくとも一部を内包し、前記真空チャンバ上壁に設けられて前記柱部材が通過可能な開口と、前記柱部材と前記真空チャンバ上壁との間に延在して前記開口を覆う気密シートとを有することを特徴とする。
第5の発明の露光装置は、第4の発明の露光装置において、前記柱部材は複数の中空部材からなり、少なくとも前記開口を通過する中空部材を気密加工してなることを特徴とする。
第6の発明の露光装置は、第4の発明の露光装置において、前記弾性部材と前記気密シートとが統合されたベローズを備えることを特徴とする。
第7の発明の露光装置は、第1の発明の露光装置において、前記柱部材に対する前記真空チャンバ下壁の変位が許容されるように、前記柱部材と前記真空チャンバ下壁とが弾性部材を介して弾性的に接続されることを特徴とする。
第8の発明の露光装置は、第7の発明の露光装置において、前記装置本体は、前記柱部材に固定されたブラケット上に支持されることを特徴とする。
第9の発明の露光装置は、第8の発明の露光装置において、前記装置本体は、第1ユニットと、第2ユニットとを含み、前記ブラケットは、前記第1ユニットを支持する第1ブラケットと、前記第2ユニットを支持する第2ブラケットとを含むことを特徴とする。
第10の発明の露光装置は、第7の発明の露光装置において、前記真空チャンバ下壁を支持する支持部材が前記柱部材とは別に設けられることを特徴とする。
第11の発明の露光装置は、第10の発明の露光装置において、前記真空チャンバ下壁を支持する支持部材は、前記真空チャンバ下壁の変位に応じて変形することを特徴とする。
本発明の露光装置では、真空チャンバの変形による装置本体の位置の変動を低減あるいは解消することができる。
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
図1および図2は本発明の露光装置の一実施形態を示している。この実施形態では、本発明がEUV光を使用したEUV露光装置に適用される。
この露光装置は、露光部11、搬送部13、光源部15を有している。露光部11、搬送部13、光源部15は、ペデスタル17上に配置されている。
露光部11は、柱部材19、真空チャンバ21を有している。
柱部材19は、図2に示すように、ペデスタル17上の矩形状の領域の頂点に4本配置されている。柱部材19は、ステンレス鋼等の剛性の高い金属により形成されている。柱部材19の上端および下端にはエンド部材23,25が固着されている。下端のエンド部材25は、ペデスタル17の上面に固定され、柱部材19がペデスタル17上に立設されている。柱部材19の上部、中間部、下部には、ブラケット27が固定されている。
真空チャンバ21は直方体状をしており、上壁29、側壁31、下壁33を有している。真空チャンバ21の上壁29には、柱部材19の上部が挿通される開口部29aが形成されている。柱部材19の上端のエンド部材23と開口部29aとの間には円錐台状のベローズ35が配置されている。真空チャンバ21の上側では、ベローズ35の上端はエンド部材23に気密状態で固定され、ベローズ35の下端は真空チャンバ21の上壁29に気密状態で固定されている。真空チャンバ21の下壁33には、柱部材19の下部が挿通される開口部33aが形成されている。柱部材19の下端のエンド部材25と開口部33aとの間には円錐台状のベローズ35が配置されている。真空チャンバ21の下側では、ベローズ35の上端は真空チャンバ21の下壁33に気密状態で固定され、ベローズ35の下端はエンド部材25に気密状態で接続されている。
真空チャンバ21の下壁33はペデスタル17から浮き上がった状態となっており、真空チャンバ21の下壁33とペデスタル17との間には、支持部材37が配置され、支持部材37により真空チャンバ21の下壁33が支持されている。なお、支持部材37が真空チャンバ21の下壁33の変形に追従するように支持部材37をバネ部材等で形成しても良い。真空チャンバ21の内部は真空ポンプ(不図示)により真空引きされ真空に保たれる。
この実施形態では、各柱部材19が3本の中空部材19A,19B,19Cを直列に継ぎ合わせて形成されている。そして、真空チャンバ21の上壁29の開口部29aを通過する上部の中空部材19Aの上端が、エンド部材23により密閉されている。エンド部材23は、中空部材19Aより大径とされている。また、真空チャンバ21の下壁33の開口部33aを通過する下部の中空部材19Cの下端が、エンド部材25により密閉されている。エンド部材25は、中空部材19Cより大径とされている。各中空部材19A,19B,19Cには、通気穴19aが形成されている。このように通気穴19aを形成することにより、真空チャンバ21内を真空引きした際に、各中空部材19A、19B、19Cの内部と各中空部材19A、19B、19Cの外側の真空引きされた空間との間での気圧差をなくすことが可能となり、従って、中空部材19A,19B,19Cの変形を防止することができる。
真空チャンバ21内には、レチクルステージ39、投影光学系41、ウエハステージ43が収容されている。レチクルステージ39は、柱部材19の上部に固定されるブラケット27を介して柱部材19に支持されている。投影光学系41は、支持部材45により支持されている。支持部材45は、除振装置47を介して、柱部材19の中間部に固定されるブラケット27に支持されている。ウエハステージ43は、柱部材19の下部に固定されるブラケット27を介して柱部材19に支持されている。投影光学系41の側方には、照明光学系49の後部49aが配置されている。ここで「照明光学系の後部」とは、照明光学系49が複数の光学部材で構成され、照明光学系49を通過する光の進行方向に応じて入射端側と射出端側とを想定した場合、射出端から所定数の光学部材、この光学部材を保持する保持構造、および、その周辺構造を含めた構成を指すものとする。照明光学系49は、真空チャンバ21の側壁31を貫通する筒状部材93を含む。この筒状部材93は真空チャンバ21と後述する真空チャンバ73との間を連通しており、照明光学系49の後部49aは筒状部材93を介して真空チャンバ73に収容される照明光学系49の前部49bと接続されている。照明光学系49の前部49bについては後述する。
搬送部13は、レチクルローダ51、ウエハローダ53を有している。
レチクルローダ51およびウエハローダ53はそれぞれが、搬送アーム55と、搬送アーム55を駆動する駆動部57を有している。レチクルローダ51およびウエハローダ53は、それぞれがチャンバを備え、各チャンバに対応して設けられたゲートバルブ59を介して真空チャンバ21と接続されている。レチクルローダ51およびウエハローダ53のチャンバのいずれにも、ゲートバルブ59とは別のゲートバルブ61が個々に設けられ、ゲートバルブ61を介してロードロック室63に接続されている。個々のロードロック室63には、ゲートバルブ61とは別のゲートバルブ65が配置されている。ウエハローダ53のチャンバは、支柱67を介してペデスタル17上に支持されている。また、レチクルローダ51のチャンバは、支柱69を介してウエハローダ53のチャンバ上に支持されている。
光源部15は、柱部材71、真空チャンバ73を有している。
柱部材71は、図2に示すように、ペデスタル17上の矩形状領域の頂点に4本配置されている。柱部材71の上端および下端にはエンド部材75,77が形成されている。下端のエンド部材77は、ペデスタル17の上面に固定され、柱部材71がエンド部材77を介してペデスタル17上に立設されている。柱部材71の下部には、ブラケット79が固定されている。柱部材71の上端のエンド部材75の上には、EUV光を発生するEUV光発生部81が配置されている。
真空チャンバ73は直方体状をしている。真空チャンバ73の上壁83には、柱部材71の上部が挿通される開口部83aが形成されている。柱部材71の上端のエンド部材75と開口部83aとの間にはベローズ85が配置されている。真空チャンバ73の下壁87には、柱部材71の下部が挿通される開口部87aが形成されている。柱部材71の下端のエンド部材77と開口部87aとの間にはベローズ85が配置されている。真空チャンバ73は、柱部材71とは別にペデスタル17上に立設された支持部材89によって、その(真空チャンバ73の)外壁を支持されている。真空チャンバ73の内部は真空ポンプ(不図示)により真空引きされ真空に保たれている。
真空チャンバ73内には、照明光学系49の前部49bが収容されている。ここで「照明光学系の前部」とは、前述の「照明光学系の後部」に対して、照明光学系49が複数の光学部材で構成され、照明光学系49を通過する光の進行方向に応じて入射端側と射出端側とを想定した場合、入射端から所定数の光学部材、この光学部材を保持する保持構造、および、その周辺構造を含めた構成を指すものとする。照明光学系49の前部49bは、柱部材71の下部に固定されるブラケット79を介して柱部材71に支持されている。照明光学系49とEUV光発生部81との間には、真空チャンバ73の上壁83との間の気密状態を維持しつつ上壁83を貫通する筒状部材91が配置されている。真空チャンバ73の側壁には、前述した筒状部材93の一端が貫通している。筒状部材93の他端は、前述したとおり露光部11の真空チャンバ21の側壁31に開口している。
光源部15のEUV光発生部81は、ターゲット材料をプラズマ化してEUV光を発生させる。発生したEUV光は筒状部材91を介して照明光学系49の前部49bに導かれ、筒状部材93を介して真空チャンバ73から真空チャンバ31へ渡り、照明光学系49の後部49aを通ってレチクルRの下面に導かれる。なお、筒状部材91、前部49b、筒状部材93、後部49bを含む照明光学系49は、各所に配置された複数の反射光学系で構成されている。レチクルRの下面には、EUV光を反射する多層膜とEUV光を吸収する吸収体層とが露光しようとするパターンに応じて配置されており、レチクルRの多層膜でEUV光が反射され吸収体層でEUV光が吸収されることによりEUV光はパターン化される。パターン化されたEUV光は、投影光学系41を構成する不図示の複数のミラーにより順次反射されて、レチクルR上のパターンの縮小された像をウエハW上に形成する。スキャン露光方式でウエハW上のダイを露光するときには、EUV光がレチクルR上にスリット光が照射され、レチクルR上でスリット光が照射された領域のパターンの像が投影光学系41を介してウエハW上に形成されることになる。この状態でレチクルRとウエハWとが同期して投影光学系41に対して投影光学系41の縮小率に従った所定の速度で動くことにより、レチクルパターンはウエハW上の所定の露光範囲(ダイに対して)に露光される。
上述した露光装置では、レチクルステージ39、投影光学系41、ウエハステージ43等のユニットを、ブラケット27を介して柱部材19に支持し、真空チャンバ21をベローズ35を介して柱部材19に接続したので、真空チャンバ21の上壁29や側壁31や下壁33が変形しても、各ユニットの位置が変動することはない。
すなわち、真空チャンバ21内を真空排気すると、大気圧により真空チャンバ21が変形するが、例えば真空チャンバ21の上壁29と柱部材19とはベローズ35を介して接続されており、柱部材19に対する上壁29の変位量は上部のベローズ35によって吸収されて柱部材19まで及ばない。このため、柱部材19に対する上壁29の変位によって柱部材19の位置が変動することは殆どない。また、例えば真空チャンバ21の下壁33と柱部材19ともベローズ35を介して接続されており、柱部材に対する下壁33の変位量は下部のベローズ35によって吸収されて柱部材19まで及ばない。よって、柱19に対する下壁29の変位によって柱部材19の位置が変動することも殆どない。さらに、レチクルステージ39、投影光学系41、ウエハステージ43はチャンバ21の側壁31に支持されておらず、ブラケット27を介して柱部材19に支持されている。このため、側壁31が変形しても、側壁31の変形がレチクルステージ39、投影光学系41、ウエハステージ43の位置を変動させることはない。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではない。
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではない。
例えば、上述した実施形態では、EUV光を用いた露光装置に本発明を適用した例について説明したが、本発明は、真空チャンバ内で露光を行う露光装置に広く適用することができる。
17…ペデスタル、19,19D…柱部材、19A,19B,19C…中空部材、21,21A…真空チャンバ、27…ブラケット、29,29A…上壁、33,33A…下壁、29a,33a…開口部、35…ベローズ、37…支持部材、39…レチクルステージ、41…投影光学系、43…ウエハステージ、95,101…弾性部材、99,103…気密シート。
Claims (11)
- 基礎上に立設される柱部材と、
装置本体を気密に内包する真空チャンバと、を備え、
前記柱部材に対する真空チャンバ上壁の変位が許容されるように、前記柱部材と前記真空チャンバ上壁とが弾性部材を介して弾性的に接続されることを特徴とする露光装置。 - 請求項1記載の露光装置において、
前記装置本体が前記真空チャンバの底面に設置されることを特徴とする露光装置。 - 請求項1記載の露光装置において、
前記真空チャンバ上壁は、前記弾性部材を介して前記柱部材に吊り下げ支持されることを特徴とする露光装置。 - 請求項3記載の露光装置において、
前記真空チャンバは前記柱部材の少なくとも一部を内包し、
前記真空チャンバ上壁に設けられて前記柱部材が通過可能な開口と、
前記柱部材と前記真空チャンバ上壁との間に延在して前記開口を覆う気密シートとを有することを特徴とする露光装置。 - 請求項4記載の露光装置において、
前記柱部材は複数の中空部材からなり、
少なくとも前記開口を通過する中空部材を気密加工してなることを特徴とする露光装置。 - 請求項4記載の露光装置において、
前記弾性部材と前記気密シートとが統合されたベローズを備えることを特徴とする露光装置。 - 請求項1記載の露光装置において、
前記柱部材に対する前記真空チャンバ下壁の変位が許容されるように、前記柱部材と前記真空チャンバ下壁とが弾性部材を介して弾性的に接続されることを特徴とする露光装置。 - 請求項7記載の露光装置において、
前記装置本体は、前記柱部材に固定されたブラケット上に支持されることを特徴とする露光装置。 - 請求項8記載の露光装置において、
前記装置本体は、第1ユニットと、第2ユニットとを含み、
前記ブラケットは、前記第1ユニットを支持する第1ブラケットと、前記第2ユニットを支持する第2ブラケットとを含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項7記載の露光装置において、
前記真空チャンバ下壁を支持する支持部材が前記柱部材とは別に設けられることを特徴とする露光装置。 - 請求項10記載の露光装置において、
前記真空チャンバ下壁を支持する支持部材は、前記真空チャンバ下壁の変位に応じて変形することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007269031A JP2009099723A (ja) | 2007-10-16 | 2007-10-16 | 露光装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014086524A (ja) * | 2012-10-23 | 2014-05-12 | Canon Inc | 処理装置、それを用いた物品の製造方法 |
-
2007
- 2007-10-16 JP JP2007269031A patent/JP2009099723A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
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US9310688B2 (en) | 2012-10-23 | 2016-04-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Processing apparatus and article manufacturing method using same |
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