JP2009086669A5

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Publication number: JP2009086669A5
Application number: JP2008250580A
Authority: JP
Filing date: 2008-09-29
Publication date: 2013-01-31
Anticipated expiration: 2028-09-29

Claims

試料を光学的に深さ方向に分解して捕捉するための装置であって、
照明用放射線経路内で照明光の少なくとも１つの空間方向における周期パターンを生成するための手段と、
対物レンズと、
該試料から来る光を検出するための、および該試料の画像を生成するための、および該画像を基に、解像度が向上された少なくとも１つの光学的断面画像を計算するための手段と、
スキャン手段と、を含み、
該照明方向にパターンを生成するための手段が、該スキャン手段の後ろに配列される装置において、
該パターンを生成するための手段によって生成された回折画像が、対物レンズ瞳の中または付近で結像され、該対物レンズ瞳の中または付近には、該回折画像を試料方向に反射する０次および＋／−１次の回折次数のための高反射性の領域（−１、０、＋１）を備えており、かつ該領域の他では該試料から来る光を検出方向に伝達するため透過性に形成されたビーム・スプリッタ（ＭＤＢ）が設けられるか、
またはスイッチング可能なミラー・アレイであるビーム・スプリッタが設けられ、その際スイッチングによって、第１のマイクロ・ミラーが０次および＋／−１次の回折次数の該回折画像を試料方向に伝達し、かつ第２のマイクロ・ミラーのスイッチングによって、該試料光が検出方向に反射されることを特徴とする装置。
前記スキャン手段が、放射線成形のための手段と前記パターン化のための手段の間に配置される、請求項１に記載の装置。
前記パターンの回転および位相位置の変更のための手段が設けられる、請求項１または２に記載の装置。
前記パターンを生成するための手段が、前記スキャン手段と前記対物レンズの間の中間画像内に設けられる、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の装置。
前記パターンを生成するための手段が、透過性または反射性に形成される、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の装置。
前記パターンを生成するための手段が、振幅格子または位相格子または干渉分布である、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の装置。
前記照明光の偏光が、前記周期パターンの回転と同期的に行われる、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の装置。
前記試料光の非デスキャン検出のための平面検出器またはカメラが設けられ、
その際、照明された試料領域の間に間隙を生成するため、かつ／または該平面検出器上で、該照明された試料領域からの検出光で露光された行の間に間隙を生成するため、走査工程中に光遮断するための手段が設けられる、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の装置。
前記照明用放射線経路内に強度制御手段が設けられる、請求項８に記載の装置。
電気光学変調器または音響光学変調器が、光遮断のために設けられる、請求項８または９に記載の装置。
ラインごとの走査工程中に、前記検出器上での前記試料光を、ラインごとに不連続または連続的に前記検出器上に広げるため、検出用放射線経路内にスキャナが設けられる、請求項８に記載の装置。
試料の光学的捕捉のための方法であって、
その際、該試料または試料の少なくとも一部が、ライン状の照明で、スキャン手段によりスキャンされ、該照明光のライン状の放射線成形が行われ、
および該照明光が、少なくとも１つの空間方向において好ましくは周期パターンを有しており、該試料から来る光が検出され、かつそれを基に該試料の画像が生成され、
該画像を基に、該試料の少なくとも１つの光学的断面画像および解像度のうちの少なくとも一つが向上された画像が計算され、
該照明光の該パターンの生成が、該照明光の該スキャン手段の通過後に行われる方法において、
該パターンを生成するための手段によって生成された回折画像が、対物レンズ瞳の中または付近で結像され、該対物レンズ瞳の中または付近には、該回折画像を試料方向に反射する０次および＋／−１次の回折次数のための高反射性の領域を備えており、かつ該領域の他では該試料から来る光を検出方向に伝達するため透過性に形成されたビーム・スプリッタが設けられるか、
またはスイッチング可能なミラー・アレイであるビーム・スプリッタが設けられ、その際スイッチングによって、第１のマイクロ・ミラーが０次および＋／−１次の回折次数の該回折画像を試料方向に伝達し、かつ第２のマイクロ・ミラーのスイッチングによって、該試料光が検出方向に反射されることを特徴とする方法。
まず放射線成形が行われ、次いで前記スキャン手段の通過、およびその後、パターン化が行われる、請求項１２に記載の方法。
前記パターンの回転および位相位置の変更が行われる、請求項１２または１３に記載の方法。
前記パターンの生成が、透過性または反射性の手段によって行われる、請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の方法。
前記照明光の偏光が、前記周期パターンの回転と同期的に行われる、請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の方法。
行ごとの非デスキャン検出のための平面検出器またはカメラ上で、照明された試料領域からの検出光で露光された行の間に間隙が生成される、請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の方法。
ラインごとの照明および検出の際、前記照明が何度もスイッチ・オンおよびオフされる、請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の方法。
試料走査の際に、２つの照明された試料領域の間に間隙があるように光遮断が繰り返される、請求項１乃至１８のいずれか１項に記載の方法。
前記露光された試料領域の間の間隙に割り当てられたカメラ領域の、部分的または全体的なマスキングによる画像の計算が行われ、かつそのように取得された該画像の割振りが行われる、共焦点の画像生成のための、請求項１乃至１９のいずれか１項に記載の方法。
隣接して走査された試料領域が、割り振られた画像内で正しくスケーリングされて隣接して割り当てられるように前記割振りが行われる、請求項２０に記載の方法。
前記検出器前でのスキャン工程中に、ラインによる前記試料の走査方向へのさらなる光偏向が行われる、請求項１乃至２１のいずれか１項に記載の方法。
前記光偏向の速度が、試料と照明光の相対移動の速度より大きい、請求項１乃至２２のいずれか１項に記載の方法。
前記光偏向がステップごとに行われる、請求項１乃至２３のいずれか１項に記載の方法。
前記光偏向が連続的に行われる、請求項１乃至２４のいずれか１項に記載の方法。
走査型レーザ顕微鏡における、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の装置。
走査型レーザ顕微鏡における、請求項１２乃至２５のいずれか１項に記載の方法。
前記スイッチング可能なミラー・アレイはＤＭＤである、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の装置。
前記スイッチング可能なミラー・アレイはＤＭＤである、請求項１２乃至２５のいずれか１項に記載の方法。