JP2009086315A - 投射光学装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ライトバルブと、透過型屈折素子を含む第一光学系5および反射型屈折素子を含む第二光学系3'を有する投射光学系を備え、ライトバルブで形成された画像を投射光学系により投射面4に投射する投射光学装置において、第一光学系5は、該第一光学系5内であって、該第一光学系5が反射型素子を含む場合にはそれを除いたライトバルブ寄りの範囲内で、光軸が下方向に曲げられ、且つ、水平方向に折り曲げられている。これにより、第一光学系5の第1群5Aは、第二光学系3'の下端を下限とする下方スペース(デッドスペース)内に収容され、装置の奥行き寸法がD1に狭められる。
【選択図】図1
Description
市場でもっとも使用されているのはDLPであるが、コントラスト特性に秀で、光利用効率も透過型液晶パネルに勝っているLCoSパネルは、近年の画素数増大傾向にも追従しているデバイスであり、そのシェアを拡大しつつある。
いずれのタイプの画像表示装置においても、かかる装置をできるだけコンパクトに構成することが望ましい。また、かかる装置から投影面までの投射距離を短くすることによって、省スペースで大画面投射を実現できる。
投射レンズ系の光路内に第一の光偏向手段として平面ミラー29を設けて、ベース面と鉛直方向に光路を偏向させたのち、投射レンズ系とスクリーン面の間の光路に第二の光偏向手段5を設け、光路をベース面と平行方向に偏向させる構成が記載されている。
特許文献2には、投射距離を短くする投射光学装置(斜め投射光学装置)が記載されている。ライトバルブ上の原画像の中間像が、透過型屈折系によって生成され、中間像は、凹面ミラーによって、スクリーンに再結像される光学的構成配置が記載されている。
特許文献3には、レンズ群から射出した光束をミラーによって光路偏向し、光軸を折り曲げる構成が開示されている。
パネル(空間変調素子)の像は、光学系20を通過後、ミラー42で折り曲げられて、さらにミラー40で折り曲げられて凹面ミラー21に至り、この凹面ミラー21で折り返され、さらにミラー25で折り返されて投射面22に投射される。
このような構成では、ベース面からの鉛直方向の嵩が高くなっているので、フロントプロジェクション装置に適用しようとすると、装置の嵩が高くなってしまう。
特許文献2の記載の光学系にあっては、フロント投射光学装置として利用する際には、上下方向の装置全体の厚みは、最も大きな凹面ミラーのサイズ(高さ)に依存していることが明らかであるが、これに加えて、透過型屈折光学系の全体が、凹面ミラーよりもさらに上に配置されているため、装置の全体的な高さは更に高くなってしまっている。
この問題は、係る光学系をリアプロジェクション装置内に用いる場合には、リアプロジェクション装置の筐体の中にあるためさほどめだつことはなく、深刻な問題にはなりにくいが、フロントプロジェクション装置に適用しようとする場合には、装置の大きさが目立つので問題になりやすい。
また、透過型屈折光学系の下部分のスペースは、凹面ミラーの下端を下限とした広いデッドスペースとなっている。また、光学系が投射方向に直線状に並んで配置されているため、投射方向の長さ、すなわち装置奥行きが長く、コンパクトな投射装置の実現が難しくなっている(投射画像の位置より奥に光学系が位置している)。
また、投射レンズ系と凹面ミラーの間で光路を折り返しているので、この光路偏向に要する素子のサイズが後述の理由により大きくなり、投射レンズ系から凹面ミラーに至る投射光束は投射レンズ系の光軸からはずれた位置にあるので、光路偏向素子に要する素子のセッティングも容易でない。
また、光路を折り曲げる素子を挿入するためには投射レンズ系と凹面ミラーの間の距離を広く取る必要があり、投射レンズから凹面ミラーに至る投射光束は、先に説明した特許文献2において示されている光路図からわかるように、高画角側ほどレンズ系の光軸と成す角度が大きくなる傾向を示しているので、これらの光束を受ける凹面ミラーのサイズは、レンズ系からの距離が遠くなるほど大型化し、凹面ミラーのコストもこれに伴い増大するという不具合がある。
また、投射レンズ系と凹面ミラーの間には中間像があり、その近傍で折り曲げているため、光束が集光している位置に折り返しミラーを配置しているので、投射画像の画質が、折り返しミラーの僅かな形状誤差の影響を受けて劣化しやすくなる、という問題点がある。
すなわち、画角の高い(物体高の高いところから出射した)光線は、最終レンズにおいてレンズの端に近いところを通過し、大きな出射角を以って凹面ミラーに導かれている、という特徴がある。
このような特徴があるため、この投射レンズ系において、折り返しのための光路空間を長く取ろうとしたときには、最終レンズあるいはその近傍に配置されるレンズのサイズが大型化しやすい。
さらには、レンズ系から広がった光束を凹面ミラーが受けるので、凹面ミラーのサイズも同様に大型化しやすい。
このような光軸の折り曲げは、上記理由によりレンズサイズ等の大型化を招き、小型化には却って妨げとなる。
また、上記のように、光束が集光している位置に折り返しミラーを配置した場合、投射画像の画質が折り返しミラーの僅かな形状誤差の影響を受けて劣化しやすくなる。
以上の通り、この種の投射光学装置においては、単に折り返しミラーで光軸を折り曲げれば装置のコンパクト化が実現できるというものではなく、画質低下防止と装置のコンパクト化の両立は極めて困難な現状にある。
特許文献3の例えば図9では、折り返しミラー30で光軸を折り曲げた後に、レンズ91を配置して光束の広がりを抑制する構成が見られるが、上述した「投射画像の画質が折り返しミラーの僅かな形状誤差の影響を受けて劣化しやすくなる」という問題は依然として残る。
光線が広がらないようにするためには、例えば、折り曲げ空間に対して物体側(空間変調素子側)に配置されるレンズ群のパワーを正にしておくことが有効である。パワーを強くするほど光線は収束する方向に制御できることになる。軸上色収差や像面倒れなどの収差のバランスも考慮しながら設計を行うことが有効である。
折り曲げを行う空間よりも空間変調素子側にあるレンズ群から射出する光線が広がらないように設計することによって、折り曲げ空間での光線の広がり(素子のサイズアップ)を回避することができる。
また、折り曲げを行う空間には中間像が結像するような「光束集光」の条件は存在しないので、折り曲げのために設ける光路偏向手段(折り返しミラー等)の形状誤差等による画質劣化も抑制できることになる。
請求項3記載の発明では、請求項1又は2記載の投射光学装置において、前記第一光学系の、前記折り曲げ位置よりも前記空間変調素子側に配置されたレンズ群の合成パワーが正であり、該レンズ群から射出する光束は広がらず、あるいは略平行であることを特徴とする。
請求項5記載の発明では、請求項1〜4のいずれか1つに記載の投射光学装置において、前記第二光学系が正のパワーを有する反射型屈折素子を含み、前記第一光学系と前記第二光学系との間に中間像が生成されることを特徴とする。
請求項7記載の発明では、請求項6記載の投射光学装置において、前記第一光学系における前記上下方向のベクトルを含む方向の折り曲げが前記反射型屈折素子の下方端側へ向けてなされ、前記第一光学系の、前記折り曲げ位置よりも前記空間変調素子側に配置された群は、前記反射型屈折素子の下方端を下限とする空間領域内に配置されていることを特徴とする。
請求項8記載の発明では、請求項1〜7のいずれか1つに記載の投射光学装置において、前記第一光学系はフォーカシング調整機構を有し、前記フォーカシング調整機構を前記第一光学系の前記第二光学系側の群に設けたことを特徴とする。
請求項10記載の発明では、請求項1〜9のいずれか1つに記載の投射光学装置において、前記光路偏向手段を複数有し、1つの光軸上に位置する2つの光路偏向手段が一体的ないし連続的に構成されていることを特徴とする。
請求項12記載の発明では、請求項1〜11のいずれか1つに記載の投射光学装置において、前記空間変調素子の制御基板は、前記投射面における左右方向、および、前記第一光学系における、前記第二光学系側に配置された群の光軸を含む面に対して略平行に配置されることを特徴とする。
請求項14記載の発明では、請求項1〜13のいずれか1つに記載の投射光学装置において、前記空間変調素子は、前記第二光学系の最下端と同位、もしくは上位に配置されることを特徴とする。
請求項15記載の発明では、請求項1〜14のいずれか1つに記載の投射光学装置において、前記第二光学系を前記第一光学系に対して接離可能に支持する可動機構を有し、非投射時には前記第二光学系を前記第一光学系側へ移動して装置奥行き寸法を低減可能であることを特徴とする。
請求項16記載の発明では、請求項1〜15のいずれか1つに記載の投射光学装置において、前記第二光学系から前記投射面に至る光路に、開口部及び遮光部が設けられ、画像投射時には、前記開口部を前記第二光学系からの反射光が収束して通過することを特徴とする。
請求項2記載の発明によれば、第一光学系の嵩(容積)が増すのを抑えることができ、同時に、従来ではデッドスペースだった部分を有効利用でき、装置の容積を縮小することができる。
請求項3又は4記載の発明によれば、光束の広がりがない空間で折り曲げるので、レンズのサイズアップ等の弊害を回避でき、装置の小型化に確実に寄与できる。
請求項6記載の発明によれば、正のパワーを有する反射型屈折素子が、投射光学系の中で最も大きな有効径を有していると、装置の高さを実質決定しているミラー(反射型屈折素子)の高さが投射光学系内で最も大きいサイズであるから、その高さの範囲内に第一光学系を折り込め易くなる。
したがって、装置の高さ方向のサイズを損なうことなく、奥行きを短縮でき、また、従来問題であったデットスペースも有効利用できるようになり、装置をコンパクト化することができる。
請求項8記載の発明によれば、フォーカシング調整機構が装置の天面から奥まったところにある場合と比較して、調整機構の一部を天面から出して手動調整する機構とすることができるため、自動調整機構による複雑化を回避でき、小型・簡易化を実現できる。
請求項10記載の発明によれば、2つの光路偏向手段を一体的に構成することによって、光路偏向手段の各々が有する2つの光路偏向面の相対的な配置精度を予め確保することができる。これによって光学系の組み付けが容易になり、組み付け調整コストを下げることができる。
請求項11記載の発明によれば、一方の光路偏向手段が有する偏向反射面と他方の光路偏向手段が有する偏向反射面の法線が直交するプリズムとすることによって、光路偏向作用を一体型の光路偏向素子によって実現できる。
空間変調素子の長手方向がベース面の法線方向になるように配置したときは、空間変調素子と制御基板を接続するケーブルは空間変調素子の短手方向についていることが多いので、ケーブルが天面側に延びるように配置することができ、これと制御基板をつなげることが容易になるとともに、制御基板とベース面を略平行に配置することもできる。
請求項13記載の発明によれば、ベース面と平行な面内で投射光学系をL字型に折り曲げて配置し、その内側のスペースに照明光学系を配置することによって、装置全体のデッドスペースを少なくし、装置を小型化することができる。
請求項14記載の発明によれば、第一光学系の上下方向の折り曲げによって、奥行き方向が短縮されると同時に、装置の高さを実質決定しているミラー(第二光学系)の高さよりも、大きくならないように第一光学系を折り込めることができる。したがって、装置の高さ方向のサイズを損なうことなく、奥行きを短縮でき、また、従来問題であったデッドスペースも有効利用できるようになり、装置をコンパクト化することができる。
所望の投射性能を確保するためには第一光学系と第二光学系の間隔を極端に近づけることが難しいが、装置を使用しない場合においてはこの間隔は不要である。
請求項16記載の発明によれば、開口を通過しないフレアが投射画像上に到達しなくなるので、画像上のフレア成分を低減し、画像のコントラスト性能を向上させることができる。
図7は、従来から知られているフロントプロジェクション装置(特許文献2に相当)の側面図を示している。空間変調素子としてのライトバルブ1上に生成される原画像は、第一光学系2と第二光学系3からなる投射光学系によって、被投影面4に拡大投射される。図7の例では、第一光学系2は透過型屈折系で構成されている。また、第二光学系3は反射型屈折系で構成されている。
ライトバルブ1上の原画像は、被投影面4上に正立像として投影される。また、ライトバルブ1上の原画像の倒立像が、中間像として、透過型屈折系によって、第一光学系2と第二光学系3の間に生成されている。
この中間像は、第二光学系3によって、被投影面4に正立像として投射されている。
ライトバルブ1と第一光学系2は直線状に配置されているため、装置の奥行き寸法はDであり、第一光学系2の下面と第二光学系3の下端との間はデッドスペースとなっている。
本実施形態を説明する前に、投射光学装置としての斜め投射光学装置におけるY方向がどの方向であるかを特定するために、以下のようにベクトルAを定義する。
図1には、空間変調素子1で形成された画像の中心から投射面4に至る光路のうち、第二光学系3'から投射面4に至る光路を通過する光線を光線aとして示している。光線aは投射面4の法線に対して斜めに投射されている。この場合、光線aの進行途中に偏向素子があったとしても光線aは透過直進して投射面4に達するものとして考える。
光線aの進行方向ベクトルをベクトルAとし、ベクトルAにおける、投射面4への略平行な射影成分を上方向、その反対方向を下方向と規定すると、Y方向は上下方向に相当するので、光路の折り曲げ方向は上下方向を含んでいる。
本実施形態では、第一光学系5の内部で光路を折り曲げており、折り曲げ位置よりも物体側(空間変調素子側)において、少なくとも上下方向への折り曲げが行われていることを特徴とする。
より具体的には、折り曲げない場合の第一光学系の光軸より(図7参照)−Y方向に折り曲げた構成とした。
このような構成を採用することで、図1に示すように、装置の奥行きは、折り曲げない場合においてはD2(図7におけるD)であったものが、D1となり、装置の奥行きを短縮できるようになった。
また、光路を折り曲げない場合の第一光学系の下部デットスペース(図7参照)に折り曲げて配置することもできるので、デッドスペースを有効利用できるようになった。
このように、第一光学系5の内部でY方向の上下方向に折り曲げることで、空間変調素子1による作像部分を低い位置に配置することができるようになった。
しかしながら、投射性能を優先し、レイアウト条件を犠牲にせざるを得ない場合がある。このように、必ずしも、折り返すための光路空間が充分に長い光学系の設計結果を得られない場合があり、その場合は光路が下方向に伸びてしまう新たな課題が発生する場合がある。
すなわち、下方向に折り曲げただけでは、下方向への長さが大きくなって第二光学系3'の下端を越え、装置高さを増加させる場合もあり得る。
つまり、このY2〜Y3の範囲内で、−Y方向に折り曲げ、かつ、水平方向にも折り曲げることにより、装置の全体的な高さが増えてしまうことを抑制できる。
空間変調素子1としては、液晶パネルなどのライトバルブが好適であるが、パネルを照明する照明系エンジンを装置の下部(デッドスペース)に配置することもできるようになるため、より重心の安定した装置が実現できる。
図2(拡大図)はXY面図であり、第1群5Aと第2群5Bの間の光路内に光路偏向手段(平面ミラー)6、7が設けられている。第1群5Aの光軸L1(図4参照)はZ軸方向であり、光路変更手段6によって光軸はY方向に偏向されている。
つづいて光路偏向手段7が設けられており、光軸L2(図4参照)はX軸方向に光軸L3(図4参照)として偏向されている。第2群5Bと、第二光学系(正のパワーを有する反射型屈折素子)3'の間の光路空間には中間像面が生成されている。
装置のベース面はXZ面内にあり、ベース面のY方向高さは、反射型屈折素子3'のY方向最小高さと略一致した例を図示している。
光路偏向手段6の偏向面の法線はYZ面上にあり、Z軸に対して45度傾けて配置されている。
光路偏向手段7の偏向面上において、空間変調素子1上の原画像の長手方向は、こんどは、Z軸方向になっている。光路偏向手段7の偏向面の法線はXY面上にあり、X軸に対して−45度傾けて配置されている。
光路偏向手段7によって、光軸はX方向に偏向されているから、投射面はYZ面となるので、投射面、すなわちYZ面に対し、像の長手方向がZ方向になっているので、投影画像は、横方向に長い画像となる。
・図6に示す従来構成よりも全体的に装置の奥行きを小さくすることができる。
・従来構成例では図6にハッチングで示したようにデッドスペースが多かったのに対して、本実施形態では図1に示すように、第一光学系5の下部のデッドスペースを少なくすることができる。したがって、大きな有効径を有する第二光学系3'の大きさで生じていたデッドスペースの有効利用を行うことができるとともに、省スペース化も実現できる。
・下方向への折り曲げと水平方向への折り曲げを行ったので、デッドスペースの有効利用と共に、上下すなわち、高さ方向に折り曲げている光学系の長さに相当するスペース分だけ、水平方向の光学系の長さを短縮できる。したがって、装置の奥行き方向の短縮を実現できる。
・空間変調素子の長手方向を装置のベース面に対して鉛直方向に配置し、投射面上においてベース面と平行な方向、すなわち横方向に長い画像を投射させることができる。空間変調素子をこのように鉛直方向に配置できると、クロスプリズムなどの体積を小さくすることができるという効果も得られ、クロスプリズムのローコスト化、装置の軽量化が達成される。
なお、図3の斜視図例のように、第一光学系5の第1群5Aの光軸L1はZ軸と平行に配置されていなくてもよい。たとえば、光軸L1はZ軸に対して、XZ面内、あるいは、YZ面内で所定の角度で傾いていてもよく、左記の2つの面に傾き成分をともに有する構成も可能である。
XZ面内方向に傾けて配置する場合には、その角度に応じて空間変調素子1の姿勢を適宜回転して配置すれば、投射画面上で正規の向きに画像を投射することが可能である。
このように、フォーカシング調整機構(図示せず)は第2群5Bに集約している。第2群5Bは第1群5Aに対して装置の天面に近い位置にある。これは、フォーカシング調整機構が装置の天面から奥まったところにないことを意味する。このことによって、フォーカシング調整機構を天面側に設けて操作するような構成が複雑化、大型化しないというメリットが得られる。逆に奥まってしまうと、操作部を天面の外に出すためにフォーカシング調整機構が大型化、複雑化してしまうということは、特に説明するまでもなく容易に理解できることである。
本実施形態では、光路偏向手段6、光路偏向手段7はいずれも平面ミラーで構成した例を図示しているが、平面ミラーは安価であるという利点がある。さらには、図示していない光学系鏡枠の形状は概ね円筒形であるが、この形状との整合が得られやすいという利点もある。
本実施形態では、2つの直角プリズムを一体化した構成の光路偏向手段8を有している。光路偏向手段8は、第1の実施形態における光路偏向手段6に対応する第一の直角プリズム9と、第1の実施形態における光路偏向手段7に対応する第二の直角プリズム10とから構成されている。
第一の直角プリズム9における偏向面9Aと第二の直角プリズム10における偏向面10Aの法線は直交するように構成配置されている。これによって、前述したように、空間変調素子1の長手方向をベース面の法線方向に配置し、投射画面の長手方向がベース面と平行になるように投射することができる。このことを以下に詳細に説明する。
最後に、第二の直角プリズム10によって偏向反射された光路において、空間変調素子1の長手方向はZ方向である。
このように、空間変調素子1の長手方向はY方向からZ方向に変換される。ここで、図1、図3に示すように、装置におけるベース面をXZ面としているので、このベース面に対し、投射画像の長手方向が水平となるように投射することができる。なお、ベース面は、装置を設置する面に対して略水平であるものとしている。
本実施形態では、空間変調素子1の短手方向からケーブル11を天面側に出して、制御基板12とジョイントするようにしており、制御基板12はベース面と平行に配置することが容易である。
このように配置すると、装置の嵩が、制御基板12の縦ないし横の長さの制約を受けることはないので、制御基板12の縦ないし横の長さよりも短い嵩におさめることが可能になる。
本実施形態では偏光ビームスプリッタ13を例示しているが、ワイヤグリッド偏光子を用いてもよい。図9において、符号14は光合成プリズムを示している。
図10はXZ平面図であり、光路偏向手段6より前段すなわち空間変調素子1側の投射光学系の光軸L1はZ方向に配置され、光路変更手段7よって、その後段の投射光学系の光軸L3はX方向に配置され、平面的にはL字型状に折り曲げられた配置になっている。
図10においてハッチングされた領域に照明光学系を配置することによって、装置全体における無駄なスペースを少なくすることができ、装置を小型化することができる。ここでの照明光学系については、通常の照明光学系を用いることができる。少なくとも光源、照度均一化光学系が含まれ、偏光変換素子を用いれば照明光の光利用効率を向上することができる。
照度の均一化はフライアイ光学系やロッドインテグレータ素子によって行うことができる。照明光の拡散角を調整するためのコンデンサレンズも用いられる。光源としてはメタルハライドランプ、高圧水銀ランプなどのランプを用いることもできるし、レーザやLEDなどの固体光源を用いることも可能である。
図10において、偏光分離板として、偏光分離特性に優れたワイヤグリッド偏光子を用いることもできる。あるいは、偏光ビームスプリッタであってもよい。
また、図10では照明光を波長分離板によってRGBの3色に分離して、その各々を空間変調素子に照明する所謂3板方式の例を示しているが、これに限定されるものではなく、空間変調素子1は1枚で、カラースクロールフィルターによってフィールドシーケンシャルに画像を生成するようにしても本発明の効果は失われない。
図11(a)および図11(b)はXY平面図であり、第一光学系5の第2群5Bの下、ベース面側には若干のスペースがある。このスペースに第二光学系3'の可動機構15を設け、第二光学系3'と第一光学系5の間隔が短くなる方向に移動できるようにしたものである。
可動機構15は、第一光学系5の第2群5Bの下のスペースにおいてベース面に固定された固定フレーム16と、この固定フレーム16内に収容され、第二光学系3'側へスライド可能な2連の可動フレーム17、18と、先端側の可動フレーム18の先端部に固定され、第二光学系3'を支持する支持部材19とを有している。
これによって、装置を使用しないとき、すなわち画像を投射しないときには、図11(b)に示すように、第二光学系3'の位置を第一光学系5側に近づけて、装置全体の占有スペースを小さくできるようになっている。
図12(a)および図12(b)はXY平面図であり、第二光学系3'と投射面4の間の光路空間に開口部20と遮光部21を設けており、第二光学系3'を反射して投射面4に至る光束が開口部20を通るように配置している。
開口部20は単なる穴(光通過口)でもよいが、光透過性部材で構成することが好ましい。開口部20を設けることによって投射画面上へのフレア光をカットし、コントラストなどの画質を向上する効果が得られる。また、第二光学系3'の反射面へのゴミ、塵の付着を防止することができる。第二光学系3'の反射面上にゴミや塵が付着すると、投射画質が劣化する。
投射光の熱によってゴミや塵が反射面上で焦げ付くと、恒久的な投射画質劣化を招く恐れがあるが、こうした不具合を改善する効果が得られる。
上述した開口部20および遮光部21は、図12(b)に示すように、第二光学系3'とともに移動して、装置内に格納することができるように構成し、これによって、収納時には装置サイズを更に小型化することが可能になっている。可動構成は例えば図11で示したものと同様の構成を採用することができる。
3' 第二光学系
4 投射面
5 第一光学系
6、7光路偏向手段としての平面ミラー
15 可動機構
20 開口部
21 遮光部
Claims (17)
- 空間変調素子と、
透過型屈折素子を含む第一光学系および反射型屈折素子を含む第二光学系を有する投射光学系と、
を具備し、前記空間変調素子で形成された画像を前記投射光学系により投射面に投射する投射光学装置において、
前記空間変調素子で形成された画像の中心から前記投射面に至る光路のうち、前記第二光学系から前記投射面に至る光路を通過する光線aが前記投射面の法線に対して斜めに投射され、前記光線aの進行方向ベクトルをベクトルAとし、前記ベクトルAにおける、前記投射面への略平行な射影成分を上方向、その反対方向を下方向と規定するとき、
前記第一光学系は、該第一光学系内であって、前記空間変調素子側寄りの範囲で、前記で規定された上下方向のベクトルを含む方向に、光軸が光路偏向手段を介して折り曲げられていることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項1記載の投射光学装置において、
前記一方向のベクトルを含む上下方向と直交する方向を水平方向と規定したとき、前記第一光学系は、前記上下方向のベクトルを含む方向に加え、さらに水平方向のベクトルを含む方向にも、光軸が折り曲げられていることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項1又は2記載の投射光学装置において、
前記第一光学系の、前記折り曲げ位置よりも前記空間変調素子側に配置されたレンズ群の合成パワーが正であり、該レンズ群から射出する光束は広がらず、あるいは略平行であることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項1又は2記載の投射光学装置において、
前記第一光学系内での前記折り曲げ位置は、該折り曲げ位置よりも前記空間変調素子側に配置されるレンズ群から射出する光束が広がらず、あるいは略平行となることを確保できる位置であることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項1〜4のいずれか1つに記載の投射光学装置において、
前記第二光学系が正のパワーを有する反射型屈折素子を含み、前記第一光学系と前記第二光学系との間に中間像が生成されることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項5記載の投射光学装置において、
前記正のパワーを有する反射型屈折素子が、前記投射光学系の中で最も大きな有効径を有していることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項6記載の投射光学装置において、
前記第一光学系における前記上下方向のベクトルを含む方向の折り曲げが前記反射型屈折素子の下方端側へ向けてなされ、前記第一光学系の、前記折り曲げ位置よりも前記空間変調素子側に配置された群は、前記反射型屈折素子の下方端を下限とする空間領域内に配置されていることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項1〜6のいずれか1つに記載の投射光学装置において、
前記第一光学系における、前記空間変調素子側に配置された群の光軸をL1、光軸L1上の第一の光路偏向手段によって折り曲げられた光軸をL2、光軸L2上の第二の光路偏向手段によって折り曲げられた光軸をL3とするとき、前記第一光学系は該光学系内において前記光軸L1、L2、L3が同一平面上にないことを特徴とする投射光学装置。 - 請求項1〜7のいずれか1つに記載の投射光学装置において、
前記第一光学系はフォーカシング調整機構を有し、前記フォーカシング調整機構を前記第一光学系の前記第二光学系側の群に設けたことを特徴とする投射光学装置。 - 請求項1〜8のいずれか1つに記載の投射光学装置において、
前記光路変更手段の少なくとも1つは平面ミラーであることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項1〜9のいずれか1つに記載の投射光学装置において、
前記光路偏向手段を複数有し、1つの光軸上に位置する2つの光路偏向手段が一体的ないし連続的に構成されていることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項10記載の投射光学装置において、
前記光路偏向手段は、1つの光路偏向手段が有する偏向反射面の法線と他の光路偏向手段が有する偏向反射面の法線とが直交するプリズムであることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項1〜11のいずれか1つに記載の投射光学装置において、
前記空間変調素子の制御基板は、前記投射面における左右方向、および、前記第一光学系における、前記第二光学系側に配置された群の光軸を含む面に対して略平行に配置されることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項7記載の投射光学装置において、
前記光軸L1、L2及びL3によって囲まれる側の空間領域に、照明光学系が配置されていることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項1〜13のいずれか1つに記載の投射光学装置において、
前記空間変調素子は、前記第二光学系の最下端と同位、もしくは上位に配置されることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項1〜14のいずれか1つに記載の投射光学装置において、
前記第二光学系を前記第一光学系に対して接離可能に支持する可動機構を有し、非投射時には前記第二光学系を前記第一光学系側へ移動して装置奥行き寸法を低減可能であることを特徴とする投射光学装置。 - 請求項1〜15のいずれか1つに記載の投射光学装置において、
前記第二光学系から前記投射面に至る光路に、開口部及び遮光部が設けられ、画像投射時には、前記開口部を前記第二光学系からの反射光が収束して通過することを特徴とする投射光学装置。
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