JP2009084602A - ステンレス鋼での表面酸化膜形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理チャンバー1内にステンレス鋼を収容して真空ポンプ4で真空引きした後、オゾン発生装置2から高濃度オゾンガスをオゾンガス導出路5から、また貯水装置3を通した湿潤酸素ガスを供給路8から導入することによって、オゾン濃度15vol%以上の湿潤オゾンガスとし、ヒーター9aによる加温で所定の温度としてステンレス鋼を処理し、表面に酸化膜を形成する。
【選択図】図1
Description
まず、処理対象物となるステンレス鋼部材を処理チャンバー(1)内に収容設置して、処理チャンバー(1)を気密封止する。気密封止された状態の処理チャンバー(1)内を真空ポンプ(4)で真空引きするとともに、湿潤ガス供給路(8)を開通させて、貯水容器(3)から湿潤酸素ガスを導入し、処理チャンバー(1)内を所定の圧力(例えば7kPa・abs)にする。
図4は処理したSUS316Lの板材をX線光電子分光分析装置(XPS)で深さ方向に分析した結果を示す。この図4から、処理した板材の表面から約8nmの深さまで鉄酸化物系の中心とした不動態膜が形成されていることがわかる。
この結果から、湿潤オゾンガスを作用させて不動態膜形成処理した場合には、高濃度オゾンガスによる不動態膜形成処理と同等の耐食性を得ていることが分かる。
Claims (7)
- ステンレス鋼の表面に酸化膜を形成するに当り、オゾン濃度15vol%以上のオゾンガスを湿潤させた状態で処理対象物に作用させることにより、ステンレス鋼製処理対象物の表面に酸化膜を形成することを特徴とするステンレス鋼での表面酸化膜形成方法。
- オゾンガスが500ppm〜2vol%の水分で湿潤されている請求項1に記載したステンレス鋼での表面酸化膜形成方法。
- 湿潤した状態のオゾンガスを処理チャンバー内で処理対象物に作用させる請求項1または2に記載したステンレス鋼での表面酸化膜形成方法。
- 処理チャンバー内に予め湿潤させたオゾンガスを供給する請求項3に記載したステンレス鋼での表面酸化膜形成方法。
- 処理チャンバーに湿潤ガスとオゾンガスとを供給し、処理チャンバー内で湿潤オゾンガスとする請求項3に記載したステンレス鋼での表面酸化膜形成方法。
- 湿潤ガスが加湿酸素ガスである請求項5に記載したステンレス鋼での表面酸化膜形成方法。
- 湿潤ガスが水蒸気である請求項5に記載したステンレス鋼での表面酸化膜形成方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106011689A (zh) * | 2015-03-30 | 2016-10-12 | 新日铁住金不锈钢株式会社 | 含臭氧水用双相不锈钢 |
WO2019106880A1 (ja) * | 2017-11-30 | 2019-06-06 | 岩谷産業株式会社 | 被処理対象物の内壁面の処理方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11256308A (ja) * | 1998-03-12 | 1999-09-21 | Sumikin Stainless Kokan Kk | ステンレス鋼管内面の被膜形成方法 |
JP2001083284A (ja) * | 1999-09-10 | 2001-03-30 | Toshiba Corp | 給水加熱器用伝熱管、同伝熱管を用いた給水加熱器および同伝熱管の製造方法 |
JP2001234324A (ja) * | 2000-02-25 | 2001-08-31 | Iwatani Internatl Corp | 金属表面の不動態化処理方法 |
JP3250002B2 (ja) * | 1996-01-17 | 2002-01-28 | 岩谷産業株式会社 | オゾン使用装置へのオゾン供給系路及びその不動態化処理方法 |
-
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- 2007-09-28 JP JP2007252801A patent/JP5260012B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3250002B2 (ja) * | 1996-01-17 | 2002-01-28 | 岩谷産業株式会社 | オゾン使用装置へのオゾン供給系路及びその不動態化処理方法 |
JPH11256308A (ja) * | 1998-03-12 | 1999-09-21 | Sumikin Stainless Kokan Kk | ステンレス鋼管内面の被膜形成方法 |
JP2001083284A (ja) * | 1999-09-10 | 2001-03-30 | Toshiba Corp | 給水加熱器用伝熱管、同伝熱管を用いた給水加熱器および同伝熱管の製造方法 |
JP2001234324A (ja) * | 2000-02-25 | 2001-08-31 | Iwatani Internatl Corp | 金属表面の不動態化処理方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106011689A (zh) * | 2015-03-30 | 2016-10-12 | 新日铁住金不锈钢株式会社 | 含臭氧水用双相不锈钢 |
WO2019106880A1 (ja) * | 2017-11-30 | 2019-06-06 | 岩谷産業株式会社 | 被処理対象物の内壁面の処理方法 |
CN111094617A (zh) * | 2017-11-30 | 2020-05-01 | 岩谷产业株式会社 | 被处理对象物的内壁面的处理方法 |
KR20200093519A (ko) * | 2017-11-30 | 2020-08-05 | 이와타니 산교 가부시키가이샤 | 피처리 대상물의 내벽면의 처리 방법 |
CN111094617B (zh) * | 2017-11-30 | 2022-08-30 | 岩谷产业株式会社 | 被处理对象物的内壁面的处理方法 |
TWI775915B (zh) * | 2017-11-30 | 2022-09-01 | 日商岩谷產業股份有限公司 | 被處理對象物之內壁面的處理方法 |
KR102478015B1 (ko) * | 2017-11-30 | 2022-12-15 | 이와타니 산교 가부시키가이샤 | 피처리 대상물의 내벽면의 처리 방법 |
US11542585B2 (en) | 2017-11-30 | 2023-01-03 | Iwatani Corporation | Method for treating inner wall surface of treatment object |
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Publication number | Publication date |
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