JP2009074945A - フローセンサ - Google Patents
フローセンサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009074945A JP2009074945A JP2007244545A JP2007244545A JP2009074945A JP 2009074945 A JP2009074945 A JP 2009074945A JP 2007244545 A JP2007244545 A JP 2007244545A JP 2007244545 A JP2007244545 A JP 2007244545A JP 2009074945 A JP2009074945 A JP 2009074945A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow path
- forming member
- path forming
- flow
- sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 40
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 27
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 claims description 18
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 23
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 8
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001595 flow curve Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Measuring Volume Flow (AREA)
Abstract
【解決手段】基板21の上面に流量検出部23が形成されたセンサチップ12とセンサチップ上に設けられ流量検出部を流れる流体の流路が形成された流路形成部材15とを接合して構成したフローセンサ11において、流路形成部材を透明な第1の流路形成部材14と第2の流路形成部材15とを接合して形成し、第1の流路形成部材は板状をなし、第1の流路形成部材には被測定流体の導入孔14cと導出孔14dが設けられ、第2の流路形成部材は板状をなし、第2の流路形成部材には流量検出部に沿って流れる流体の流れに沿った流路を形成する貫通口15cが設けられ、貫通口の両端に導入孔と導出孔を連通させ、流量検出部を貫通口の導入孔と導出孔に対応する部分の間に配置して所定の断面積の流路を形成する。
【選択図】図1
Description
基板の上面に形成された凹部の少なくとも一部を覆うように被覆された絶縁膜に流量検出部が形成されたセンサチップと、前記センサチップ上に設けられ前記流量検出部を流れる流体の流路が形成された流路形成部材とを接合して構成したフローセンサにおいて、
前記流路形成部材は、透明部材である第1の流路形成部材と、第2の流路形成部材とを接合することにより構成され、
前記第1の流路形成部材は板状をなし、当該第1の流路形成部材には被測定流体の導入孔及び導出孔が設けられ、
前記第2の流路形成部材は板状をなし、当該第2の流路形成部材には前記流量検出部に沿って流れる流体の流れに沿った流路を形成する貫通口が設けられ、
前記貫通口は、両端が前記導入孔及び導出孔のそれぞれに連通し、前記流量検出部が前記貫通口の前記導入孔と導出孔に対応する部分の間に配置され、
前記第1及び第2の流路形成部材で所定の断面積の流路を形成することを特徴としている。
前記第2の流路形成部材は前記センサチップと熱膨張係数が同一又は略近い部材により形成されていることを特徴としている。
前記第2の流路形成部材はシリコン又は硼珪酸ガラスの何れかにより形成されていることを特徴としている。
前記第1の流路形成部材は硼珪酸ガラスにより形成されていることを特徴としている。
2 シリコン基板
3 流量検出部(センサ部)
4 センサチップ
4a 上面
5 ガラスチップ(流路形成部材)
5a 流路(溝)
5b 流路の内側上面
11 フローセンサ
12 センサチップ
12a 上面
12b 下面
13 流路形成部材
14 第1の流路形成部材(ガラスチップ)
14a 上面
14b 下面
14c 導入孔
14d 導出孔
14f 切欠
15 第2の流路形成部材(シリコン)
15a 上面
15b 下面
15c 貫通口(流路)
15d,15e 半円形部
15f 切欠
21 シリコン基板
21a 上面
21b 下面
21c 凹部
22,24 絶縁膜
23 流量検出部(センサ部)
23a,23b,23c リードパターン
h センサ流路高さ
w 流路幅
S 流路断面積
Q 流量
Claims (4)
- 基板の上面に形成された凹部の少なくとも一部を覆うように被覆された絶縁膜に流量検出部が形成されたセンサチップと、前記センサチップ上に設けられ前記流量検出部を流れる流体の流路が形成された流路形成部材とを接合して構成したフローセンサにおいて、
前記流路形成部材は、透明部材である第1の流路形成部材と、第2の流路形成部材とを接合することにより構成され、
前記第1の流路形成部材は板状をなし、当該第1の流路形成部材には被測定流体の導入孔及び導出孔が設けられ、
前記第2の流路形成部材は板状をなし、当該第2の流路形成部材には前記流量検出部に沿って流れる流体の流れに沿った流路を形成する貫通口が設けられ、
前記貫通口は、両端が前記導入孔及び導出孔のそれぞれに連通し、前記流量検出部が前記貫通口の前記導入孔と導出孔に対応する部分の間に配置され、
前記第1及び第2の流路形成部材で所定の断面積の流路を形成することを特徴とするフローセンサ。 - 前記第2の流路形成部材は前記センサチップと熱膨張係数が同一又は略近い部材により形成されていることを特徴とする、請求項1に記載のフローセンサ。
- 前記第2の流路形成部材はシリコン又は硼珪酸ガラスの何れかにより形成されていることを特徴とする、請求項2に記載のフローセンサ。
- 前記第1の流路形成部材は硼珪酸ガラスにより形成されていることを特徴とする、請求項3に記載のフローセンサ。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007244545A JP4997039B2 (ja) | 2007-09-20 | 2007-09-20 | フローセンサ |
EP10191585A EP2282180A1 (en) | 2007-09-20 | 2008-04-25 | Flow sensor and manufacturing method therefor |
EP08007978.3A EP2040045B1 (en) | 2007-09-20 | 2008-04-25 | Flow sensor |
CN2008100928734A CN101393045B (zh) | 2007-09-20 | 2008-05-07 | 流量传感器及其制造方法 |
CN2010102752404A CN101963518A (zh) | 2007-09-20 | 2008-05-07 | 流量传感器及其制造方法 |
US12/191,907 US8166814B2 (en) | 2007-09-20 | 2008-08-14 | Flow sensor and manufacturing method therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007244545A JP4997039B2 (ja) | 2007-09-20 | 2007-09-20 | フローセンサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009074945A true JP2009074945A (ja) | 2009-04-09 |
JP4997039B2 JP4997039B2 (ja) | 2012-08-08 |
Family
ID=40493453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007244545A Active JP4997039B2 (ja) | 2007-09-20 | 2007-09-20 | フローセンサ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4997039B2 (ja) |
CN (1) | CN101393045B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017049011A (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 気体センサ装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8327715B2 (en) * | 2009-07-02 | 2012-12-11 | Honeywell International Inc. | Force sensor apparatus |
CN104968151B (zh) * | 2015-07-03 | 2017-12-15 | 景旺电子科技(龙川)有限公司 | 一种雕杯铜基板的制作方法 |
JP6965358B2 (ja) * | 2017-09-05 | 2021-11-10 | 日立Astemo株式会社 | 熱式流量計 |
WO2019153130A1 (zh) * | 2018-02-06 | 2019-08-15 | 盾安传感科技有限公司 | 压力传感器 |
CN115231510B (zh) * | 2022-07-21 | 2023-10-03 | 微纳感知(合肥)技术有限公司 | 一种气体流量计的mems芯片封装结构 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006177984A (ja) * | 2002-05-29 | 2006-07-06 | Ckd Corp | 熱式流量計 |
JP2007071687A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Yamatake Corp | フローセンサ |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GR1004040B (el) * | 2001-07-31 | 2002-10-31 | Μεθοδος για την κατασκευη αιωρουμενων μεμβρανων πορωδους πυριτιου και εφαρμογης της σε αισθητηρες αεριων | |
US6871537B1 (en) * | 2003-11-15 | 2005-03-29 | Honeywell International Inc. | Liquid flow sensor thermal interface methods and systems |
US20060000272A1 (en) * | 2004-06-30 | 2006-01-05 | Beat Neuenschwander | Thermal flow sensor having an asymmetric design |
-
2007
- 2007-09-20 JP JP2007244545A patent/JP4997039B2/ja active Active
-
2008
- 2008-05-07 CN CN2008100928734A patent/CN101393045B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006177984A (ja) * | 2002-05-29 | 2006-07-06 | Ckd Corp | 熱式流量計 |
JP2007071687A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Yamatake Corp | フローセンサ |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017049011A (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 気体センサ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101393045B (zh) | 2011-02-02 |
JP4997039B2 (ja) | 2012-08-08 |
CN101393045A (zh) | 2009-03-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8166814B2 (en) | Flow sensor and manufacturing method therefor | |
JP4997039B2 (ja) | フローセンサ | |
US9581480B2 (en) | Micro flow sensor | |
JP4854238B2 (ja) | フローセンサ | |
JP4845187B2 (ja) | センサのパッケージ構造及びこれを有するフローセンサ | |
US20110252882A1 (en) | Robust sensor with top cap | |
JP2002168669A (ja) | 熱式流量計 | |
JP6669957B2 (ja) | 流量センサ | |
JP5081174B2 (ja) | センサ及びフローセンサ | |
JP5477636B2 (ja) | 熱伝導度検出器 | |
JP2008039588A (ja) | フローセンサおよびマスフローコントローラ | |
JP5079435B2 (ja) | フローセンサ及びその製造方法 | |
JP5276493B2 (ja) | フローセンサ及びその製造方法 | |
JP5564445B2 (ja) | フローセンサおよびフローセンサの製造方法 | |
JP2010230388A (ja) | フローセンサ | |
JP3597527B2 (ja) | 熱式流量計 | |
JP2008070323A (ja) | フローセンサ | |
JP2020122747A (ja) | 検出装置 | |
JP2019027881A (ja) | 測定装置 | |
JP6432314B2 (ja) | 物理量センサ、および物理量センサの製造方法 | |
JP2008070315A (ja) | フローセンサ | |
JP3740027B2 (ja) | フローセンサ | |
JP2006300805A (ja) | フローセンサと赤外線ガス分析計 | |
JP2010230390A (ja) | フローセンサ及びその製造方法 | |
JP2015194428A (ja) | フローセンサおよびフローセンサの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100315 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120210 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120406 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120427 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120514 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150518 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4997039 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |