JP2009048186A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009048186A5
JP2009048186A5 JP2008190353A JP2008190353A JP2009048186A5 JP 2009048186 A5 JP2009048186 A5 JP 2009048186A5 JP 2008190353 A JP2008190353 A JP 2008190353A JP 2008190353 A JP2008190353 A JP 2008190353A JP 2009048186 A5 JP2009048186 A5 JP 2009048186A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semi
light
pattern
transparent
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008190353A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5363767B2 (ja
JP2009048186A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2008190353A priority Critical patent/JP5363767B2/ja
Priority claimed from JP2008190353A external-priority patent/JP5363767B2/ja
Publication of JP2009048186A publication Critical patent/JP2009048186A/ja
Publication of JP2009048186A5 publication Critical patent/JP2009048186A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5363767B2 publication Critical patent/JP5363767B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2008190353A 2007-07-23 2008-07-23 フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及びデータベース Active JP5363767B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008190353A JP5363767B2 (ja) 2007-07-23 2008-07-23 フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及びデータベース

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007191487 2007-07-23
JP2007191487 2007-07-23
JP2008190353A JP5363767B2 (ja) 2007-07-23 2008-07-23 フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及びデータベース

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009048186A JP2009048186A (ja) 2009-03-05
JP2009048186A5 true JP2009048186A5 (enExample) 2011-08-11
JP5363767B2 JP5363767B2 (ja) 2013-12-11

Family

ID=40462633

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008190353A Active JP5363767B2 (ja) 2007-07-23 2008-07-23 フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及びデータベース

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5363767B2 (enExample)
KR (1) KR101071454B1 (enExample)
CN (1) CN101382729B (enExample)
TW (1) TWI446105B (enExample)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI428688B (zh) * 2009-07-29 2014-03-01 Hoya Corp Method for manufacturing multi - modal mask and pattern transfer method
TWI497055B (zh) * 2010-07-30 2015-08-21 Hoya Corp 透過率測定裝置、光罩之透過率檢查裝置、透過率檢查方法、光罩製造方法、圖案轉印方法、光罩製品
JP5866912B2 (ja) * 2011-09-16 2016-02-24 凸版印刷株式会社 パターンの描画条件導出方法及びパターン描画装置
CN102944971B (zh) * 2012-11-21 2015-03-18 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版及光刻材料的曝光检测方法
CN105988285B (zh) * 2015-01-30 2019-09-27 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 测试掩模版以及测试方法
CN104765245A (zh) * 2015-04-10 2015-07-08 深圳市华星光电技术有限公司 一种灰色调掩膜及其制作方法
KR102687968B1 (ko) * 2018-11-06 2024-07-25 삼성전자주식회사 반도체 소자의 제조 방법
CN111352294B (zh) * 2020-03-23 2021-10-22 昆山国显光电有限公司 掩模版、显示面板及掩模版的制备方法
JP6993530B1 (ja) 2020-12-25 2022-01-13 株式会社エスケーエレクトロニクス フォトマスク、フォトマスクの製造方法、表示装置の製造方法
CN114488703B (zh) * 2021-12-10 2024-04-12 武汉新芯集成电路制造有限公司 刻蚀方案的确定方法、测试掩模板以及刻蚀系统

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04328548A (ja) * 1991-04-26 1992-11-17 Nikon Corp フォトマスクの検査方法および装置
JP2530081B2 (ja) * 1992-01-09 1996-09-04 株式会社東芝 マスク検査装置
JP3085264B2 (ja) * 1997-11-10 2000-09-04 日本電気株式会社 フォトマスクならびにその製造方法
JP2000181048A (ja) * 1998-12-16 2000-06-30 Sharp Corp フォトマスクおよびその製造方法、並びにそれを用いた露光方法
JP2002174604A (ja) * 2000-09-29 2002-06-21 Hoya Corp グレートーンマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置、並びにフォトマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置
JP2003043665A (ja) * 2001-08-02 2003-02-13 Sony Corp フォトマスクの製造方法
JP4021235B2 (ja) * 2002-04-16 2007-12-12 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置、並びにフォトマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置
JP4064144B2 (ja) * 2002-04-16 2008-03-19 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置、並びにフォトマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置
JP3993125B2 (ja) * 2003-04-01 2007-10-17 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの欠陥修正方法
JP3875648B2 (ja) * 2003-04-08 2007-01-31 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの欠陥検査方法
JP4294359B2 (ja) * 2003-04-08 2009-07-08 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの欠陥修正方法
JP4393290B2 (ja) * 2003-06-30 2010-01-06 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの製造方法及び薄膜トランジスタ基板の製造方法
US7524593B2 (en) * 2005-08-12 2009-04-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Exposure mask
KR20080037702A (ko) * 2005-09-21 2008-04-30 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 계조를 갖는 포토마스크 및 그 제조 방법
KR101082715B1 (ko) * 2005-12-26 2011-11-15 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크 및 포토마스크
JP5064116B2 (ja) * 2007-05-30 2012-10-31 Ｈｏｙａ株式会社 フォトマスクの検査方法、フォトマスクの製造方法及び電子部品の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009048186A5 (enExample)
JP2008282046A5 (enExample)
TW201214021A (en) Multi-tone photomask, method of manufacturing a multi-tone photomask, and pattern transfer method
KR101333899B1 (ko) 다계조 포토마스크, 다계조 포토마스크의 제조 방법, 패턴 전사 방법 및 박막 트랜지스터의 제조 방법
JP2013134435A5 (enExample)
JP2011215197A5 (enExample)
JP5336226B2 (ja) 多階調フォトマスクの製造方法
TW201202839A (en) Photomask and method of manufacturing the same
JP2013167907A (ja) ハーフトーンマスク及びその製造方法
TW201128296A (en) Photomask, method of manufacturing a photomask, pattern transfer method and method of producing a liquid crystal display device
JP2010198103A5 (enExample)
JP2015212720A5 (enExample)
JP2009086380A (ja) グレートーンマスクブランク、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法
JP2007535694A5 (enExample)
JP2006267262A5 (enExample)
JP5185154B2 (ja) 多階調フォトマスクの検査方法
JP2010078923A5 (enExample)
TW200828411A (en) Compensating masks, multi-optical systems using the masks, and methods of compensating for 3-D mask effect using the same
KR101343256B1 (ko) 포토마스크의 제조 방법, 패턴 전사 방법 및 표시 장치의 제조 방법
KR101171432B1 (ko) 다계조 포토마스크, 다계조 포토마스크의 제조 방법, 패턴 전사 방법, 및 박막 트랜지스터의 제조 방법
KR101140103B1 (ko) 다계조 포토마스크의 제조 방법 및 패턴 전사 방법
JP2008066723A5 (enExample)
TWI512387B (zh) A microlenses for micro lens manufacturing, a microlens manufacturing method using the same, and an image pickup device
JP2009229957A (ja) フォトマスクの製造方法、フォトマスク、その修正方法、及びフォトマスクを用いたパターン転写方法
JP2010152346A (ja) 多階調フォトマスク及びその製造方法