JP2009033128A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】SiおよびOを含む材料からなる第1絶縁層2に下溝6が形成され、この下溝6には、Cuからなる下部電極7が埋設されている。下部電極7上には、少なくとも下部電極7側の最下層部分がSiO2からなる絶縁膜8が積層されている。絶縁膜8上には、導電性材料からなる上部電極10が形成されている。上部電極10は、絶縁膜8を挟んで下部電極7と対向している。そして、第1絶縁層2および絶縁膜8と下部電極7との間には、MnSiOからなる第1バリア膜9が形成されている。
【選択図】図1
Description
MIM容量素子としては、Al(アルミニウム)を含む金属膜で下部電極および上部電極を形成したものが一般的であるが、さらなる抵抗の低減化を図るため、下部電極の材料に、Alよりも導電性の高いCu(銅)を適用することが検討されている。
MIM容量素子101は、図示しない半導体基板上に形成されている。
半導体基板上には、絶縁層102が積層されている。絶縁層102は、SiO2(酸化シリコン)からなる層間絶縁膜103、SiC(炭化シリコン)からなるエッチストップ膜104およびSiO2からなる層間絶縁膜105を半導体基板側からこの順に積層した構造を有している。
Cuは、Alに比べて、SiO2への拡散性が高い。このため、下部電極107が絶縁層102に直に接触していると、絶縁層102中にCuが拡散し、電極間の短絡などを生じるおそれがある。そのため、絶縁層102と下部電極107との間には、Cuの絶縁層102への拡散を防止するための拡散防止膜108が形成されている。この拡散防止膜108は、たとえば、Ta(タンタル)からなる。
容量膜109および上部電極110上には、SiO2からなる層間絶縁膜111が積層されている。層間絶縁膜111上には、配線112,113がそれぞれ所定のパターンに形成されている。
また、絶縁膜の少なくとも最下層部分の材料として、SiO2が用いられている。そのため、同じ膜厚の絶縁膜をSiNまたはSiCNを用いて形成する場合と比較して、リーク電流を低減することができる。
また、WプラグがTiN膜と接することにより、積層バリア膜とWプラグとの優れた密着性を発揮することができる。一方、下部電極がTa膜と接することにより、積層バリア膜と下部電極との優れた密着性を発揮することができる。そのため、積層バリア膜の層剥がれを防止することができる。したがって、ストレスマイグレーションの発生を防止することができる。さらに、TiN膜と下部電極とが接さず、また、TaはCuとの反応に乏しいため、Cuを主成分とする材料からなる下部電極の腐食を生じさせることもない。したがって、エレクトロマイグレーションの発生を防止することができる。
また、第1バリア膜と第2バリア膜とが連続しているので、半導体装置に外力が加わったときに、コンタクトと下部電極との接続部分付近でのストレスマイグレーションの発生を防止することができる。その結果、配線信頼性の向上を図ることができる。
これに対し、SiH4およびN2Oを用いるCVD法では、下部電極の表面にCuO膜を生じさせることなく、SiO2からなる絶縁膜を形成することができる。
図1は、本発明の一実施形態に係る半導体装置の模式的な断面図である。
半導体装置1は、半導体基板(図示せず)を備えている。この半導体基板は、たとえば、Si(シリコン)基板からなる。半導体基板の表層部には、MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)などの機能素子が作り込まれている。
第1絶縁層2の表層部には、下溝6が形成されている。下溝6には、Cu(銅)からなる下部電極7が埋設されている。
下部電極7と第1絶縁層2および絶縁膜8との各間には、第1絶縁層2および絶縁膜8へのCuの拡散を防止するための第1バリア膜9が形成されている。第1バリア膜9は、MnSiOからなる。
絶縁膜8上には、TiNからなる上部電極10が形成されている。上部電極10は、絶縁膜8を挟んで下部電極7と対向し、平面視で下部電極7よりも小さい外形を有している。これにより、半導体装置1は、第1バリア膜9および絶縁膜8を容量膜とし、これを下部電極7と上部電極10とで挟み込んだMIM構造の容量素子を備えている。
第2絶縁層11上には、配線12,13が形成されている。
配線12は、Al−Cu合金からなる配線本体14と、配線本体14の下面側に設けられ、TiN層およびTi層の積層構造を有する下バリア膜18と、配線本体14の上面側に設けられ、TiNからなる上バリア膜19とを備えている。なお、下バリア膜18に代えて、TiNからなる1層のバリア膜が設けられてもよい。
第2絶縁層11および絶縁膜8には、下部電極7と配線12とが対向する部分において、これらの膜を膜厚方向に貫通するコンタクトホール20が形成されている。コンタクトホール20の側面および下部電極7におけるコンタクトホール20内に臨む部分には、積層バリア膜21が被着されている。
積層バリア膜21が被着されたコンタクトホール20には、W(タングステン)からなるWプラグ22が形成されている。Wプラグ22は、上端が配線12に接続され、その下端が下部電極7に接続されている。これにより、配線12と下部電極7とは、Wプラグ22を介して電気的に接続されている。
図2A〜2Mは、半導体装置1の製造工程を順に示す模式的な断面図である。
次いで、図2Bに示すように、めっき法により、合金膜31上に、Cuを主成分とする金属材料層32が形成される。この金属材料層32は、下溝6を埋め尽くす厚さに形成される。
絶縁膜8の積層後、再び熱処理が行われる。この熱処理によって、下部電極7中に残留していたMnが絶縁膜8に含まれるSiおよびOと結合し、図2Fに示すように、絶縁膜8と下部電極7との間にMnSiO膜34が形成される。その結果、第1絶縁層2と下部電極7との間、および絶縁膜8と下部電極7との間に、MnSiO膜33,34からなる第1バリア膜9が形成される。
その後、図2Hに示すように、CVD法により、絶縁膜8および上部電極10の上に、第2絶縁層11が積層される。そして、第2絶縁層11上に、コンタクトホール20,23を形成すべき部分のみを露出させる開口を有するレジストパターン35が形成される。
その後、図2Kに示すように、W−CVD法により、積層バリア膜36上に、WからなるW層37が形成される。W層37は、コンタクトホール20,23を埋め尽くす厚さに形成される。
その後、フォトリソグラフィ工程およびエッチング工程を経て、TiN/Ti層38,Al−Cu合金層39およびTiN層40が選択的に除去されることにより、図1に示すように、配線12,13が形成される。これにより、図1に示す半導体装置1が得られる。
また、絶縁膜8の材料として、SiO2が用いられている。このSiO2からなる絶縁膜8を有するMIM容量素子では、その絶縁膜8と同じ膜厚のSiNまたはSiCNからなる容量膜を有するMIM容量素子と比較して、リーク電流を低減することができる。
積層バリア膜21は、Wプラグ22に接する部分がTiNバリア層である。そのため、積層バリア膜21上へのWF6ガスの供給時(図2Kに示す工程時)に、WF6ガスが第2絶縁層11および絶縁膜8へ拡散し、第2絶縁層11および絶縁膜8を腐食されることを防止できる。
積層バリア膜21において、Taバリア層とTiNバリア層との間には、TaNバリア層が介在されている。TaNは、Taに比べて、たとえば、SiO2などの絶縁材料へのCuの拡散を防止する能力(Cu拡散防止能力)に優れている。そのため、下部電極7のCuが第2絶縁層11へ拡散することを防止することができる。
また、第1絶縁層2および下部電極7の上に絶縁膜8を積層する際には、SiH4およびN2Oを原料ガスとするCVD法が用いられる。これにより、下部電極7の表面にCuO膜を生じさせることなく、SiO2からなる絶縁膜8を形成することができる。
図1に示す半導体装置1では、配線12,13の両方が第2絶縁層11上に形成されている。これに対し、図3に示す半導体装置51では、下部電極7と電気的に接続される配線52が第2絶縁層11に埋設されている。
第2絶縁層11の表層部には、上溝56が形成されている。上溝56には、Cuからなる配線52が埋設されている。また、第2絶縁層11には、上溝56と下部電極7とが対向する部分において、コンタクトホール57が第2絶縁層11、絶縁膜8および第1バリア膜9を貫通して形成されている。コンタクトホール57には、Cuからなるコンタクト58が埋設されている。コンタクト58は、配線52と一体的に接続されるとともに、下部電極7に接続されている。そして、配線52と第2絶縁層11との間、ならびにコンタクト58と絶縁膜8および第2絶縁層11との各間には、MnSiOからなる第2バリア膜59が第1バリア膜9に連続して形成されている。
また、第2バリア膜59により、配線52およびコンタクト58に含まれるCuが絶縁膜8および第2絶縁層11中に拡散することを防止することができる。
以上、本発明の2つの実施形態を説明したが、本発明は、他の形態で実施することもできる。
2 第1絶縁層
6 下溝
7 下部電極
8 絶縁膜
9 第1バリア膜
10 上部電極
11 第2絶縁層
21 積層バリア膜
22 Wプラグ
24 積層バリア膜
25 Wプラグ
51 半導体装置
52 配線
56 上溝
58 コンタクト
59 第2バリア膜
Claims (4)
- SiおよびOを含む材料からなる第1絶縁層と、
前記第1絶縁層を掘り下げた形状の下溝と、
前記下溝に埋設され、Cuを主成分とする金属材料からなる下部電極と、
前記下部電極上に積層され、少なくとも前記下部電極側の最下層部分がSiO2からなる絶縁膜と、
前記絶縁膜を挟んで前記下部電極に対向して設けられ、導電性材料からなる上部電極と、
前記下部電極と前記第1絶縁層および前記絶縁膜との各間に形成され、MnxSiyOz(x,y,z:零よりも大きい数)からなる第1バリア膜とを含む、半導体装置。 - 前記絶縁膜を貫通して設けられており、前記下部電極に電気的に接続され、WからなるWプラグと、
前記Wプラグと前記下部電極および前記絶縁膜との間に介在された積層バリア膜と、をさらに含み、
前記積層バリア膜は、前記下部電極および前記絶縁膜に接するTa膜と、前記Wプラグに接するTiN膜とを備える、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記絶縁膜および前記上部電極上に積層され、SiおよびOを含む材料からなる第2絶縁層と、
前記第2絶縁層を掘り下げた形状の上溝と、
前記上溝に埋設され、Cuを主成分とする金属材料からなる配線と、
前記下部電極と前記配線とが互いに対向する部分において、前記絶縁膜および前記第2絶縁層を貫通して設けられ、Cuを主成分とする金属材料からなるコンタクトと、
前記第1バリア膜に連続して、前記配線と前記第2絶縁層との間、ならびに前記コンタクトと前記絶縁膜および前記第2絶縁層との各間に形成され、MnxSiyOz(x,y,z:零よりも大きい数)からなる第2バリア膜とを含む、請求項1に記載の半導体装置。 - SiおよびOを含む材料からなる第1絶縁層に、その表面から掘り下がった形状の下溝を形成する工程と、
前記下溝の内面に、CuおよびMnを含む合金材料からなる合金膜を被着させる工程と、
前記合金膜上に、Cuを主成分とする金属材料を堆積させて、前記下溝に埋設される下部電極を形成する工程と、
前記下部電極上に、SiH4およびN2Oを用いたCVD法により、SiO2からなる絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜上に、導電性材料からなる上部電極を形成する工程と、
熱処理により、前記下部電極と前記第1絶縁層および前記絶縁膜との各間に第1バリア膜を形成する工程とを含む、半導体装置の製造方法。
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