JP2009004572A - 炭化珪素半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レジスト21を炭化させて形成したカーボン層を用いて不純物の活性化を行った後、カーボン層を除去し、さらに犠牲酸化処理を行い、ウェハ表面に犠牲酸化膜を形成したのち、この犠牲酸化膜を除去する工程を行う。これにより、レジスト21を炭化して形成したカーボン層をマスクとして利用して活性化のための熱処理を行ったときに、p-型ベース領域3やn+型ソース領域4および表面チャネル層5の表面の浅い場所(数〜5nm程度の深さの位置)に不純物が移動することによって形成されるリークパスを除去することが可能となる。これにより、不純物層の表面側のリークパスが原因となって生じると考えられるリーク電流を抑制することが可能になる。
【選択図】図4
Description
以下、本発明を図に示す実施形態について説明する。図1に、本実施形態に示すSiC半導体装置の製造方法により製造したノーマリオフ型のnチャネルタイププレーナ型MOSFET(縦型パワーMOSFET)の断面図を示す。本デバイスは、インバータや車両用オルタネータのレクチファイヤに適用すると好適なものである。図1に基づいて縦型パワーMOSFETの構造について説明する。
まず、n型4Hまたは6Hまたは3C−SiCからなる半導体基板、すなわちn+型基板1を用意する。例えば、n+型基板1として、厚さが400μm程度のものを用意する。そして、このn+型基板1の主表面1aに厚さ5μmのn-型エピ層2をエピタキシャル成長させる。この場合、n-型エピ層2は下地の基板1と同様の結晶で得られ、n型4Hまたは6Hまたは3C−SiC層となる。
n-型エピ層2の上にLTO膜20を配置したのち、LTO膜20をパターニングすることで、p-型ベース領域3の形成予定位置を露出させる。これをマスクとして、p型不純物であるB、Al、若しくはGeをイオン注入する。このときのイオン注入条件は、例えば、温度を700℃、ドーズ量を1×1016cm-2とする。これにより、p-型ベース領域3が形成される。その後、LTO膜20を除去する。
LTO膜20をHF処理にて除去した後、p-型ベース領域3の表面にレジスト21を形成する。このとき、スピンコートまたは噴霧方式塗布により、レジスト21を形成すると、レジスト21の膜厚が均一となるため好ましい。
レジスト21を炭化させて形成したカーボン層を用いて不純物の活性化を行った後、カーボン層を除去するための低温酸化を行うと共に、犠牲酸化処理としての高温酸化という2段階の温度で酸化処理を行う。
p-型ベース領域3を含むn-型エピ層2上に化学気相成長法(CVD法)により表面チャネル層5をエピタキシャル成長させる。
表面チャネル層5の上にLTO膜22を配置したのち、LTO膜22をパターニングすることで、n+型ソース領域4の形成予定位置を露出させる。そして、LTO膜22をマスクとしてN(窒素)等のn型不純物をイオン注入し、n+型ソース領域4を形成する。このときのイオン注入条件は、温度を700℃、ドーズ量を1×1015cm-2としている。
続いて、LTO膜22を除去した後、フォトレジスト法を用いて表面チャネル層5の上の所定領域にLTO膜23を配置し、LTO膜23をパターニングすることで、p-型ベース領域3のうち上述したソース電極10とのコンタクト領域となる位置に形成されている表面チャネル層5を露出させる。
LTO膜23をマスクとしてp-型ベース領域3上の表面チャネル層5に対してB+をイオン注入することで、n+型ソース領域4と重ならないように位置において部分的にベース領域3のp型不純物を高濃度としたコンタクト領域を形成する。
その後、例えば、雰囲気温度を1080℃としたウェット酸化(H2+O2によるパイロジェニック法を含む)により、p-型ベース領域3やn+型ソース領域4および表面チャネル層5の上にゲート酸化膜7を形成する。
ゲート酸化膜7の上にポリシリコン層を例えばLPCVDにより堆積する。このときの成膜温度は例えば600℃とする。そして、ポリシリコン層をパターニングすることで、ゲート電極8を形成する。
引き続き、ゲート酸化膜7の不要部分を除去した後、LTOよりなる絶縁膜9を例えば425℃で成膜し、さらに約1000℃でのアニールを行うことでゲート電極8を覆う。
本発明の第2実施形態について説明する。本実施形態では、第1実施形態に対してカーボン層の除去と犠牲酸化処理の方法を変更したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
(1)上記実施形態では、レジスト21を炭化させたり、不純物の活性化を行うための熱処理工程をAr雰囲気としたが、単に残留酸素の分圧が小さくなるように減圧雰囲気、例えば真空状態とするのみであっても良い。この場合、残留酸素がカーボン層もしくはカーボン層を形成している途中のレジスト21の燃焼に寄与するため、残留炭素の量が1%以下となるようにすると好ましい。
Claims (7)
- 炭化珪素半導体(2、5)に不純物のイオン注入を行ったのち、前記不純物を活性化させるための熱処理を施すことによって前記注入された不純物を活性化させることで不純物層(3、4)を形成する不純物層形成工程と、
前記不純物層(3、4)を含む前記炭化珪素半導体(2、5)の表面に酸化膜(7)を形成する工程と、を含んだ炭化珪素半導体装置の製造方法において、
前記不純物形成工程は、
前記不純物層(3、4)を含む前記炭化珪素半導体(2、5)の表面にキャップ層を有機系溶剤で構成されるレジスト(23)を塗布したのち、前記レジスト(23)を炭化させるための熱処理を行うことにより、前記レジスト(23)に含まれる有機物を蒸発させることで前記レジスト(23)を炭化させ、カーボン層を形成する工程と、
前記カーボン層にて前記不純物層(3、4)を含む前記炭化珪素半導体(2、5)の表面を覆った状態で、前記不純物を活性化させるための熱処理を行う工程と、
前記カーボン層を除去する工程と、
前記カーボン層を除去したのち、犠牲酸化膜の形成および該犠牲酸化膜の除去を行う犠牲酸化処理工程と、を含み、
前記酸化膜(7)を形成する工程を前記犠牲酸化処理工程の後で行うことを特徴とする炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 前記カーボン層を除去する工程では、SiCが酸化される温度よりも低温度での低温酸化を行うことにより、前記カーボン層を酸化させて除去し、
前記犠牲酸化処理工程では、前記低温酸化よりも高温度となるSiCが酸化される温度での高温酸化を行うことにより、前記犠牲酸化膜を形成することを特徴とする請求項1に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 前記低温酸化を1000℃未満で行い、前記高温酸化を1000℃以上で行うことを特徴とする請求項2に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
- 前記低温酸化と前記高温酸化を一連の酸化工程において行い、前記低温酸化後にそのまま温度を上昇させることで前記高温酸化を行うことを特徴とする請求項2または3に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
- 前記低温酸化および前記高温酸化後にHF処理を行うことを特徴とする請求項4に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
- 前記低温酸化と前記高温酸化とを別々の酸化工程において行い、前記低温酸化後に温度を低下させ、その後、前記高温酸化を行うことを特徴とする請求項2または3に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
- 前記低温酸化後にHF処理を行い、さらに、前記高温酸化後にもHF処理を行うことを特徴とする請求項6に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
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