JP2008544443A - 半導体プラズマ発生システムにおける電力潮流を解析するシステムと方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
4 高周波送電線
5 整合回路
8 測定プローブ
8a,8b,8c 測定プローブ
10 電圧センサー
10a 高周波コネクタ入力チャンネル
12 電流センサー
12b 高周波コネクタ入力チャンネル
13 等化器
14 受信機
15 周波数変換器
16 サンプリング回路
17 サンプリング回路増幅器
18 可変利得段
20 ADコンバータ
21 外部コンピュータ
22 デジタル信号処理回路
23 ディスプレイ
26 DAコンバータ
28 電源回路
40 ツールチャック
101 プローブハウジング
102 中心導体
105 赤外放射温度計
Claims (20)
- 高周波電力送電線における電力潮流を解析するためのシステムであって、
前記送電線からの高周波電圧および電流信号を検出するための電圧センサーおよび電流センサーを有する測定プローブと、
前記高周波信号を受信するために前記電圧および電流センサーに接続される測定用受信機と、
前記高周波信号をデジタル信号に変換するためのサンプリング手段であって、ここで、前記デジタル信号が、前記高周波信号の基本振動および該基本振動の所定数の高調波を表す振幅および位相情報から成るサンプリング手段と、
電力潮流パラメータを解析し、前記基本振動と高調波との間の振幅および位相角関係を明らかにするために、前記振幅および位相情報の特性を決定するためのデジタル信号処理手段と、
から成ることを特徴とするシステム。 - さらに、当該高周波信号を再構成するためのDAコンバータを有することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 当該プローブおよび当該送電線が、前記プローブおよび前記送電線それぞれからの較正データを記憶するためのデジタル記憶手段を有することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 当該測定用受信機が、当該較正データを当該プローブおよび当該送電線から受信するためのデジタルインタフェースを有することを特徴とする請求項3に記載のシステム。
- さらに、当該デジタル信号の追加数値およびグラフ処理のためにデジタル信号プロセッサに接続されるコンピュータを有することを特徴とする請求項4に記載のシステム。
- さらに、当該高周波電圧および電流信号の変動を補正するための等化器を有することを特徴とする請求項5に記載のシステム。
- 当該サンプリング手段が、当該高周波信号のサンプリングのための帯域通過サンプリングADコンバータを有することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 当該サンプリング手段が、当該高周波信号のサンプリングのためのナイキストサンプリング速度ADコンバータを有することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 当該サンプリング手段が、当該高周波信号のサンプリングのための、ナイキストサンプリング速度ADコンバータおよび帯域通過サンプリングADコンバータの組合せから成ることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 当該所定数の高調波が、当該基本振動の約15個までの高調波から成ることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 当該電力潮流パラメータが、入力インピーダンス、挿入損、内部散逸、プラズマ非線形性、電力潮流効率、散乱、およびこれらの組合せから成ることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 高周波送電線における電力潮流を解析する方法であって、
少なくとも一つの測定プローブを前記高周波送電線に接続し、
前記少なくとも一つの測定プローブを通じて、前記高周波送電線から高周波電圧および電流信号を受信し、
前記高周波信号を対応するデジタル信号に変換し、ここで、前記デジタル信号が、前記高周波信号の基本振動および該基本振動の所定数の高調波を表す振幅および位相情報から成り、
電力潮流パラメータを解析し、前記基本振動と高調波との間の振幅および位相角関係を明らかにするために、前記デジタル信号を処理すること、
から成ることを特徴とする方法。 - さらに、下記のステップ、
当該高周波信号を再構成するために、当該デジタル信号をアナログ信号に変換し、
追加数値およびグラフ処理のために、前記デジタル信号を外部コンピュータに送信すること、
を含むことを特徴とする請求項12に記載の方法。 - さらに、下記のステップ、
当該少なくとも一つのプローブおよび当該送電線からの較正データを記憶し、
前記較正データを測定用受信機に送ること、
を含むことを特徴とする請求項13に記載の方法。 - さらに、下記のステップ、
当該少なくとも一つのプローブおよび/または当該送電線を交換し、
前記交換されたプローブおよび/または送電線からの更新較正データを当該測定用受信機に送ること、
を含むことを特徴とする請求項14に記載の方法。 - さらに、当該処理ステップの結果をユーザー制御フォーマットで表示するステップを含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。
- さらに、下記のステップ、
高周波電源およびツールチャックを当該高周波送電線に接続し、
前記電源と前記ツールチャックとの間で、整合回路を前記高周波送電線に接続し、
前記電源と前記整合回路との間に、当該プローブのうち少なくとも一つを接続し、前記整合回路と前記ツールチャックとの間に前記プローブのうちもう一つを接続すること、
を含むことを特徴とする請求項16に記載の方法。 - 当該電力潮流パラメータが、入力インピーダンス、挿入損、内部散逸、プラズマ非線形性、電力潮流効率、散乱、およびこれらの組合せから成ることを特徴とする請求項17に記載の方法。
- サンプリング周波数が、当該基本振動の最高当該所定高調波において各サイクルごとに取られる少なくとも二つのサンプルから成ることを特徴とする請求項18に記載の方法。
- 当該所定数の高調波が当該基本振動の約15個までの高調波から成ることを特徴とする請求項12に記載の方法。
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---|---|
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---|---|---|---|
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140112458A (ko) * | 2013-03-13 | 2014-09-23 | 램 리써치 코포레이션 | 전압 제어 모드를 이용한 챔버 매칭 |
JP2015533427A (ja) * | 2012-11-05 | 2015-11-24 | フォスター−ミラー・インク | ホットスティック電力解析器 |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7728602B2 (en) * | 2007-02-16 | 2010-06-01 | Mks Instruments, Inc. | Harmonic derived arc detector |
KR100870121B1 (ko) | 2007-04-19 | 2008-11-25 | 주식회사 플라즈마트 | 임피던스 매칭 방법 및 이 방법을 위한 매칭 시스템 |
US7649363B2 (en) * | 2007-06-28 | 2010-01-19 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for a voltage/current probe test arrangements |
DE102007055010A1 (de) * | 2007-11-14 | 2009-05-28 | Forschungsverbund Berlin E.V. | Verfahren und Generatorschaltung zur Erzeugung von Plasmen mittels Hochfrequenzanregung |
DE102007056468A1 (de) * | 2007-11-22 | 2009-06-04 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Messsignalverarbeitungseinrichtung und Verfahren zur Verarbeitung von zumindest zwei Messsignalen |
JP5734185B2 (ja) * | 2008-07-07 | 2015-06-17 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | プラズマ処理チャンバ内のプラズマ不安定性事象を検出するための構成、及び、プラズマ不安定性事象を検出する方法 |
US8501631B2 (en) | 2009-11-19 | 2013-08-06 | Lam Research Corporation | Plasma processing system control based on RF voltage |
US9842725B2 (en) | 2013-01-31 | 2017-12-12 | Lam Research Corporation | Using modeling to determine ion energy associated with a plasma system |
US10157729B2 (en) | 2012-02-22 | 2018-12-18 | Lam Research Corporation | Soft pulsing |
US9295148B2 (en) | 2012-12-14 | 2016-03-22 | Lam Research Corporation | Computation of statistics for statistical data decimation |
US9462672B2 (en) | 2012-02-22 | 2016-10-04 | Lam Research Corporation | Adjustment of power and frequency based on three or more states |
US9114666B2 (en) | 2012-02-22 | 2015-08-25 | Lam Research Corporation | Methods and apparatus for controlling plasma in a plasma processing system |
US9320126B2 (en) | 2012-12-17 | 2016-04-19 | Lam Research Corporation | Determining a value of a variable on an RF transmission model |
US10128090B2 (en) | 2012-02-22 | 2018-11-13 | Lam Research Corporation | RF impedance model based fault detection |
US9197196B2 (en) | 2012-02-22 | 2015-11-24 | Lam Research Corporation | State-based adjustment of power and frequency |
WO2014016357A2 (en) | 2012-07-25 | 2014-01-30 | Impedans Ltd | Analysing rf signals from a plasma system |
US9155182B2 (en) | 2013-01-11 | 2015-10-06 | Lam Research Corporation | Tuning a parameter associated with plasma impedance |
CN103454489B (zh) * | 2013-09-12 | 2016-09-21 | 清华大学 | 匹配网络的损耗功率标定方法及系统 |
US9594105B2 (en) | 2014-01-10 | 2017-03-14 | Lam Research Corporation | Cable power loss determination for virtual metrology |
US10431428B2 (en) | 2014-01-10 | 2019-10-01 | Reno Technologies, Inc. | System for providing variable capacitance |
US9745660B2 (en) | 2014-05-02 | 2017-08-29 | Reno Technologies, Inc. | Method for controlling a plasma chamber |
US10950421B2 (en) | 2014-04-21 | 2021-03-16 | Lam Research Corporation | Using modeling for identifying a location of a fault in an RF transmission system for a plasma system |
CN104062492B (zh) * | 2014-06-13 | 2017-07-28 | 清华大学 | 射频功率测量系统 |
US9958480B2 (en) | 2015-02-10 | 2018-05-01 | Qualcomm Incorporated | Apparatus and method for a current sensor |
TWI559821B (zh) * | 2015-09-25 | 2016-11-21 | 紫焰科技股份有限公司 | 獲得穩定電漿源之方法 |
KR101772475B1 (ko) | 2015-11-23 | 2017-08-29 | 엔비노드 주식회사 | 광대역 rf 신호 디지털 저장 장치 및 방법 |
CN106249185B (zh) * | 2016-07-07 | 2020-04-24 | 国网北京市电力公司 | 用于标定高频电流传感器的阻抗匹配单元、系统和方法 |
EP3349002A1 (en) * | 2017-01-13 | 2018-07-18 | Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Method of and system for detecting structures on or below the surface of a sample using a probe including a cantilever and a probe tip |
JP7108623B2 (ja) * | 2017-02-16 | 2022-07-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 高温環境において高周波電力を測定するための電圧-電流プローブ、及び電圧-電流プローブを較正する方法 |
KR101881536B1 (ko) * | 2017-02-24 | 2018-07-24 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 출력전류 제어가 가능한 전력공급장치 및 이를 이용한 전력공급방법 |
US11817296B2 (en) * | 2020-06-26 | 2023-11-14 | Tokyo Electron Limited | RF voltage and current (V-I) sensors and measurement methods |
US11600474B2 (en) * | 2020-06-26 | 2023-03-07 | Tokyo Electron Limited | RF voltage and current (V-I) sensors and measurement methods |
KR20230065195A (ko) * | 2020-09-10 | 2023-05-11 | 램 리써치 코포레이션 | 센서 데이터를 분석하고 지능적으로 수집하기 위한 시스템들 및 방법들 |
CN113960357A (zh) * | 2021-10-27 | 2022-01-21 | 重庆大学 | 一种多级微带传输线的高带宽差分电压探头 |
US20230360896A1 (en) * | 2022-05-05 | 2023-11-09 | Applied Materials, Inc. | Autonomous frequency retrieval from plasma power sources |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5472561A (en) * | 1993-12-07 | 1995-12-05 | Sematech, Inc. | Radio frequency monitor for semiconductor process control |
JPH08339896A (ja) * | 1995-06-07 | 1996-12-24 | Eni A Division Of Astec America Inc | プラズマ装置 |
JPH1041097A (ja) * | 1996-07-22 | 1998-02-13 | Eni A Division Of Astec America Inc | プラズマ装置およびrf電力波の電流と電圧の振幅と相対位相の情報誘導の方法 |
JPH1048273A (ja) * | 1996-02-28 | 1998-02-20 | Eaton Corp | 交流電気系統の波形の調波分析を行うモニター装置 |
JPH118095A (ja) * | 1997-03-19 | 1999-01-12 | Scient Syst Res Ltd | プラズマに供給されるrf電流を感知する装置及びこのような装置に使用する波形サンプリング回路 |
JPH1183907A (ja) * | 1997-09-03 | 1999-03-26 | Mitsubishi Electric Corp | 高周波電流の測定方法 |
JP2001516963A (ja) * | 1997-09-17 | 2001-10-02 | 東京エレクトロン株式会社 | ガスプラズマ処理を監視しかつ管理するためのシステムおよび方法 |
JP2002018274A (ja) * | 2000-07-04 | 2002-01-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置の運転方法及び処理装置の異常検出方法 |
US6469488B1 (en) * | 2000-06-20 | 2002-10-22 | Scientific Systems Research Limited | Method of processing a high frequency signal containing multiple fundamental frequencies |
JP2003163200A (ja) * | 2001-11-29 | 2003-06-06 | Toshiba Corp | プラズマ管理方法と管理装置およびプラズマ処理方法と処理装置 |
WO2004006285A1 (en) * | 2002-07-03 | 2004-01-15 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for non-invasive measurement and analysis of plasma parameters |
US20040116080A1 (en) * | 2002-06-24 | 2004-06-17 | Jin-Shyong Chen | Time resolved RF plasma impedance meter |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4263653A (en) | 1979-06-04 | 1981-04-21 | Bird Electronic Corporation | Digital RF wattmeter |
US4360788A (en) | 1980-07-14 | 1982-11-23 | John Fluke Mfg. Co., Inc. | Phase-locked loop frequency synthesizer |
US4547728A (en) | 1982-08-31 | 1985-10-15 | Bird Electronic Corporation | RF Wattmeter |
US4584079A (en) | 1983-10-11 | 1986-04-22 | Honeywell Inc. | Step shape tailoring by phase angle variation RF bias sputtering |
US6077384A (en) | 1994-08-11 | 2000-06-20 | Applied Materials, Inc. | Plasma reactor having an inductive antenna coupling power through a parallel plate electrode |
US6095083A (en) | 1991-06-27 | 2000-08-01 | Applied Materiels, Inc. | Vacuum processing chamber having multi-mode access |
US5523955A (en) | 1992-03-19 | 1996-06-04 | Advanced Energy Industries, Inc. | System for characterizing AC properties of a processing plasma |
US5273610A (en) | 1992-06-23 | 1993-12-28 | Association Institutions For Material Sciences, Inc. | Apparatus and method for determining power in plasma processing |
US5414324A (en) | 1993-05-28 | 1995-05-09 | The University Of Tennessee Research Corporation | One atmosphere, uniform glow discharge plasma |
US5587917A (en) | 1994-10-17 | 1996-12-24 | Eaton Corporation | Data collection and processing for digital AC power system monitor/analyzer |
TW308778B (en) * | 1995-06-07 | 1997-06-21 | Eni Inc | Aliasing sampler for plasma probe detection |
US6252354B1 (en) | 1996-11-04 | 2001-06-26 | Applied Materials, Inc. | RF tuning method for an RF plasma reactor using frequency servoing and power, voltage, current or DI/DT control |
US5900105A (en) | 1996-07-09 | 1999-05-04 | Gamma Precision Technology, Inc. | Wafer transfer system and method of using the same |
US5846883A (en) | 1996-07-10 | 1998-12-08 | Cvc, Inc. | Method for multi-zone high-density inductively-coupled plasma generation |
TW336297B (en) * | 1997-01-10 | 1998-07-11 | Netspeed Inc | Communication server apparatus and method |
US6652717B1 (en) | 1997-05-16 | 2003-11-25 | Applied Materials, Inc. | Use of variable impedance to control coil sputter distribution |
US6269135B1 (en) | 1998-01-14 | 2001-07-31 | Tropian, Inc. | Digital phase discriminations based on frequency sampling |
US6098568A (en) | 1997-12-01 | 2000-08-08 | Applied Materials, Inc. | Mixed frequency CVD apparatus |
US6406759B1 (en) | 1998-01-08 | 2002-06-18 | The University Of Tennessee Research Corporation | Remote exposure of workpieces using a recirculated plasma |
US6155199A (en) | 1998-03-31 | 2000-12-05 | Lam Research Corporation | Parallel-antenna transformer-coupled plasma generation system |
US6265831B1 (en) * | 1999-03-31 | 2001-07-24 | Lam Research Corporation | Plasma processing method and apparatus with control of rf bias |
AU2001224729A1 (en) * | 2000-01-10 | 2001-07-24 | Tokyo Electron Limited | Segmented electrode assembly and method for plasma processing |
US7030335B2 (en) | 2000-03-17 | 2006-04-18 | Applied Materials, Inc. | Plasma reactor with overhead RF electrode tuned to the plasma with arcing suppression |
TW533667B (en) * | 2000-08-31 | 2003-05-21 | Univ Illinois | Multiple output dynamically regulated charge pump power converter |
US6920312B1 (en) * | 2001-05-31 | 2005-07-19 | Lam Research Corporation | RF generating system with fast loop control |
US6677711B2 (en) | 2001-06-07 | 2004-01-13 | Lam Research Corporation | Plasma processor method and apparatus |
US7093560B2 (en) | 2002-04-17 | 2006-08-22 | Lam Research Corporation | Techniques for reducing arcing-related damage in a clamping ring of a plasma processing system |
JP2006510918A (ja) | 2002-09-23 | 2006-03-30 | ターナー エンタープライジーズ アンド アソシエイツ | プロセス制御のためのトランスデューサパッケージ |
-
2006
- 2006-05-10 DE DE602006008780T patent/DE602006008780D1/de active Active
- 2006-05-10 CN CN200680020615A patent/CN100594577C/zh not_active Expired - Fee Related
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-
2007
- 2007-11-25 IL IL187610A patent/IL187610A/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5472561A (en) * | 1993-12-07 | 1995-12-05 | Sematech, Inc. | Radio frequency monitor for semiconductor process control |
JPH08339896A (ja) * | 1995-06-07 | 1996-12-24 | Eni A Division Of Astec America Inc | プラズマ装置 |
JPH1048273A (ja) * | 1996-02-28 | 1998-02-20 | Eaton Corp | 交流電気系統の波形の調波分析を行うモニター装置 |
JPH1041097A (ja) * | 1996-07-22 | 1998-02-13 | Eni A Division Of Astec America Inc | プラズマ装置およびrf電力波の電流と電圧の振幅と相対位相の情報誘導の方法 |
JPH118095A (ja) * | 1997-03-19 | 1999-01-12 | Scient Syst Res Ltd | プラズマに供給されるrf電流を感知する装置及びこのような装置に使用する波形サンプリング回路 |
JPH1183907A (ja) * | 1997-09-03 | 1999-03-26 | Mitsubishi Electric Corp | 高周波電流の測定方法 |
JP2001516963A (ja) * | 1997-09-17 | 2001-10-02 | 東京エレクトロン株式会社 | ガスプラズマ処理を監視しかつ管理するためのシステムおよび方法 |
US6469488B1 (en) * | 2000-06-20 | 2002-10-22 | Scientific Systems Research Limited | Method of processing a high frequency signal containing multiple fundamental frequencies |
JP2002018274A (ja) * | 2000-07-04 | 2002-01-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置の運転方法及び処理装置の異常検出方法 |
JP2003163200A (ja) * | 2001-11-29 | 2003-06-06 | Toshiba Corp | プラズマ管理方法と管理装置およびプラズマ処理方法と処理装置 |
US20040116080A1 (en) * | 2002-06-24 | 2004-06-17 | Jin-Shyong Chen | Time resolved RF plasma impedance meter |
WO2004006285A1 (en) * | 2002-07-03 | 2004-01-15 | Tokyo Electron Limited | Method and apparatus for non-invasive measurement and analysis of plasma parameters |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015533427A (ja) * | 2012-11-05 | 2015-11-24 | フォスター−ミラー・インク | ホットスティック電力解析器 |
KR20140112458A (ko) * | 2013-03-13 | 2014-09-23 | 램 리써치 코포레이션 | 전압 제어 모드를 이용한 챔버 매칭 |
KR102145073B1 (ko) | 2013-03-13 | 2020-08-18 | 램 리써치 코포레이션 | 전압 제어 모드를 이용한 챔버 매칭 |
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