JP2008541470A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008541470A5 JP2008541470A5 JP2008511787A JP2008511787A JP2008541470A5 JP 2008541470 A5 JP2008541470 A5 JP 2008541470A5 JP 2008511787 A JP2008511787 A JP 2008511787A JP 2008511787 A JP2008511787 A JP 2008511787A JP 2008541470 A5 JP2008541470 A5 JP 2008541470A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mixture
- mixture according
- layer
- activator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 9
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims 2
- -1 polysiloxanes Polymers 0.000 claims 2
- LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N Diacetone alcohol Chemical group CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L Palladium(II) acetate Chemical group [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims 1
- 239000012018 catalyst precursor Substances 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 claims 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 claims 1
Claims (18)
- 基板上に固体層を生成する化学反応を活性化するために前記基板上に活性剤含有層を形成するための液体混合物であって:
活性剤と;
界面活性剤と;
溶媒および/または結合剤とを含む;
混合物。 - 前記界面活性剤は、ポリエーテル変性ポリシロキサンおよびアクリレート変性ポリシロキサンから選定される;
請求項1に記載の混合物。 - 前記界面活性剤は、前記混合物の全重量の1重量%未満の量で存在する;
請求項1または請求項2に記載の混合物。 - 前記溶媒は、1つ以上の低極性溶媒を含む;
請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の混合物。 - 前記溶媒は、ジアセトンアルコールおよびメトキシプロパノールから選定される;
請求項4に記載の混合物。 - 前記活性剤は、触媒または触媒前駆体を含む;
請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の混合物。 - 前記活性剤は、導電金属の塩または錯体である;
請求項6に記載の混合物。 - 前記活性剤は、酢酸パラジウムである;
請求項7に記載の混合物。 - 前記結合剤は、固体材料を形成するのに適した条件下で、重合および/または架橋することができる1つ以上の材料を含む;
請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の混合物。 - 1つ以上の紫外線硬化アクリレートおよび/またはメタクリレートを含む;
請求項9に記載の混合物。 - 基板上に固体層を形成する方法であって:
前記基板上に活性剤含有層を生成するために、前記基板の表面に請求項1ないし請求項10のいずれか1項に記載の液体混合物を付着する工程と;
前記基板上に固体層を形成するために、1つ以上の別の液体を、前記活性剤で活性化される化学反応のために、前記層に付着する工程とを備える;
方法。 - 前記基板の表面が極性を有する;
請求項11に記載の方法。 - 前記液体混合物を、前記基板の表面にパターン状に付着する;
請求項11または請求項12に記載の方法。 - 前記液体混合物は、塗布処理により付着される;
請求項11ないし請求項13のいずれか1項に記載の方法。 - 前記塗布処理は、デジタル処理が好適な非接触処理である;
請求項14に記載の方法。 - 前記活性剤含有層はパターンにしたがって基板上に形成される;
請求項11ないし請求項15のいずれか1項に記載の方法。 - 前記固体層は、導電金属層である;
請求項11ないし請求項16のいずれか1項に記載の方法。 - 請求項11ないし請求項17のいずれか1項に記載の方法によって調整された固体層を含む;
物品。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US68195005P | 2005-05-18 | 2005-05-18 | |
US60/681,950 | 2005-05-18 | ||
GBGB0510094.6A GB0510094D0 (en) | 2005-05-18 | 2005-05-18 | Formation of layers on substrates |
GB0510094.6 | 2005-05-18 | ||
PCT/GB2006/001819 WO2006123144A2 (en) | 2005-05-18 | 2006-05-16 | Formation of layers on substrates |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008541470A JP2008541470A (ja) | 2008-11-20 |
JP2008541470A5 true JP2008541470A5 (ja) | 2009-06-18 |
JP5537805B2 JP5537805B2 (ja) | 2014-07-02 |
Family
ID=37431619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008511787A Expired - Fee Related JP5537805B2 (ja) | 2005-05-18 | 2006-05-16 | 基板上での層の形成 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8642117B2 (ja) |
EP (1) | EP1891251A2 (ja) |
JP (1) | JP5537805B2 (ja) |
KR (1) | KR101388558B1 (ja) |
WO (1) | WO2006123144A2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0902398D0 (en) | 2009-02-13 | 2009-04-01 | Conductive Inkjet Tech Ltd | Diffractive optical elements |
US8158465B2 (en) * | 2009-06-15 | 2012-04-17 | Palo Alto Research Center Incorporated | Vertical coffee-stain method for forming self-organized line structures |
US7867916B2 (en) * | 2009-06-15 | 2011-01-11 | Palo Alto Research Center Incorporated | Horizontal coffee-stain method using control structure to pattern self-organized line structures |
US8689123B2 (en) | 2010-12-23 | 2014-04-01 | Microsoft Corporation | Application reporting in an application-selectable user interface |
US10353566B2 (en) | 2011-09-09 | 2019-07-16 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Semantic zoom animations |
US9450952B2 (en) | 2013-05-29 | 2016-09-20 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Live tiles without application-code execution |
WO2015154276A1 (en) | 2014-04-10 | 2015-10-15 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Slider cover for computing device |
US10678412B2 (en) | 2014-07-31 | 2020-06-09 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Dynamic joint dividers for application windows |
US10592080B2 (en) | 2014-07-31 | 2020-03-17 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Assisted presentation of application windows |
WO2017154913A1 (ja) * | 2016-03-09 | 2017-09-14 | 日産化学工業株式会社 | 感光性無電解めっき下地剤 |
CN115992354A (zh) * | 2022-11-16 | 2023-04-21 | 浙江鑫柔科技有限公司 | 一种柔性基板上形成金属膜的方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3399268A (en) * | 1966-06-07 | 1968-08-27 | Photocircuits Corp | Chemical metallization and products produced thereby |
DE3625587A1 (de) * | 1986-07-29 | 1988-02-04 | Bayer Ag | Verfahren zur verbesserung der haftfestigkeit von stromlos abgeschiedenen metallschichten auf kunststoffoberflaechen |
US5079600A (en) * | 1987-03-06 | 1992-01-07 | Schnur Joel M | High resolution patterning on solid substrates |
US5227223A (en) * | 1989-12-21 | 1993-07-13 | Monsanto Company | Fabricating metal articles from printed images |
DE4209708A1 (de) * | 1992-03-25 | 1993-09-30 | Bayer Ag | Verfahren zur Verbesserung der Haftfestigkeit von stromlos abgeschiedenen Metallschichten |
BE1007879A3 (fr) * | 1994-01-05 | 1995-11-07 | Blue Chips Holding | Resine polymerique a viscosite ajustable pour le depot de palladium catalytique sur un substrat, son procede de preparation et son utilisation. |
US6461678B1 (en) * | 1997-04-29 | 2002-10-08 | Sandia Corporation | Process for metallization of a substrate by curing a catalyst applied thereto |
US6444019B1 (en) * | 1998-11-06 | 2002-09-03 | Videojet Technologies Inc. | Ink jet ink composition |
JP2003073585A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-03-12 | Hitachi Chem Co Ltd | チタニア膜形成用液体、チタニア膜の形成法、チタニア膜及び光触媒性部材 |
JP4189532B2 (ja) | 2002-12-10 | 2008-12-03 | 奥野製薬工業株式会社 | 無電解めっき用触媒の活性化方法 |
KR20050097956A (ko) * | 2003-01-28 | 2005-10-10 | 컨덕티브 잉크젯 테크놀로지 리미티드 | 기판상에 도전성 금속을 형성하는 방법 |
JP2004315718A (ja) * | 2003-04-18 | 2004-11-11 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | インクジェット用記録液 |
KR100529371B1 (ko) * | 2003-07-29 | 2005-11-21 | 주식회사 엘지화학 | 촉매전구체 수지조성물 및 이를 이용한 투광성 전자파차폐재 제조방법 |
JP2007510063A (ja) * | 2003-10-29 | 2007-04-19 | コンダクティブ・インクジェット・テクノロジー・リミテッド | 基板上の層の形成 |
WO2005056875A2 (en) * | 2003-12-05 | 2005-06-23 | Conductive Inkjet Technology Limited | Formation of solid layers on substrates |
-
2006
- 2006-05-16 JP JP2008511787A patent/JP5537805B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-16 WO PCT/GB2006/001819 patent/WO2006123144A2/en active Application Filing
- 2006-05-16 US US11/920,621 patent/US8642117B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-16 KR KR1020077027709A patent/KR101388558B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-05-16 EP EP06743918A patent/EP1891251A2/en not_active Withdrawn
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008541470A5 (ja) | ||
JP2005531679A5 (ja) | ||
Zhao et al. | Bio-inspired reversible underwater adhesive | |
Esumi et al. | Preparation of organo palladium particles from thermal decomposition of its organic complex in organic solvents | |
JP2004530045A5 (ja) | ||
SG134217A1 (en) | Thermal barrier coating compositions, processes for applying same and articles coated with same | |
Wu et al. | A novel approach toward fabrication of porous molecularly imprinted nanocomposites with bioinspired multilevel internal domains: Application to selective adsorption and separation membrane | |
BE1007879A3 (fr) | Resine polymerique a viscosite ajustable pour le depot de palladium catalytique sur un substrat, son procede de preparation et son utilisation. | |
ATE549430T1 (de) | Verfahren zur mikrowellenbeschichtung eines organischen materials mit metalloxid | |
EA200601702A1 (ru) | Нанесение дисперсных частиц металла на подложки с использованием сверхкритических жидкостей | |
JP2008527090A5 (ja) | ||
JP2013524546A5 (ja) | ||
JP2009533306A5 (ja) | ||
JP2008163371A (ja) | 連続的な無電解めっき方法 | |
JP2012251240A5 (ja) | ||
JP2021500217A5 (ja) | ||
JP2008539399A5 (ja) | ||
Liu et al. | Simple spray method preparation of slow-release porous microcapsule for long-term active anti-corrosion and scale-inhibiting coatings | |
RU2003135208A (ru) | Способ формирования рисунка | |
JP2009155712A (ja) | 金属膜の製造方法 | |
JP2009286939A5 (ja) | ナノ物質含有多孔質体、その製造方法、積層体およびその製造方法 | |
Gu et al. | DNA-templated fabrication of nickel nanocluster chains | |
Liu et al. | Binary oppositely charged polyelectrolyte brushes for highly selective electroless deposition of bimetallic patterns | |
JP2006501374A5 (ja) | ||
CN106317714A (zh) | 纳米三氧化二铝低温等离子体改性处理方法 |