JP2008540557A - フェノール型4−ビフェニリルアゼチジン−2−オンの製造方法 - Google Patents

フェノール型4−ビフェニリルアゼチジン−2−オンの製造方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、式(1)で表されるフェノール型4−ビフェニルアゼチジン−2−オンの誘導体の製造方法に関する。

Description

本発明は、フェノール型4−ビフェニリルアゼチジノン誘導体の製造方法に関する。
(3R,4S)−4−(3,3’−ジヒドロキシビフェニル−4−イル)−3−[(3S)−3−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(DFPA)
Figure 2008540557
は、コレステロール吸収の効果のある阻害剤であることを示している(本明細書に文献として引用されている同時係属出願の米国出願10/986,570を参照)。
DFPAは、アゼチジノンコレステロール吸収阻害剤ファミリーのメンバーである。1,4−ジフェニルアゼチジン−2−オン及びその脂質代謝障害の治療への利用は米国特許6,498,156号及びPCT出願WO02/50027号に記載されており、それは本明細書に文献として開示されている。1,4−ジフェニルアゼチジン−2−オンのコレステロール低下剤の部類のメンバーの中でおそらく最も良く知られているのは、ゼチア(ZETIA(商品名))として販売されているエゼチミブである。
例えば、米国特許番号5,631,365;6,093,812;5,306,817及び6,627,757は、エゼチミブ関連アゼチジノン誘導体の製造方法を開示し、それを特許請求している。
本発明はDEPA及び類似のフェノール型4−(ビフェニリル)アゼチジン−2−オンの製造方法を対象としている。
発明の要旨
本発明は、
式Ia:
Figure 2008540557
(式中、
及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
ProtA’−O−は、オキシメチルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基であり;そして、
ProtB−O−は、HO−であるか、あるいは、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基である)
で表わされるDFPA関連化合物の製造方法に関する。
第1の観点において、本発明は、
式IIa:
Figure 2008540557
(式中、Xはヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択される)
で表わされる化合物を、
式III:
Figure 2008540557
(式中、
10及びR11は、H及び(C−C)アルキル基から独立に選択されるか、又は、R10及びR11は一緒に5−6員環を形成する)
で表わされる化合物と反応させることを含む方法に関する。
逆に、
式IIb:
Figure 2008540557
で表される化合物を、
式IIIa:
Figure 2008540557
で表される化合物と反応させることもできる。
第2の観点において、本発明は
構造式II:
Figure 2008540557
(式中、ProtA−O−は、オキシメチルエーテル基、アリルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基である)
で表わされる化合物の製造方法に関する。前記方法は、
式IVa:
Figure 2008540557
(式中、Rは、フェニル基又はベンジル基であり、そして、ProtB’−O−は、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基、及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基である)
で表わされる化合物の環化を含む。
第3の方法の観点においては、本発明は
構造式IV:
Figure 2008540557
(式中、Qはキラル補助基である。前記キラル補助基は、単独のトリフェニルグリコ−ル鏡像体、及び、キラル中心少なくとも一つを有する環状及び分岐状窒素含有部分から選択される)
で表わされる化合物の製造方法に関する。
前記方法は、
式V:
Figure 2008540557
で表わされる化合物を
式VI:
Figure 2008540557
で表わされる化合物と反応させることを含む。
第4の方法の観点において、本発明は
式VI:
Figure 2008540557
で表わされるイミンの製造方法に関する。
前記方法は、
(1)式:
Figure 2008540557
で表わされるフェノールをホルムアルデヒド源(ソース)と反応させ、次いで
(2)式:
Figure 2008540557
で表わされるアニリンと反応させてシッフ塩基を形成させて、次いで
(3)ProtAで保護することを含む。
一緒にすることで、本発明の方法は、
Figure 2008540557
(式中、RはHであり、そして、RはFである)
で表わされるDEPAを、
Figure 2008540557
から調製する全体の方法を提供する。
生成物の観点において、本発明は
式VI:
Figure 2008540557
(式中、RがHであり、XはBrであり、そして、ProtAがベンジル基である場合に、前記化合物は95%を超える純度の固形物でなければならない)
で表わされる化合物に関する。
発明の詳細な説明
本出願を通して、種々の文献が引用されている。これら刊行物の各々の開示は、あたかもここに記載されているがごとく、文献として本明細に組み込まれる。
定義
本明細書において、用語及び置換基は導入するときに定義され、その定義は本明細書を通して維持される。本発明の種及び属の構造的図は番号が振られている。一般的に、共通の核を共有する化合物は、共通のローマ数字記号表示を共有する。それ以上拡張しないローマ数字は一般にその最大幅における「親」の属を表す;一文字の拡張は、少なくとも一つの置換がより限定された範囲を有する亜属を示す。
アルキル基は直鎖状、分岐状、又は環状の炭化水素構造及びその組み合わせを含むことを意味する。特に指定されない限り、前記用語は20個以下の炭素原子からなるアルキル基を指す。低級アルキル基は1、2、3、4、5及び6炭素原子からなるアルキル基を指す。低級アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−及びt−ブチル基などを挙げることができる。好ましいアルキル基及びアルキレン基は、C20以下のものである(例えば、C,C,C,C,C,C,C,C,C,C10,C11,C12,C13,C14,C15,C16,C17,C18,C19,C20)。シクロアルキル基は、アルキル基の下位集合であり、3、4、5、6、7、及び8炭素原子の環状炭化水素基を含む。シクロアルキル基の例としては、c−プロピル基、c−ブチル基、c−ペンチル基、ノルボニル基、アダマンチル基などを挙げることができる。
〜C20炭化水素基(例えば、C,C,C,C,C,C,C,C,C,C10,C11,C12,C13,C14,C15,C16,C17,C18,C19,C20)は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基及びその組み合わせを含む。例としては、ベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシルメチル基、カンホリル基及びナフチルエチル基を挙げることができる。「フェニレン」という用語は
式:
Figure 2008540557
で表わされるオルト、メタ又はパラ残基を指す。
アルコキシ基又はアルコキシル基は、親構造に酸素を介して結合する直鎖状、分岐状、環状の形状又はその組み合わせの基であり、1、2、3、4、5、6、7又は8炭素原子の基を指す。例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基などを挙げることができる。低級アルコキシ基は1〜4個の炭素原子を含む基を指す。
オキサアルキル基は、1個以上の炭素原子(及びそれに付属する水素原子)を酸素原子で置き換えたアルキル残基を指す。例としては、メトキシプロポキシ基、3,6,9−トリオキサデシル基などを挙げることができる。用語オキサアルキル基は文献[American Chemical Society,¶196刊行(但し、¶127(a)刊行の限定は除く)のNaming and Indexing of Chemical Substances for Chemical Abstractsを参照]における意味と理解される。即ち化合物中の酸素原子がその隣接する原子に単結合で結合(エーテル結合を形成)している化合物を指す。同様に、チアアルキル基及びアザアルキル基は、1個以上の炭素原子をそれぞれ硫黄原子又は窒素原子で置き換えたアルキル残基を指す。例としては、エチルアミノエチル基及びメチルチオプロピル基を挙げることができる。
アシル基は、親構造にカルボニル官能基を介して結合する、直鎖状、分岐状、環状形状、飽和、不飽和、及び芳香族、及びその組み合わせの、1、2、3、4、5、6、7及び8炭素原子の基を指す。アシル残基の1個以上の炭素原子は、親構造に結合する点がカルボニル基にとどまる限り窒素原子、酸素原子又は硫黄原子で置き換えることができる。例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、t−ブトキシカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルオキシカルボニル基などを挙げることができる。低級アシル基は1〜4個の炭素原子を含む基を指す。
アリール基及びヘテロアリール基は置換基としての、それぞれ芳香環基又は複素芳香環基を指す。ヘテロアリール基はO、N、又はSから選択されるヘテロ原子1、2、又は3個を含む。両方ともに、単環5員又は6員芳香環基又は複素芳香環基、二環式9員又は10員芳香環基又は複素芳香環基、三環式13員又は14員芳香環基又は複素芳香環基、を示す。芳香族6、7、8、9、10、11、12、13及び14員炭素環式環としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、インダン、テトラリン、及びフルオレンを挙げることができ、そして、5、6、7、8、9及び10員芳香族複素環式環としては、例えば、イミダゾール、ピリジン、インドール、チオフェン、ベンゾピラノン、チアゾール、フラン、ベンズイミダゾール、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、ピリミジン、ピラジン、テトラゾール及びピラゾールを挙げることができる。
アリールアルキル基は、アリール環に結合するアルキル残基を意味する。例としては、ベンジル基、フェニネチル基などを挙げることができる。
置換されたアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクリル基などは、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクリル基の各残基における3個までの水素原子が、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、カルボキシ基、カルボアルコキシ基(アルコキシカルボニル基とも言う)、カルボキシアミド基(アルキルアミノカルボニル基とも言う)、シアノ基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、スルホキシド基、スルホン基、アシルアミノ基、アミジノ基、フェニル基、ベンジル基、ヘテロアリール基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、又はヘテロアリールオキシ基で置き換えられる、前記アルキル基、前記アリール基、前記シクロアルキル基、前記ヘテロシクリル基などを指す。
用語「ハロゲン原子」は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を意味する。
「「保護」、「脱保護」及び「保護した」官能基に関する用語は、本明細書中の至る所に出現する。前記用語は、当業者によく理解されており、一連の試薬を用いる逐次的処理を含む工程の文脈において使用される。その文脈において、保護基は、保護しないと反応してしまいその反応が望ましくないような工程段階において、官能基をマスクするために使用する基を指す。保護基により、その段階での反応を防ぎ、その後で除去して元の官能基を露出することができる。その除去又は「脱保護」は、その反応(つまり、官能基が妨害となる反応)の完結後に行なわれる。従って、本発明の工程におけるように一続きの試薬を指定する場合、当業者は「保護基」としてふさわしい基を容易に想定することができる。その目的にふさわしい基は、化学のその分野の標準的教科書、[例えば、Protective Groups in Organic Synthesis by T.W.Greene and P.G.M.Wuts,2nd Edition;John Wiley & Sons,New York(1991)を参照]において議論されている。
略語Me、Et、Ph、Tf、Ts及びMsは、メチル基、エチル基、フェニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、トルエンスルホニル基及びメタンスルホニル基をそれぞれ示す。有機化学者(すなわち、当業者)により使用されている略語の総合リストはJournal of Organic Chemistryの各巻の創刊号に掲載されている。通常は“Standard List of Abbreviations”という題で表に示されているそのリストは本明細書に文献として組み込まれている。当業者が理解しているように、「イソプロパノール」、「イソプロピルアルコール」及び「2−プロパノール」という用語は同義であり、CAS Registry No:67−63−0に示されている。
本明細書で使用しているラセミの、アンビスケールの(ambiscalemic)、並びに、スケールの(scalemic)又は鏡像体的に純粋な化合物の図式的表現はMaehr J.Chem.Ed.62,114−120(1985)から引用している:楔形の実線及び破線は、キラルな元素の絶対配置を示すために使用され;波線及び単一の細線は、それが表す結合が生み出す立体化学的意味合いを何も示さず;実線及び破線の太線は、ラセミ体の性格を示すほかは図示されている相対配置を示す幾何学的記述子であり;楔形の輪郭線及び点線又は破線は不定の絶対配置の鏡像異性体的に純粋な化合物を示す。従って、
式XI:
Figure 2008540557
一般式XIは、一対の純粋な鏡像体の両方を包含することを意味し:
Figure 2008540557
は、純粋な3R,4Sを意味するか、又は、
Figure 2008540557
で表わされる純粋な3S,4Rを意味するかのいずれかであるが:
一方で、
Figure 2008540557
はR,S及びS,Rの、即ちβ―ラクタム環に付くtransの相対配置を有する、ラセミ体混合物を指す。
「鏡像体過剰率」という用語は、技術的によく知られており、abのa+bへの分割に対して次のように定義される。
《式》
Figure 2008540557
「鏡像体過剰率」という用語は、以前の「光学純度」という用語に関連するものであり、両方とも同じ現象の指標である。eeの値は、0〜100までの数であり、0はラセミ体であり、100は純粋な単一の鏡像体である。過去において98%光学的に純粋と呼ばれた化合物は、今はより精密に96%eeと記載される。換言すれば、90%eeは、問題の物質において、一方の鏡像体95%及び他方の鏡像体5%の存在を反映する。
式Ia:
Figure 2008540557
で表わされるDFPA関連化合物は、
式IIa:
Figure 2008540557
で表わされる化合物を、
式III:
Figure 2008540557
(式中、R10及びR11は、H及び(C〜C)アルキル基から独立に選択されるか、又は、R10及びR11は、一緒に5−6員環を形成する)
で表わされる化合物と反応させて製造する。
あるいは、
式IIb:
Figure 2008540557
で表わされる化合物を
式IIIa:
Figure 2008540557
で表わされる化合物と反応させることもできる。
式III及び式IIIa部分は、遊離フェノールとして示されており、そしてフェノールが保護されていない場合、反応は完全によく進む。しかし、当業者に明らかなように、フェノールを保護することが有利である場合がある。保護基の例としては、ProtAに関して記載されたものである。もちろん、保護されたフェノール(式III及び式IIIa)を利用する方法は、その後、他のフェノール及びベンジルアルコールの脱保護を同時にするか、又は別々にすることができる脱保護工程を含むであろう。これらの方法は、本発明の範囲内である。
前記方法及び化合物において、R及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択される。R10及びR11は、両方ともH、又は一緒に、例えば
Figure 2008540557
で表わされる5−6員環を形成することも可能である。特定の実施態様において、Rは、水素原子であり、Rはフッ素原子であり、そして、R10及びR11はHである。DFPAのための前記方法は、前記実施態様の一例である。
ProtA−O−は、Greene and Wuts、Chapter 3における保護基から選択されるフェノール基の保護基であり、これは強酸による除去を必要としない。そのような基の例としては、オキシメチルエーテル基[例えば、MOM及び2−(トリメチルシリル)エトキシメチル基(SEM)]、アリルエーテル基[例えば、アリルエーテル基及び2−メチルアリルエーテル基]、三級アルキルエーテル基[例えば、t−ブチルエーテル基]、ベンジルエーテル基[例えば、ベンジルエーテル基及びフェニル環に置換基を有する種々のベンジルエーテル基誘導体]、並びに、シリルエーテル基[例えば、トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、及びt−ブチルジフェニルシリル基]が挙げられる。
ProtB−O−は、HO−又はベンジル型アルコール基の保護基である。多くの反応(下図に示されているいくつかの反応を含む)では、ヒドロキシ基を保護する必要はなく、これらのケ−スにおいてProtB−O−はHO−である。保護基を必要とする場合には、それはGreene and Wuts、Chapter 1、pages 17−86における保護基から選択され、その除去は強酸を必要としない。例としては、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基、及びエステル基[例えば、アセチル基又はベンゾイル基]が挙げられる。
Xは、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択される。
特定の実施態様において、ProtA−O−及びProtA’−O−は、メトキシメチルエーテル基、t−ブチルエーテル基、及びベンジルエーテル基から選択される;ProtB−O−は、HO−、t−ブチルジメチルシリルエーテル基、及びテトラヒドロピラニルエーテル基から選択され;そして、IIIは
Figure 2008540557
で表わされる。反応は、ホスフィン、パラジウム塩及び塩基の存在下で、例えば、トリフェニルホスフィン、PdCl、並びに、アルキル金属水酸化物又は炭酸塩の水溶液の存在下で行われる。或る実施態様では、Rは水素原子であり;Rはフッ素原子であり;Xは臭素原子であり;ProtA−O−はベンジルエーテル基であり;及びProtB−O−はHO−である。
化学式Iの化合物が合成された後で、保護基を適当な条件下で切り離して、遊離フェノール基及び/又は遊離アルコール基を有する対応する化合物をつくる。保護基が、例えば、ベンジル基である場合には、水素化分解を脱保護に使用することができ;保護基が、例えば、t−ブチルジメチルシリル基である場合には、テトラブチルフッ化アンモニウムを脱保護に使用することができ;保護基が、例えば、アセテート基、である場合には、水溶性塩基を用いる加水分解を脱保護に使用することができる。
従って、例えば、
Figure 2008540557
で表される化合物を、
Figure 2008540557
で表わされるアゼチジノンと
式:
Figure 2008540557
で表わされるホウ酸と反応させ、そして、脱保護して製造することができる。特定の実施態様では、
式:
Figure 2008540557
で表わされるアゼチジノンを
式:
Figure 2008540557
で表わされるホウ酸と反応させ、次いで脱保護することができる。Prot’A(ベンジル基)の脱保護は、触媒的水素化分解により達成される。
構造式II:
Figure 2008540557
で表わされる化合物は、
式IV:
Figure 2008540557
(式中、Qは窒素原子に結合したキラル補助基である)
で表わされる化合物の環化により合成することができる。前記キラル補助基は、キラル中心少なくとも一つを有するトリフェニルグリコール及び環状若しくは分岐状窒素含有部分の単一鏡像体から選択される。前記キラル補助基は、窒素に結合している環状及び分岐状窒素含有部分の単一鏡像体から選択することができる。
このようなキラル補助基の例としては
Figure 2008540557
で表わされるトリフェニルグリコール:[Braun and Galle,Synthesis 1996,819−820参照]、及び、
Figure 2008540557
で表わされるキラル窒素複素環の部類が挙げられる。
前記化合物において、R10は、フェニル基、ベンジル基、イソプロピル基、イソブチル基又はt−ブチル基であり;R11は、水素原子、メチル基又はエチル基であり;又は、R10及びR11は、一緒に環を形成することができ;R12は、水素原子、メチル基又はエチル基であり;R13は、水素原子又はメチル基であり;R14は、メチル基、ベンジル基、イソプロピル基、イソブチル基又はt−ブチル基であり;ProtCは、メトキシオキシメチル基(MOM)、2−(トリメチルシリル)エトキシメチル基(SEM)、アリル基又はシリル基[例えば、トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基];及び波線は結合を示し、これにより補助基は親のカルボニル基に結合する。或る実施態様において、キラル補助基は
Figure 2008540557
であり、そして、Rはフェニル基又はベンジル基である。
式IVa:
Figure 2008540557
(式中、Rはフェニル基又はベンジル基である)。
或る実施態様において、ProtA−O−は、メトキシメチルエーテル基、アリルエーテル基、t−ブチルエーテル基、シリルエーテル基又はベンジルエーテル基であり、ProtB−O−は、シリルエーテル基又はテトラヒドロピラニルエーテル基であって、環化は、N,O−ビストリメチルシリルアセトアミド及びフッ化物イオン源(例えば、テトラブチルフッ化アンモニウム)を用いて達成される。環化は、強塩基、例えば金属水素化物(例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム)を用いて実施することもできる。
式IV:
Figure 2008540557
で表わされる化合物は、
式V:
Figure 2008540557
で表わされる化合物を
式VI:
Figure 2008540557
で表わされる化合物と反応させて得ることができる。
或る実施態様において、
構造式IVa:
Figure 2008540557
で表わされる化合物は、
a.式Va:
Figure 2008540557
で表わされる化合物を、塩基(例えば有機三級アミン)存在下で、トリアルキルハロシランと反応させ、次いで、
b.ルイス酸、特に、第3族、第4族、第13族、又は第14族の金属のハロゲン化物(例えば、チタニウムテトラクロリド)と反応させ;次いで
c.式VI:
Figure 2008540557
で表わされる化合物と反応させる;
連続工程によって製造される。もしも、β−アミノアシルオキサゾリノン化合物が保護される場合(すなわち、ProtB−OがOH以外である、式Vの化合物)には、「工程a」を省略できる。
他の実施態様では、
式:
Figure 2008540557
で表わされる化合物を、三級のアミン存在下で、トリメチルクロロシランと反応させて、シリル基が保護されたベンジルアルコールを提供し、そして、前記シリル基保護ベンジルアルコールを四塩化チタン及び
式:
Figure 2008540557
で表わされるイミンと反応させて、
式:
Figure 2008540557
で表わされる化合物を提供する。シリル基保護ベンジルアルコールを四塩化チタン及びイミンと反応させた後に、生成物は混合物として単離されるが、ここで、ベンジルアルコールはトリメチルシリルエーテル基として部分的に保護された状態で残り、そしてその一部は脱保護されヒドロキシ基に変化する。この混合物を、トリメチルシリル基の酸加水分解によって、前記構造が示されるベンジルアルコールへ完全に変換して、そして、次の工程にも使用することができる。あるいは、次の工程の最初の部分でベンジルアルコールをN,O−ビストリメチルシリルアミドを用いてシリル化することを含むことができるので、前記混合物を更に環化に持ってゆくことも可能である。酸加水分解は、β−アミノアシルオキサゾリノンをクロマトグラフィーにより精製する場合に好ましい。
式Vで表わされる前記化合物を、米国特許6,627,757号に記載の方法で調製することができ、その場合Qは、
Figure 2008540557
(式中、R10はフェニル基であり、そして、R11は水素原子である)
で表わされる。他のキラル補助基は、同様の方法で、
Figure 2008540557
で表わされるN−H部分を、任意の他の適当な前記Q基と置き換えることにより用いることができる。
式VIの化合物はメタ−置換フェノールをホルムアルデヒド源と反応させ、次いで
式:
Figure 2008540557
で表わされるアニリンとのシッフ塩基形成を行って、VIのフェノール型イミン前駆体を生成する。前記フェノールを、次に、選択されたProtAに適当な標準条件のもとで保護する。例えば、ProtAがベンジル基であるの場合には、条件は臭化ベンジル基及び塩基である。ホルムアルデヒド源は、パラホルムアルデヒド、ホルムアルデヒド、トリオキサンその他を含み、これらの全てが当業者には周知である。第一工程において、フェノールは、マグネシウム塩(例えば、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム又はヨウ化マグネシウム)及び塩基存在下で、ホルムアルデヒドと反応させる。第2工程では、ホルミル化フェノールを、アニリンと反応させてシッフ塩基VIを提供する。
また、サリチルアルデヒドへの他の経路も採用することができる。ホルムアルデヒド(または化学的に等価な)を含む基本培地中の適切に置換されたフェノールの反応により、相当するサリチルアルデヒドを生成することができる。中間体、オルト−ヒドロキシメチルフェノールは、in situで酸化されてサリチルアルデヒドになる。前記反応は、塩基としての通常、臭化エチルマグネシウム又はマグネシウムメトオキシド(一当量)と、溶媒としてのトルエンと、ホルムアルデヒド源としてのパラホルムアルデヒド(二当量又はそれ以上)と、ヘキサメチルホラミド(HMPA)又はN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)とを用いる。[Casiraghi,G.,etal.,J.C.S.Perkin I,1978,318−321参照]。あるいは、適切に置換されたフェノールは、水溶性塩基の条件下でホルムアルデヒドと反応させ置換オルト−ヒドロキシベンジルアルコールを形成させることができ[参照:a)J. Leroy and C. Wakselman,J.Fluorine Chem,40,23−32(1988);b)A.A.Moshfegh,et al.,Helv.Chim.Acta.,65,1229−1232(1982)]、そして、生成したオルト−ヒドロキシベンジルアルコールを、酸化剤(例えば、塩化メチレン又はクロロホルムのような溶媒に溶解したマンガン(IV)ジオキシド)の存在下でサリチルアルデヒドに変換することができる。[R−G.Xie,et al.,Synthetic Commun.24,53−58(1994)参照]。
適切に置換されたフェノールを、酸性条件下で、ヘキサメチレンテトラアミン(HMTA)を用いて処理し、サリチルアルデヒドを調製することができる。これはダフ(Duff)反応として良く知られている。[Y.Suzuki and H.Takahashi,Chem.Pharm.Bull.,31,1751−1753(1983)参照]。通常、ダフ反応は、酸(例えば、酢酸、ホウ酸、メタンスルホン酸、又はトリフルオルメタンスルホン酸)を使用する。通常使用されているホルムアルデヒド源は、ヘキサメチレンテトラアミンである。
また、ライマー・ティーマン(Reimer−Tiemann)反応を用いることもでき、ここで、前記反応中において適切に置換されたフェノールを、塩基条件下でクロロホルムと反応させて、置換されたサリチルアルデヒドを得ることができる。[Cragoe,E.J.,Schultz,E.M.米国特許3,794,734号(1974)参照]。
また、フェノールジリチュウム(ジリチウム)塩をホルムアミドでホルミル化[Talley and Evans,J.Org.Chem.49,5267−5269(1984)参照]することによって、サリチルアルデヒドを提供することができる。前記サリチルアルデヒド合成全ての開示は本明細書に文献として組み込まれている。
式III:
Figure 2008540557
は、市販品として入手できるか、又は当技術分野で周知の方法により製造することができる。
本明細書に記載の方法において、中間体として有用な新規化合物類は、
式VI:
Figure 2008540557
で表わされるイミン類である。
ProtA−がベンジル基である場合には、Xは臭素原子であり、そして、RがHで或る場合には、化合物は95%より純度の高い固体である。
本発明の範囲内での模範的な方法は、下記の反応工程式に図示される。前記反応工程式は、本方法と中間体との関係も図示する。
Figure 2008540557

Figure 2008540557
Figure 2008540557
Figure 2008540557
《工程1.(4S)−4−ベンジル−3−[5−(4−フルオロフェニル)−5−オキソペンタノイル]−1,3−オキサゾリジン−2−オン(A1)の調製》
Figure 2008540557
5−(4−フルオロフェニル)−5−オキソペンタン酸(372.0g,1.77mol)及び4−ジメチルアミノ−ピリジン(286.9g,2.35mol)はN,N−ジメチルホルムアミド(1770mL,1.0M)に溶解した結果、溶液にけん濁した大量の白色沈殿物を生成した。反応の温度を6℃(氷/水浴)に下げて、塩化トリメチル酢酸(290mL,2.35mol)を17分間にわたり素早く滴下しながら添加した結果、黄色混合物が生成した。添加の速度は温度を8.5℃以下に保つために調節した。混合物を1時間、9℃(氷/水浴)、次いで2時間、20℃(大量の密集した白色沈殿を含む無色溶液)で攪拌した。混合物に共に固体の(S)−ベンジル−2−オキサゾリジオン(313.5g,1.77mol)及び4−ジメチルアミノピリジン(216.4g,1.77mol)を添加した結果、鮮黄色の懸濁液を生成した。反応物は27℃で3.3時間攪拌した。淡いオリーブ色の溶液を激しく攪拌しながら水(4300mL)に注ぎ(39℃までの発熱が検出された)、水(1000mL)に移し、室温にて2時間攪拌した結果、灰色の沈殿を含む淡いオレンジ−褐色溶液を生成した。化合物は濾過し、水(2×300mL)に移し、水洗し(400mL)、そして1.5時間風乾した結果、灰色の湿った塊状の粉末を生成した。この物質はイソプロパノールから結晶化され(2600mL,理論収率4.0mL/g)、還流温度に近くまで加熱した結果暗い金黄色の溶液が生成した。混合物は20分かけてゆっくりと81℃から74℃に冷却し、種結晶を加えたところ結晶が沈殿し始めた。混合物は11時間かけてゆっくり室温まで冷やし、氷/水浴で2℃に冷却し、3時間攪拌した。結晶は濾過し、冷却した母液に移動し(350mL)、冷イソプロパノール(2×350mL)で洗浄し、風乾後に一定重量になるまで真空乾燥した結果、(4S)−4−ベンジル−3−[5−(4−フルオロフェニル)−5−オキソペンタノイル]−1,3−オキサゾリジン−2−オン(A1)が白色結晶固体として生成した(510.6g,78%収率);融点113.4±1.2℃;R0.37(1:2酢酸エチル−ヘキサン);HPLC純度99.7A%(NMRにより96.4A%);H NMR(300MHz,CDCl)δ8.03−7.98(m,2H),7.37−7.19(m,5H),7.14(t,J=8.7Hz,2H),4.72−4.64(m,1H),4.25−4.15(m,2H),3.32(dd,J=13.3,3.4Hz,1H),3.12−3.01(m,4H),2.78(dd,J=13.3,9.6Hz,1H),2.15(quint.,J=7.2Hz,2H)ppm.
(4S)−4−ベンジル−3−[5−(4−フルオロフェニル)−5−オキソペンタノイル]−1,3−オキサゾリジン−2−オン(A1)の合成では、
Figure 2008540557
で表わされる二つの副産物AI1及びAI2が生成される。
前記のうち最初のもの、AI1、はキラル触媒存在下での水素による還元で
Figure 2008540557
で表わされるAI4を生成させることができ、
これはPCTWO2004099132に記載の方法によりD2の合成に用いることができる。AI1及びAI2はクロマトグラフィーにより前記反応物より単離されたが、もしもAI1を直接調製したいときには、5−(4−フルオロフェニル)−5−オキソペンタン酸を塩化オキサリルと反応させることができる。二番目の副産物、AI2、は除去されない場合には、続く工程により
Figure 2008540557
で表わされるAI3に還元され、次いで、これはトルエン/アルカン溶媒からA2と共結晶し、A2に不純物として残る。それはイソプロパノール/アルカンから結晶化させることでA2から除去できる。産物の分析評価はTLC又はHPLCによりなされ、次のような結果であった:
A0−R0.08(1:2酢酸エチル−ヘキサン);HPLC R 3.7分;
A1−R0.37(1:2酢酸エチル−ヘキサン);HPLC R 7.4分;
A2−R0.14(1:2酢酸エチル−ヘキサン);HPLC R 6.5分;
AI1−R0.50(1:2酢酸エチル−ヘキサン);HPLC R 5.5分;
AI2−R0.38(1:2酢酸エチル−ヘキサン);HPLC R 7.6分;
AI3−R0.43(2:1酢酸エチル−ヘキサン);HPLC R 5.4分。
ウォーターズXterra(R) MS C18(3.0×150mm)を用いた HPLC,5μm,35℃
移動相(A): 0.1%ギ酸水溶液(HPLCグレード)
移動相(B): アセトニトリル(HPLCグレード)
勾配プログラム: 25%B−初期条件
25%から100%B−11分
100%から25%B−0.4分
25%B−3.6分(流速は1.75mL/分に増加)
検出: 254nm
流速: 1.0mL/分
実行時間: 15分
AI16−(4−フルオロフェニル)−3,4−ジヒドロ−2H−ピラン−2−オン。H NMR(CDCl/300MHz)7.54(dd,2H,J=5.1,9.0Hz),7.01(dd,2H,J=9.0,9.0Hz),5.72(t,1H,J=4.8Hz),2.68−2.63(m,2H),2.51−2.47(m,2H).Mass spectrum,M+H=193.

AI21,9−ビス(4−フルオロフェニル)ノナン−1,5,9−トリオン,融点97.1±0.7℃ H NMR(CDCl/300MHz)7.92(dd,4H,J=5.4,9.0Hz),7.06(dd,4H,J=9.0,9.0Hz),2.92(t,4H,J=6.9Hz),2.49(t,4H,J=6.9Hz),1.95(sept,4H,J=6.9Hz).Mass spectrum,M+H=359.

AI3(1S,9S)−1,9−ビス(4−フルオロフェニル)ノナン−1,5,9−トリオール。H NMR(CDCl/300MHz)7.24(dd,4H,J=5.4,8.4Hz),6.98(dd,4H,J=8.4,8.4Hz),4.60(m,2H),3.52(m,1H),3.20−2.60(m,2H),1.80−1.20(m,10H).Mass spectrum,M+H=365.
《工程2.4S)−4−ベンジル−3−[(5S)−5−(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシペンタノイル]−1,3−オキサゾリジン−2−オン(A2)の調製》
Figure 2008540557
(4S)−4−ベンジル−3−[5−(4−フルオロフェニル)−5−オキソペンタノイル]−1,3−オキサゾリジン−2−オン(A1)(500.0g,1.35mol)はジクロロメタン(2700mL,0.5M)に溶解した。混合物は−4℃まで冷やし(氷/食塩水浴)、40分間攪拌し、1.0M(R)−1−メチル−3,3−ジフェニルテトラヒドロ−3H−ピロロ[1,2−c][1,3,2]オキサザボロールのトルエン溶液(68mL,0.068mol)を添加した。10分後に、ボラン−メチルスルフィド複合体(132mL,1.39mol)を添加用漏斗により25分間にわたり滴下しながら添加した(−2.7℃までの発熱が検出された)。反応は3.0時間攪拌しながら0及び−6℃の間に維持した。反応の停止は、15分間にわりメタノール(275mL,6.79mol)(10℃までの発熱が検出された)、5分間にわり6%過酸化水素水溶液(1150mL,2.02mol)及び15分間にわたり1.0M硫酸水溶液(810mL,0.81mol)(17℃までの発熱が検出された)のそれぞれを漏斗によるゆっくりとした添加によりなされた。反応物は室温にて60分間攪拌し、分液漏斗に注ぎ、有機層を分離してから水層をジクロロメタン(2000mL)で抽出した。最初の有機層は水(1500mL)及びブライン(1500mL)で洗浄した。これらの水層は二番目の有機層で逆抽出した。一緒にした有機層は部分濃縮し、硫酸ナトリウムで乾燥し、セライト(Celite:商標)で濾過し、濃縮してからイソプロパノールヘプタン(2000mL,1:1イソプロパノールヘプタン;4.0mL/g理論的収率)から結晶化した。透明で粘着性の残渣は42℃まで加温し(均一な溶液にする)、ゆっくりと35℃まで冷却し、この温度に12時間保ち、3時間かけてゆっくりと室温まで冷やし、更に0から−5℃(氷/食塩水浴)に冷やしてから、2時間攪拌した。結晶は濾過し、冷やした母液に移し(250mL)、冷1:2イソプロパノールヘプタン(2×400mL)で洗浄し、風乾してから一定の重量になるまで真空乾燥した結果、(4S)−4−ベンジル−3−[(5S)−5−(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシペンタノイル]−1,3−オキサゾリジン−2−オン(A2)(445.8g,89%収率)が白色結晶固体として生成した;融点75.4±0.6℃;R0.12(1:2酢酸エチル−ヘキサン);HPLC純度98.9A%;H NMR(300MHz,CDCl)δ7.37−7.24(m,5H),7.19(d,J=7.3Hz,2H),7.02(t,J=8.9Hz,2H),4.72−4.61(m,2H),4.21−4.13(m,2H),3.27(dd,J=13.2,3.0Hz,1H),2.99−2.94(m,2H),2.74(dd,J=13.2,9.6Hz,1H),2.27(br s,1H),1.88−1.66(m,4H)ppm;[α] 23+72.9°(c7.0,methanol).
《工程3.5−ブロモ−2−[(E)−(フェニルイミノ)メチル]フェノールの調製(B2)》
Figure 2008540557
3−ブロモフェノール(498.5g,2.88mol)は2:1トルエン−アセトニトリル(3000mL,0.96M)の混合物に溶解した。この溶液に漏斗を用いてトリエチルアミン(1200mL,8.61mol)を添加した。塩化マグネシウム(412.7g,4.33mol)を固体として一度に添加し(55℃までの発熱が検出された)、その結果大量の白色沈殿物を含む鮮黄色の液体が生成した。パラホルムアルデヒド(345g,11.5mol)をアセトニトリルのけん濁溶液(300mL)として添加したが、その間溶液の温度は45℃であった(78.6℃までの発熱が検出された)。黄−オレンジ色のスラリーの温度を1.5時間80±3℃に維持し、その間副産物は(メタノール)は留去した(白色沈殿物の蒸留器及び還流濃縮器への沈着が観察された)。二度目のパラホルムアルデヒド(100g,3.33mol)をアセトニトリルのけん濁液として添加した(200mL)。混合物は2時間加熱し、更に追加のパラホルムアルデヒド(107g,3.56mol)をアセトニトリルの懸濁液として添加した(200mL)。混合物は2.5時間、80±4℃で攪拌した。合計6時間、合計6.4当量のパラホルムアルデヒドを添加した後に、混合物は5分間にわたり添加された冷2.5N塩酸水溶液(6000mL,15mol)により反応が停止された。混合物は60分間室温になるまで攪拌した結果、鈍い黄色の上層と暗いオレンジ色の下層よりなる二層の溶液が得られた。この溶液を4:1ヘプタン−酢酸エチル(1000mL)で希釈後、かき混ぜこれらの層を分離した。水層は4:1ヘプタン−酢酸エチル(2×1500mL)で抽出した。それぞれの有機層は等量の水(1800mL)及びブライン(1800mL)で洗浄した。全ての有機層は一緒にして、部分濃縮し、硫酸ナトリウムで乾燥し、セライト(Celite:商標)を通して濾過し、濃縮した結果、2−ヒドロキシ−4−ブロモベンズアルデヒドが暗い金色−オレンジ色の粘性油として生成した;R0.54(1:4酢酸エチル−ヘキサン);HPLC純度60A%。
2−ヒドロキシ−4−ブロモベンズアルデヒドの粗製物はイソプロパノール(1000mL,1.26mL/g理論収量,2.5M)に溶解し、混合物は75℃に加熱した。アニリン(157mL,1.72mol)を添加した結果、鮮やかなオレンジ色の溶液が生成し、混合物は室温までゆっくり冷やすために放置した(溶液からイミンが結晶化するときに83℃までの発熱が検出された)。混合物は12時間室温にて攪拌した。結晶を濾過し、イソプロパノールに移し(500mL)、イソプロパノール(500mL)で洗浄し、窒素ガスの強力な気流下で乾燥し、次いで重量が一定になるまで真空乾燥した結果、5−ブロモ−2−[(E)−(フェニルイミノ)メチル]フェノール(B2)(347.4g,二つの工程での収率は44%)が鮮黄色の結晶固体として生成した;融点129.1±01℃;R0.65(1:4酢酸エチル−ヘキサン);NMR純度>99A%;H NMR(300MHz,CDCl)δ8.59(s,1H),7.47−7.40(m,2H),7.33−7.22(m,5H),7.08(dd,J=8.2,1.8Hz,1H),1.57(br s,1H)ppm.
《工程4.N−{(1E)−[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]メチレン}−N−フェニルアミンの調製(B3)》
Figure 2008540557
5−ブロモ−2−[(E)−(フェニルイミノ)メチル]フェノール(B2)(310.9g,1.13mol)を無水N,N−ジメチルホルムアミド(1100mL,1.0M)に溶解した。固形炭酸カリウム(186.7g,1.35mol)を添加後に、臭化ベンジル基(147.1mL,211.5g,1.24mol)を注射器で添加した。反応物は窒素下4時間、室温にて攪拌し、水により反応を停止した(2000mL)(40℃までの発熱が検出された)。生成した黄色の沈殿及び混合物は1時間室温にて攪拌した。溶液は濾過し水(500mL)に移し、乾燥した窒素ガスの激しい流れの下で15分間風乾した。粗生成固体はイソプロパノール(1250mL,3.0mL/g理論収率,0.9M)に溶解し、混合物は83℃まで加熱した結果、透明な暗黄色溶液を生成し、これを室温までゆっくり冷やした。混合物は室温で12時間攪拌した。結晶は濾過し、冷イソプロパノール(250mL)に移し、冷イソプロパノール(250mL)で洗浄後、乾燥した窒素ガスの激しい気流下で風乾し次いで重量が一定になるまで真空乾燥した結果、N−{(1E)−[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]メチレン}−N−フェニルアミン(B3)(375.2g,収率91%)が淡黄色の結晶固体として生成した;融点100.2±0.2℃;R0.59(1:4酢酸エチル−ヘキサン);NMR純度>99A%;H NMR(300MHz,CDCl)δ8.87(s,1H),8.06(d,J=8.2Hz,1H),7.43−7.33(m,7H),7.28−7.17(m,5H),5.14(s,2H)ppm.
《工程5.(4S)−3−[(2R,5S)−2−{(S)−アニリノ[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]メチル}−5−(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシペンタノイル]−4−ベンジル−1,3−オキサゾリジン−2−オン(D1)の調製》
Figure 2008540557
5−L三頸フラスコに(4S)−4−ベンジル−3−[(5S)−5−(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシペンタノイル]−1,3−オキサゾリジン−2−オン(203.2g,0.547mol)を加え、次いで無水ジクロロメタン(550mL,1.0M)及びN−エチルジイソプロピルアミン(200mL,148.4g,1.148mol)を、漏斗を介して添加した。反応物は−15℃まで冷却し、トリメチルクロロシラン(73.0mL,62.5g,0.575mol)を10分間にわたりカニューレにより添加した(−8℃までの発熱が検出された)。反応物は1時間−25℃及び−15℃の間で攪拌した。四塩化チタン(63.0mL,109.0g,0.575mol)を35分間にわたり漏斗を介して滴下しながら添加した結果、深赤紫色の溶液(−10℃までの発熱が検出された)が生成した。混合物は40分間にわたり−20±4℃で攪拌し、−40℃まで冷却し、そしてN−{(1E)−[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]メチレン}−N−フェニルアミン(375.2g,1.024mol)のジクロロメタン溶液(510mL,2.0M)を、2.5時間にわたり漏斗を介して添加した。反応温度は−45℃及び−31℃の間に維持した。混合物は更に3.5時間攪拌し、反応停止は氷酢酸(125mL,2.19mol)を15分間にわたりゆっくりと添加することで行い(反応温度は−33℃及び−31℃の間に維持した)、そして冷(10℃)15%dl−酒石酸水溶液(2200mL)で希釈した(0℃までの発熱が検出された)。この混合物は2時間にわたり17℃で攪拌し、ジクロロメタン(1000mL)で希釈し、分液漏斗に注いで層を分離した。有機層は10%飽和ブライン溶液(2000mL)及びブライン(1000mL)で洗浄した。水層は1:1酢酸エチル−ヘプタン(2×1500mL)で再抽出を繰り返し、そして一緒にした有機層を濃縮した結果、粘性の赤色の残渣及び大量の黄色沈殿物が生成した。混合物は1:4ジクロロメタン−ヘプタン(1000mL)で希釈し、濾過し、固体は1:4ジクロロメタン−ヘプタン(3×500mL)で洗浄した。濾液は濃縮し、残渣はジクロロメタン(600mL)で希釈し、シリカゲルにかけた(700mL)。混合物はパッド濾過(300mLシリカゲル,ジクロロメタン(300mL)及び15%酢酸エチル−ジクロロメタン(4000mL))で精製した結果、(4S)−3−[(2R,5S)−2−{(S)−アニリノ[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]メチル}−5−(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシペンタノイル]−4−ベンジル−1,3−オキサゾリジン−2−オン(D1)が粘性の、暗黄色の油が生成し、これは工程4に使用された。H NMR(300MHz,CDCl)δ7.50(dd,J=8.2,1.5Hz,2H),7.39−7.30(m,3H),7.26−6.98(m,12H),6.94(t,J=8.6Hz,2H),6.62(t,J=7.3Hz,1H),6.52(d,J=8.6Hz,2H),5.13(s,2H),5.06(d,J=6.5Hz,1H),4.73(dd,J=13.8,6.7Hz,1H),4.64−4.57(m,1H),4.49(dd,J=7.3,5.2Hz,1H),4.12−4.04(m,2H),3.01(dd,J=13.4,3.0Hz,1H),2.39(dd,J=13.4,9.5Hz,1H),1.84−1.51(m,6H)ppm.
《工程6.(3R,4S)−4−[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]−3−[(3S)−3−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(D2)の調製》
Figure 2008540557
3−L三頸フラスコにほぼ純粋な(4S)−3−[(2R,5S)−2−{(S)−アニリノ[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]メチル}−5−(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシペンタノイル]−4−ベンジル−1,3−オキサゾリジン−2−オン(0.547mol)を無水tert−ブチルメチルエーテル(1100mL,0.5M)に溶かした溶液を加え、そしてN,O−ビストリメチルシリルアセトアミド(250mL,1.012mol,クロロトリメチルシランを含まない)を添加した。混合物は15時間、55℃で攪拌し、次いでN,O−ビストリメチルシリルアセトアミド(320mL,1.294mol)と更に触媒的量のテトラブチルフッ化アンモニウム三水和物(4.62g,0.0177mol)を添加した結果、鮮黄色から淡金黄色への色の変化がもたらされた。反応物は室温にて6時間攪拌し、反応停止は氷酢酸(1.0mL,0.018mol)で行った。シリル基保護基の加水分解は1.0N塩酸水溶液で達成したが(1100mL)、これには発熱を回避するために滴下により添加された(N,O−ビストリメチルシリルアセトアミドの分解が酸水溶液で活性化され得る)。鮮黄色の二層の混合物は1.5時間攪拌し、分液漏斗に注ぎ、1:1酢酸エチル−ヘプタン(1000mL)及び水(1000mL)で希釈し、かき混ぜ、これらの層を分離し、そして有機層は5から25%の亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水(500mL)及びブライン(500mL)で洗浄した。水層は、1:1酢酸エチル−ヘプタン(1000mL)の一部を用いて一連の逆抽出を繰り返し、そして一緒にした有機層は濃縮した。残渣は1:1ヘプタン−ジクロロメタン(1000mL)で希釈し、シリカゲル(1000mL)と一緒にしてスラリーにして、パッド濾過(2000mLシリカゲル、10%(8000mL)、20%(8000mL)、30%(6000mL)及び40%(4000mL)酢酸エチル−ヘキサン)により精製した結果、(3R,4S)−4−[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]−3−[(3S)−3−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(D2)(251.2g,82%)が青白く薄い黄色の泡として生成した;HPLC純度89A%;NMR純度85A%。残渣の一部(124.2g)は温めた8%水−メタノール(500mL,4.0mL/g,理論収率)から結晶化により精製した。結晶は濾過し、冷10%水−メタノール(200mL)で洗浄し、風乾後重量が一定になるまで真空乾燥した結果、(3R,4S)−4−[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]−3−[(3S)−3−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(D2)(85.9g,粗製出発物質における求める化合物の量を元にして77%回収)が白色針状結晶として生成した;融点113±0.5−℃;R0.32(1:2酢酸エチル−ヘキサン);HPLC純度>99%;NMR純度>99%;H NMR(300MHz,CDCl)δ7.41(br s,5H),7.28−7.22(m,4H),7.19−7.15(m,3H),7.08−7.02(m,3H),6.96(t,J=8.7Hz,2H),5.10(dd,J=15.2,11.2Hz,2H),5.01(d,J=2.4Hz,1H),4.57−4.52(m,1H),3.06−3.00(m,1H),2.25(d,J=3.8,1H),1.97−1.74(m,4H)ppm;[α] 23−12.3°(c6.5,ethyl acetate).
(3R,4S)−4−[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]−3−[(3S)−3−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(D2)への代替ルート。
Figure 2008540557
《工程1A.(4S)−4−フェニル−3−[5−(4−フルオロフェニル)−5−オキソペンタノイル]−1,3−オキサゾリジン−2−オン(A1 R=フェニル)の調製》
Figure 2008540557
5−(4−フルオロフェニル)−5−オキソペンタン酸(21.02g,100.0mmol)及び4ジメチルアミノ−ピリジン(16.25g,133.0mmol)はN,N−ジメチルホルムアミド(100mL,1.0M)に溶解した結果、溶液にけん濁した大量の白色沈殿を生成した。反応物は2℃に冷やしてから(氷/水浴)、トリメチルアセチルクロリド(16.40mL,16.04g,133.0mmol)を滴下しながら添加したところ、淡黄色の混合物を生成した。添加速度は温度を5℃以下に維持するためにコントロールした。大きな白色沈殿が生成し、混合物は室温まで加温してから、1.5時間攪拌した。混合物に共に固体としての(S)−(+)−4−フェニル−2−オキサゾリジノン(16.32g,100.0mmol)及び4−ジメチルアミノピリジン(12.22g,100.0mmol)を添加した結果、黄色のけん濁液が得られた。反応物は30℃から35℃で2時間攪拌した。一部をTLC及びHPLCによる分析のために採取した。淡いオリーブ色のけん濁液は、激しく攪拌しながら水(400mL)に注ぎいでから、混合物を氷/食塩水浴で冷やし、水(150mL)に移し、氷冷しながら1.5時間攪拌した結果、灰色の沈殿を含む溶液を生成した。化合物は濾過し、水(2×25mL)に移し、水洗(50mL)してから15分間風乾したところ、灰色の湿った塊状の粉末を生成した。この物質はイソプロパノール(58.0mL;1.6mL/g理論的収率)から結晶化されたが、還流するまで加熱したところ金黄色の溶液が得られた。溶液は12時間かけてゆっくり室温まで冷却し、種結晶を加えたところ結晶が沈殿し始めた。混合物は氷/水浴で冷却してから1時間攪拌した。結晶を濾過し、冷イソプロパノール(2×10mL)に移し、冷イソプロパノール(25mL)で洗浄し、風乾及び重量が一定になるまで真空乾燥した結果、(4S)−4−フェニル−3−[5−(4−フルオロフェニル)−5−オキソペンタノイル]−1,3−オキサゾリジン−2−オン(30.46g,85.7%収率)が白色の結晶性固体として生成した;融点91.0℃;R0.40(1:2酢酸エチル−ヘキサン);HPLCR7.02分;HPLC純度94% H NMR(300MHz,CDCl)δ7.93(dd,J=5.4,9.0Hz,2H),7.28−7.42(m,5H),7.10(dd,J=8.5,9.0Hz,2H),5.43(dd,J=3.7,8.7Hz,1H),4.70(t,J=8.9Hz,1H),4.28(dd,J=3.7,8.7Hz,1H),3.05(dt,J=1.2,7.3Hz,2H),2.97(t,J=7.3,2H),2.05(p,J=7.3Hz,2H),ppm.
《工程2A.(4S)−4−フェニル−3−[(5S)−5−(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシペンタノイル]−1,3−オキサゾリジン−2−オン(A2 R=フェニル)の調製》
Figure 2008540557
(4S)−4−フェニル−3−[5−(4−フルオロフェニル)−5−オキソペンタノイル]−1,3−オキサゾリジン−2−オン(A1 R=フェニル)(28.43g,80.0mmol)はジクロロメタン(160.0mL;0.5M)に溶解した。混合物は−10℃まで冷却し(氷/食塩水浴)、10分攪拌してから1.0M(R)−1−メチル−3,3−ジフェニルテトラヒドロ−3H−ピロロ[1,2−c][1,3,2]オキサザボロールのトルエン溶液(4.0mL,4.0mmol)を添加し、次いでボラン−メチルスルフィド複合体(7.80mL,6.26g,82.4mmol)を滴下しながら添加した。添加速度は温度を−8℃に維持するために調節した。反応温度は3時間、撹拌しながら−5及び−8℃の間に維持した。反応停止は、氷浴による冷却化、メタノール(16.3mL,402.4mmol)、6%過酸化水素水溶液(68.2mL,120.0mmol)及び1.0M硫酸水溶液(48.0mL,48mmol)をそれぞれゆっくり添加することで停止した。冷却浴を外してから、反応物を室温で攪拌した。室温で45分間攪拌した後に、混合物は分離用漏斗に注ぎ、有機層を分離し、水層はジクロロメタン(200mL)で抽出した。最初の有機層は水(125mL)及びブライン(125mL)で洗浄した。水層は二番目の有機層で逆抽出した。一緒にした有機層は硫酸ナトリウムで乾燥し、セライト(Celite:商標)で濾過してから濃縮した結果、31.9gの透明な粘着性のフィルムが粗製物として生成した。このフィルムは60mlトルエンに50℃で溶解し、室温まで冷やした後に、12時間にわたり−15℃で結晶化した。白色の結晶性固体は濾過し、冷トルエン(100mL)に移して洗浄し、風乾及び真空乾燥した結果、24.45gの白色固体が生成した。NMR分析の結果生成物は6%トルエンを含んでいることが分かった。固体は再度50℃でトルエン(50mL)に溶解してから、ヘキサン(50mL)を添加した。溶液を攪拌しながら室温まで冷やしてから、氷浴で1時間攪拌した。白色固体は濾過し、ヘキサン(200mL)に移して洗浄し、風乾及び一定重量になるまで真空乾燥した結果、(4S)−4−フェニル−3−[(5S)−5−(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシペンタノイル]−1,3−オキサゾリジン−2−オン(22.56g,79%収率)が白色の結晶性固体として生成した;融点39.7℃;R0.21(2:3酢酸エチル−ヘキサン);HPLC R 6.09分;HPLC純度96.5%;H NMR(300MHz,CDCl)δ7.15−7.42(m,7H),7.00(t,J=8.8Hz,2H),5.40(dd,J=3.7,8.7Hz,1H),4.68(t,J=8.8Hz,1H),4.59−4.66(m,1H),4.27(dd,J=3.7,9.1Hz,1H),2.93(dt,J=1.1,6.2Hz,2H),1.58−1.80(m,4H)ppm.
《工程5A.3−[2−[(2−ベンジルオキシ−4−ブロモ−フェニル)−フェニルアミノ−メチル]−5−(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシ−ペンタノイル]−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オン(D1フェニル)の調製》
Figure 2008540557
(4S)−4−フェニル−3−[(5S)−5−(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシペンタノイル]−1,3−オキサゾリジン−2−オン(A2フェニル)(21.4g,58.6mmol)を無水ジクロロメタン(100mL,0.6M)に溶解してから、−45℃まで冷却した。N−エチルジイソプロピルアミン(21.9mL,16.3g,125.8mmol)を、次いでクロロトリメチルシラン(8.0mL,6.83g,62.9mmol)をゆっくり添加した。反応物は1時間攪拌し、温度は−20及び−30℃の間に維持した四塩化チタン(6.90mL,11.9g,62.9mmol)を20分間にわたり滴下しながら添加した結果、深赤紫色の溶液が得られた。温度を−30及び−35℃の間に維持して、攪拌を45分間継続した。次いで混合物は−45℃まで冷却してから、N−{(1E)−[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]メチレン}−N−フェニルアミン(B3)(37.3g,101.8mmol)のジクロロメタン溶液(100mL,1.0M)を30分間にわたり滴下しながら添加した。添加中、反応温度を−40℃及び−45℃の間に維持した。混合物は1.5時間、−40℃及び−45℃の間に維持した。一部をTLC及びHPLCによる分析用に採取した。反応の停止は、氷酢酸(13.7mL,14.4g,240.0mmol)を10分間にわたりゆっくり添加し、次いで冷(10℃)15%のdl−酒石酸水溶液(240.0mL,36.0g,240.0mmol)を添加することで実施した。反応混合物は−5℃まで加温してから、酒石酸の添加終了後更に室温まで加温した。混合物は続く1.5時間、室温で攪拌し、ジクロロメタン(200mL)で希釈し、分離用漏斗に注いでから、層の分離を行った。有機層は希釈ブライン溶液(9:1水/ブライン,250mL)、次いでブライン(100mL)で洗浄した。水層は1:1酢酸エチル−ヘキサン(200mL,150mL)で一連の再抽出を行った。一緒にした有機層はNaSOで乾燥してから濃縮した結果、59.4gのオレンジ−赤色の粘性の油が生成した。粗生成物はメタノール(250mL)に溶解してから、−15℃で12時間保存した。得られたスラリーを濾過した結果、白色固体(27.7g)が生成したが、これをメタノール(150mL)に55℃で懸濁し、氷浴で攪拌しながら30分間冷却した結果、白色の固体が生成し、これを濾過し、冷メタノール(150mL)に移して洗浄し、風乾及び高−真空乾燥した結果、3−[2−[(2−ベンジルオキシ−4−ブロモ−フェニル)−フェニルアミノメチル]−5−(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシ−ペンタノイル]−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オン,D1フェニル(22.1g,51%収率)が白色粉末として生成した;R0.32(1:1酢酸エチル−ヘキサン);HPLC R 10.24分;HPLC純度>99%;H NMR(300 MHz,CDCl)δ7.51(dd,J=1.6,8.3Hz,2H),6.67−7.40(m,17H),6.59(tt,J=1.0,7.4Hz,1H),6.39(dd,J=1.1,8.6Hz,2H),5.31−5.42(m.2H),5.04−5.25(m,2H),4.92(dd,J=6.0,9.5Hz,1H),4.80(dd,J=6.9,13.3Hz,1H),4.66(t,J=8.6Hz,1H),4.45−4.54(m,1H),4.13(dd,J=3.5,8.8Hz,1H),1.89(d,J=3.4Hz,2H),1.58−1.84(m,3H)ppm.
《工程6A.(3R,4S)−4−[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]−3−[(3S)−3−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(D2)の調製》
Figure 2008540557
100mLフラスコに3−[2−[(2−ベンジルオキシ−4−ブロモ−フェニル)−フェニルアミノ−メチル]−5−(4−フルオロフェニル)−5−ヒドロキシ−ペンタノイル]−4−フェニル−オキサゾリジン−2−オン(D1フェニル)(1.45g,2.00mmol)を無水tert−ブチルメチルエーテル(10mL,0.2M)及びN,O−ビストリメチルシリルアセトアミド(1.0mL,4.00mmol)に溶解した溶液を加えた。この透明な溶液は2時間攪拌しながら還流、加熱した。加熱浴を外してから、触媒量のテトラブチルフッ化アンモニウム水和物(0.050g,0.20mmol)を添加した結果、無色から淡黄色への色の変化がもたらされた。N,O−ビストリメチルシリルアセトアミド(0.5mL,2.00mmol)を追加した後に、溶液は室温にて16時間攪拌した。次いで反応物は氷で冷却してから、氷酢酸(0.01mL,0.20mmol)、次いで1.0N塩酸水溶液(3.5mL)を、発熱を回避するために滴下しながら添加した(N,O−ビストリメチルシリルアセトアミドの分解が塩酸水溶液で活性化され得る)。鮮黄色の二層の混合物は、0.5時間攪拌し、分液漏斗に注ぎ、1:1酢酸エチル−ヘキサン(50mL)及び水(50mL)で希釈し、かき混ぜてから、層を分離し、有機層は水(50mL)及びブライン(50mL)で洗浄した。二つの水層は二分した1:1酢酸エチル−ヘキサン(2×30mL)で逆抽出してから、一緒にした有機層は硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した結果、1.60gの黄色の油が生成した。生成物をカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン勾配1:9から1:1)で精製した結果、(3R,4S)−4−[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]−3−[(3S)−3−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オンD2(0.687g,61%)が白色固体として生成した(LC−MSによる純度≧99%,R=0.30[2:1ヘキサン/酢酸エチル],M(−OH):542.4m/z);H NMR(300MHz,CDCl)δ7.41(br s,5H),7.28−7.22(m,4H),7.19−7.15(m,3H),7.08−7.02(m,3H),6.96(t,J=8.7Hz,2H),5.10(dd,J=15.2,11.2Hz,2H),5.01(d,J=2.4Hz,1H),4.57−4.52(m,1H),3.06−3.00(m,1H),2.25(d,J=3.8,1H),1.97−1.74(m,4H)ppm;[α] 23−12.3(c 6.5,ethylacetate).
D2を結晶化する代替の方法は以下の通りであった:
D1出発物質のジアステレオマー比率は79:21[trans(全体):cis(全体)]であった。環化反応後のD2粗生成物は、全量で135g(理論上:117gのD2ジアステレオマーに加えて37gの切断されたベンジルオキサゾリジンオン)であったが、これをメタノール中(700mL)で65℃まで加熱した。水(90mL)を10分間にわたり撹拌中の溶液に滴下しながら添加した。ジアステレオマー的に純粋なD2の種を時々、47℃までゆっくりと冷却中の溶液に加えてから、一晩47℃に維持し、次いで最後に5時間にわたり室温まで冷却した。固体は濾過により回収し、次いで氷冷メタノール/水(89:11)で洗浄してから、真空乾燥した結果、灰色の固体(D2,54.0g)が生成した。cisジアステレオマーはH−NMRによって検出されなかった。固体はメタノール及びイソプロピルアルコールの混合溶液中で50℃まで加熱してから、木炭を添加した。溶液を濾過してから濃縮乾固した結果、43.9gの白色固体が生成した。この物質はイソプロピルアルコール(228mL)中で73℃まで加熱してから、イソプロピルアルコール/水(27:73,104mL)の混合物を45分間にわたり添加した。溶液は65℃まで冷却し、ジアステレオマー的に純粋なD2種結晶を添加してから、溶液はゆっくりと室温まで冷却した。固体は濾過により回収し、イソプロピルアルコール/水(75:25,80mL)で洗浄してから真空下で乾燥した結果、純粋の(3R,4S)−4−[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]−3−[(3S)−3−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(D2,40.7g,D1からの収率が44%)が白色針状結晶として生成し、融点は113.9℃であった。ジアステレオマー的純度はキラルHPLC分析の結果99.9%であることが判明した。
《工程7.(3R,4S)−4−[3−(ベンジルオキシ)−3’−ヒドロキシビフェニル−4−イル]−3−[(3S)−3−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(F1)》
Figure 2008540557
500−mL三頸丸底フラスコに、(3R,4S)−4−[2−(ベンジルオキシ)−4−ブロモフェニル]−3−[(3S)−3−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(21.7g、38.7mmol)及び3−ヒドロキシフェニルホウ酸(6.4g、46.4mmol)を加え、次いで脱気された4:1トルエン−エタノール(97.5mL、0.4M)を添加した。窒素ガスで溶液を25分間直接泡立て酸素を置きかえながら、かくはん機を使用して室温でその混合物を撹拌した。出発物質を17分後に完全溶解し、そして黄褐色の溶液に、脱気された2.0M水溶性炭酸カリウム(39.0mL、78.0mmol)を、次いで固体のパラジウム(0)テトラキス(トリフェニルホスフィン)(2.23g、1.93mmol)を添加した。さらに10分間、窒素ガスで溶液を直接泡立て、酸素を置きかえた。溶液は黄色に変化し、そしてその混合物を90℃に加熱した(加熱している間、その反応は黄色のままである)。5.5時間、90℃で反応物を攪拌し、氷水(300mL)に注ぎ、1:1エチルアセテート−ヘプタン(250mL)で抽出し、ブライン(100mL)で洗浄した。1:1酢酸エチル−ヘプタン(250mL)でその水層を連続して逆抽出した。一緒にした有機層に、シリカゲル(2.25g)及び活性炭素(2.25g)を加え、一晩中攪拌した。その溶液をセライト(Celite:商標)を通して濾過し、1:1酢酸エチル−ヘプタン(200mL)で洗浄し、濃縮し、オレンジ色の油(26.8g)が生成した。その油をジクロロメタン(65mL)に溶解し、シリカゲル(25g)を加え、ジクロロメタンが詰まっているシリカゲル(125g)のパッドに移した。そのパッドを最初にジクロロメタン(200mL)、20%酢酸エチル−ヘキサン(1000mL)で溶離し不純物を除去し、40%酢酸エチル−ヘキサン(1500mL)で所望の物質を溶離した。溶媒を真空中で濃縮した結果、(3R,4S)−4−[3−(ベンジルオキシ)−3’−ヒドロキシビフェニル−4−イル]−3−[(3S)−3−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(F1)(20.1g、91%収率)が淡褐色の泡として生成した。
;R0.31(1:1エチルアセテート−ヘキサン);HPLC純度97.5A%;H NMR(300MHz,CDCl)δ7.45−7.26(m,9H)、7.23−7.15(m,5H)、7.11−7.02(m,4H)、6.95(t,J=8.8Hz,2H)、6.86−6.82(m,1H)、5.20(d,J=11.4Hz,1H)、5.14(d,J=11.4Hz,1H)、5.12(d,J=2.3Hz,1H)、4.59−4.53(m,1H)、3.13−3.08(m,1H)、2.20(d,J=4.4Hz,1H)、1.98−1.80(m,4H)ppm.
《工程8.(3R,4S)−4−(3,3’−ジヒドロキシビフェニル−4−イル)−3−[(3S)−3−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(DFPA)の調製》
Figure 2008540557
400−mL水素添加用圧力フラスコに、脱気された200プルーフエタノール(200−proof ethanol)(73mL)中に溶液として(3R,4S)−4−[3−(ベンジルオキシ)−3’−ヒドロキシビフェニル−4−イル]−3−[(3S)−3−(4−フロオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(20.1g、35.0mmol)を窒素下で加えた。炭素上の10%パラジウム(9.84g,2.59mmol)を固体として添加し、続いて脱気された200プルーフエタノール(20mL)を添加した。フラスコをラバーセプタムで密封し、黒色溶液を激しく攪拌した。その後、長い注射針を介して水素ガスで溶液を直接泡立て、排気は大きいフラスコの水を通して行われた。室温でバブリング4時間後、反応を終了し、溶液を20分間窒素ガスでパージした。窒素ガスのブランケット下でセライトを通して混合物を濾過し、脱気された200プルーフエタノール(50mL)及びメタノール(210mL)で洗浄し、濃縮し、フラッシュクロマトグラフィー(330g シリカゲル、40%〜70%酢酸エチル−ヘキサン)によって精製した結果、(3R,4S)−4−(3,3’−ジハイドロキシビフェニル−4−イル)−3−[(3S)−3−(4−フルオロフェニル)−3−ヒドロキシプロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(DFPA)(12.7g、75%収率)が生成した;R:0.13(1:1酢酸エチル−ヘキサン、UV(254nm));HPLC純度98.1A%;H NMR(300MHz,CDOD)δ7.36−7.14(m,8H)、7.07−6.97(m,7H)、6.75(ddd,J=8.1,2.4,0.9Hz,1H)、5.15(d,J=2.3Hz,1H)、4.64−4.60(m,1H)、3.18(dt,J=5.7,2.1Hz,1H)、2.05−1.89(m,4H)ppm.
(3R,4S)−3−[(3S)−3−{[tert−ブチル(ジメチル)シリル]オキシ}−3−(4−フルオロフェニル)プロピル]−4−[2−{[tert−ブチル(ジメチル)シリル]オキシ}−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)フェニル]−1−フェニルアゼチジン−2−オンの調製。
Figure 2008540557
(3R,4S)−4−(4−ブロモ−2−{[tert−ブチル(ジメチル)シリル]オキシ}フェニル)−3−[(3S)−3−{[tert−ブチル(ジメチル)シリル]オキシ}−3−(4−フルオロフェニル)プロピル]−1−フェニルアゼチジン−2−オン(0.42g,0.60mmol)は密封したチューブの中でジオキサン(15mL)に溶解した。
ビス(ピナコラト)ジボロン(0.17g,0.66mmol)、酢酸カリウム(0.18g、1.83mmol)、及びジクロロ[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロロメタン付加化合物(14.6mg,0.018mmol)を添加してから、反応物をアルゴンで脱気し、85℃まで24時間加温した。混合物は室温まで冷却してから、50mLの1:1酢酸エチル−ヘキサンで希釈し、100mLの0.1N塩酸及び2×100mLのブラインで洗浄した。有機層を回収し、半分の体積までの部分濃縮、10gのシリカゲルを通すことによる濾過、50mLの酢酸エチルによる洗浄及び真空濃縮を行った結果(3R,4S)−3−[(3S)−3−{[tert−ブチル(ジメチル)シリル]オキシ}−3−(4−フルオロフェニル)プロピル]−4−[2−{[tert−ブチル(ジメチル)シリル]オキシ}−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)フェニル]−1−フェニルアゼチジン−2−オンが生成した;H NMR(300MHz,CDCl)δ7.35−7.18(m,9H),7.02−6.96(m,1H),6.95(t,J=8.7Hz,2H),5.11(d,J=2.3Hz,1H),4.63(t,J=5.6Hz,1H),3.06(dt,J=7.4,2.3Hz,1H),1.96−1.79(m,4H),1.31(br s,12H),1.05(s,9H),0.86(s,9H),0.35(s,3H),0.32(s,3H),0.00(s,3H),−0.20(s,3H)ppm.

Claims (39)

  1. 構造式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    Xは、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択され;
    ProtA−O−は、オキシメチルエーテル基、アリルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基であり;
    ProtB−O−は、HO−であるか、あるいは、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基であり;そして
    Qはキラル補助基であり、前記キラル補助基が、トリフェニルグリコールと、キラル中心少なくとも一つを有する環状並びに分岐状窒素含有部分の単一鏡像体とから選択される)
    で表わされる化合物の製造方法であって、
    式:
    Figure 2008540557
    で表わされる化合物を
    式:
    Figure 2008540557
    で表わされる化合物と反応させることを含む、前記化合物の製造方法。
  2. 構造式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    Xは、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択され;
    ProtA−O−は、オキシメチルエーテル基、アリルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基であり;
    ProtB−O−は、HO−であるか、あるいは、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基であり;そして、
    は、フェニル基又はベンジル基である)
    で表わされる化合物の製造方法であって、
    式:
    Figure 2008540557
    で表わされる化合物を
    式:
    Figure 2008540557
    で表わされる化合物と反応させることを含む、請求項1に記載の前記方法。
  3. 式:
    Figure 2008540557

    (式中、
    ProtB’−O−は、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基、及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基である)
    で表わされる化合物を、
    式:
    Figure 2008540557
    で表わされる化合物及びルイス酸と反応させることを含む、請求項2に記載の方法。
  4. 以下の連続的な工程:
    a.式:
    Figure 2008540557
    で表わされる化合物とトリアルキルハロシランを塩基存在下で反応させること、次いで
    b.ルイス酸と反応させること、次いで
    c.式:
    Figure 2008540557
    で表わされる化合物と反応させること、
    を含む、請求項2に記載の前記方法。
  5. 及びRは、H及びハロゲン原子から選択され;そして
    ProtA−O−は、メトキシメチルエーテル基、アリルエーテル基、t−ブチルエーテル基、ベンジルエーテル基、トリメチルシリルエーテル基、t−ブチルジメチルシリルエーテル基、及びt−ブチルジフェニルシリルエーテル基から選択される、請求項3又は4に記載の方法。
    前記ルイス酸が、第3族、第4族、第13族、又は第14族の金属のハロゲン化物である、請求項4に記載の方法。
  6. 前記ルイス酸が四塩化チタンである、請求項6に記載の方法。
  7. は、水素原子であり;
    は、フッ素原子であり;
    Xは、臭素原子であり;
    ProtA−O−は、ベンジルエーテル基であり;そして、
    ProtB−O−は、HO−である、
    請求項4に記載の方法。
  8. a.式:
    Figure 2008540557
    で表わされる化合物を、三級アミン存在下でトリメチルクロロシランと反応させて、シリル基で保護されたベンジルアルコールを提供すること;そして、
    b.前記シリル基保護ベンジルアルコールを、四塩化チタン及び
    式:
    Figure 2008540557
    で表わされるイミンと反応させて、
    式:
    Figure 2008540557
    で表わされる化合物を提供することを含む、請求項2に記載の方法。
  9. 構造式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    Xは、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択され;
    ProtA−O−は、オキシメチルエーテル基、アリルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基であり;
    ProtB−O−は、HO−であるか、あるいは、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基、及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基である)
    で表わされる化合物の製造方法であって、
    式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    は、フェニル基又はベンジル基であり;及び
    ProtB’−O−は、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基である)
    で表わされる化合物の環化を含む、前記方法。
  10. 式:
    Figure 2008540557
    で表わされる化合物を、N、O−ビストリメチルシリルアセトアミド及びフッ化物イオン源に反応させることを含む、請求項10に記載の方法。
  11. 前記フッ化物イオン源が、テトラブチルフッ化アンモニウムである、請求項11に記載の方法。
  12. は、水素原子であり;
    は、フッ素原子であり;
    Xは、臭素原子であり;
    ProtAは、ベンジル基であり;そして
    ProtB’は、シリル基である、請求項12に記載の方法。
  13. ProtB’は、t−ブチルジメチルシリル基及びトリメチルシリル基から選択される、請求項13に記載の方法。
  14. 式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    ProtA’−O−は、オキシメチルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基であり;そして、
    ProtB−O−は、HO−であるか、あるいは、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基である)
    で表わされるフェノール型4−ビフェニリルアゼチジノンの製造方法であって、前記方法は
    式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    Xはヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択される)
    で表わされる4−フェニルアゼチジン−2−オンを、
    式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    10及びR11は、H及び(C−C)アルキル基から独立に選択されるか、又は、R10及びR11は、一緒に5−6員環を形成する)
    で表わされるフェニル部分と反応させることを含む、前記方法。
  15. 式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    ProtA’−O−は、オキシメチルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基であり;そして、
    ProtB−O−は、HO−であるか、あるいは、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基、及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基である)
    で表わされる4−ビフェニリルアゼチジノンの製造方法であって、前記方法が
    式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    10及びR11は、H及び(C−C)アルキル基から独立に選択されるか、又は、R10及びR11は、一緒に5−6員環を形成する)
    で表わされる4−フェニルアゼチジン−2−オンを
    式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    Xはヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択される)
    で表わされるフェニル部分と反応させることを含む、前記方法。
  16. 4−フェニルアゼチジン−2−オンとフェニル部分との前記反応を、ホスフィン、パラジウム塩、及び塩基を用いて行う、請求項15又は16に記載の方法。
  17. 式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    ProtA’−O−は、メトキシメチルエーテル基、t−ブチルエーテル基、シリルエーテル基、及びベンジルエーテル基から選択され;
    ProtB−O−は、HO−及びシリルエーテル基から選択される)
    で表わされる4−フェニルアゼチジン−2−オンを、ホスフィン、パラジウム塩及び塩基の存在下で、
    式:
    Figure 2008540557
    と、反応させることを含む、
    請求項15に記載の方法。
  18. 式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    ProtA’−O−は、メトキシメチルエーテル基、t−ブチルエーテル基、シリルエーテル基、及びベンジルエーテル基から選択され;そして、
    ProtB−O−は、HO−及びシリルエーテル基から選択される)
    で表わされる4−フェニルアゼチジン−2−オンを、ホスフィン、パラジウム塩及び塩基の存在下で、
    式:
    Figure 2008540557
    と、反応させることを含む、請求項16に記載の方法。
  19. 前記ホスフィンはトリフェニルホスフィンであり、前記パラジウム塩はPdClであり、そして、前記塩基はアルカリ金属水酸化物又は炭酸塩の水溶液である、請求項17,18又は19のいずれか一項に記載の方法。
  20. は水素原子であり、そして、Rはフッ素原子である、請求項15〜20のいずれか一項に記載の方法。
  21. 式:
    Figure 2008540557
    で表される化合物の製造方法であって、前記方法が
    式:
    Figure 2008540557
    で表されるアゼチジノンを
    式:
    Figure 2008540557
    で表されるホウ酸と反応させ、そして脱保護することを含み、
    ここで、
    及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    Xは、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択され;
    ProtA’−O−は、オキシメチルエーテル基、三級アルキルエーテル、ベンジルエーテル基及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基であり;そして、
    ProtB−O−は、−OH又はシリルエーテル基である、
    前記方法。
  22. 式:
    Figure 2008540557
    で表される化合物を製造する方法であって、
    式:
    Figure 2008540557
    で表されるアゼチジノンを
    式:
    Figure 2008540557
    で表されるホウ酸と反応させ、そして脱保護することを含む、請求項22に記載の方法。
  23. ホスフィン、パラジウム塩及びアルカリ金属炭酸塩存在下で、前記アゼチジノンを前記ホウ酸と反応させ;
    ここで、ProtA’はベンジル基であり、触媒的水素化分解で前記脱保護を行う、請求項22に記載の方法。
  24. 前記アゼチジノンは、
    式:
    Figure 2008540557
    (式中、Rは、フェニル基又はベンジル基である)
    で表わされるβ−アミノアシルオキサゾリノンの環化により得られる、
    請求項22に記載の方法。
  25. 前記β−アミノアシルオキサゾリノンを、
    式:
    Figure 2008540557
    で表わされる化合物と
    式:
    Figure 2008540557
    で表わされる化合物とを反応させることで得られる、請求項25に記載の方法。
  26. 式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    は、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    Xは、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択され;そして
    ProtA−O−は、オキシメチルエーテル基、アリルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基である)
    で表わされるイミンの製造方法であって、
    式:
    Figure 2008540557
    で表わされるフェノールをホルムアルデヒド源と反応させて、次いで
    式:
    Figure 2008540557
    で表わされるアニリンとシッフ塩基を形成させて、次いで、ProtAで保護すること、を含む前記方法。
  27. ProtAはベンジル基であり、Xは臭素原子であり、そして、Rは水素原子である、請求項27に記載の方法。
  28. 式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    は、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    Xは、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択されること;そして
    ProtA−O−は、オキシメチルエーテル基、アリルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基であるが、但し、ProtA−がベンジル基である場合には、RはHであり、XはBrであり、前記化合物が固体であり、そして、95%を超える純度である)
    で表わされる化合物。
  29. は、H又はフッ化化合物であり;Xは臭素原子であり;そして、ProtA−O−は、ベンジルエーテル基又はシリルエーテル基である、請求項29に記載の化合物。
  30. 式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    Xは、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択され;
    ProtA−O−は、オキシメチルエーテル基、アリルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基であり;
    ProtB−O−は、HO−であるか、あるいは、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基、及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基であり;そして、
    Qは、窒素に結合したキラル補助基であって、前記キラル補助基は、キラル中心少なくとも一つを有する環状並びに分岐状窒素含有部分の単一鏡像体から選択される)
    で表わされる化合物。
  31. 式:
    Figure 2008540557
    (式中、Rは、フェニル基又はベンジル基である)
    で表わされる請求項31に記載の化合物。
  32. 式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    Xは、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択され;
    ProtA−O−は、オキシメチルエーテル基、アリルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基であり;
    ProtB−O−は、HO−であるか、あるいは、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基、及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基である)
    で表わされる化合物。
  33. 式:
    Figure 2008540557
    で表わされる請求項33に記載の化合物。
  34. 式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    ProtA’−O−は、オキシメチルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基であり;
    ProtB−O−は、HO−であるか、あるいは、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基、及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基であること;そして
    10及びR11は、H及び(C−C)アルキル基から独立に選択されるか、又は、R10及びR11は一緒に5−6員環を形成する)
    で表わされる化合物。
  35. 式:
    Figure 2008540557
    で表わされる、請求項35に記載の化合物。
  36. 式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    ProtA−O−は、オキシメチルエーテル基、アリルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基であり;そして
    ProtB−O−は、HO−であるか、あるいは、オキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基、及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基である)
    で表わされる化合物。
  37. 式:
    Figure 2008540557
    で表される、請求項37に記載の化合物。
  38. 式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    ProtA’−O−は、オキシメチルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノール基の保護基であり;そして
    ProtB−O−は、−OH又はオキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基、及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基である)
    で表されるフェノール型4−ビフェニリルアゼチジノンを製造する方法であって、前記方法が、
    (a)式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    Xは、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択される)
    で表される4−フェニルアゼチジン−2−オンを
    式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    10及びR11は、H及び(C−C)アルキル基から独立に選択されるか、又はR10及びR11は、一緒に5〜6員環を形成し;そして
    ProtAは、オキシメチルエーテル基、アリルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基及びシリルエーテル基から選択されるフェノールの保護基である)
    で表されるフェニル部分と反応させること、及び
    (b)ProtAをフェノール基に開裂すること、
    を含む、前記方法。
  39. 式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    及びRは、H、ハロゲン原子、−OH、及びメトキシ基から選択され;
    ProtA’−O−は、オキシメチルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノールの保護基であり;そして
    ProtB−O−は、−OH又はオキシメチルエーテル基、テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロフラニルエーテル基、メトキシシクロヘキシルエーテル基、メトキシベンジルエーテル基、シリルエーテル基、及びエステル基から選択されるベンジル型アルコール保護基である)
    で表される4−ビフェニリルアゼチジノンを製造する方法であって、
    (a)式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    H及び(C−C)アルキル基から独立に選択されるか、又はR10及びR11は、一緒に5〜6員環を形成する)
    で表される4−フェニルアゼチジン−2−オンを
    式:
    Figure 2008540557
    (式中、
    Xは、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子、トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、及びトリフルオロメタンスルホニル基から選択され;そして
    ProtA’−O−は、オキシメチルエーテル基、アリルエーテル基、三級アルキルエーテル基、ベンジルエーテル基、及びシリルエーテル基から選択されるフェノールの保護基である)
    で表されるフェニル部分と反応させること、及び
    (b)ProtAをフェノールに開裂すること、
    を含む前記方法。
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