JP2008539549A5 - - Google Patents

Claims (25)

1. イオン源における空間電荷関連現象を抑制するための方法であって、
   電子ビームをチャンバ内に導入して、前記チャンバ内のサンプル物質からイオンを生成する工程と、
   前記チャンバに抽出電圧を印加して、前記チャンバからイオンを放出させる工程と、
   電圧パルスを前記チャンバに印加して、前記チャンバ内に存在する電子空間電荷を撹乱させる工程とを含み、
   イオン化とイオン抽出とが同時に実行される、方法。
2. 前記電圧パルスの印加は、複数個の個別電圧パルスを含む周期的電圧パルスの印加を含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記個別電圧パルスは、それぞれが個別電圧間の期間の一部分であるパルス幅を有する、請求項２に記載の方法。
4. 前記周期的電圧パルスは、前記チャンバ内で生成された前記イオンからデータを取得するデータサンプリング周波数よりも高いパルス化周波数で印加される、請求項２に記載の方法。
5. 前記パルシング周波数は前記データサンプリング周波数の約２倍である、請求項４に記載の方法。
6. 前記電圧パルスのタイミングを、前記チャンバ内で生成された前記イオンからデータを取得するタイミングと同期させる工程を含む、請求項１に記載の方法。
7. 前記電圧パルスの高さを前記電子ビームの電子発生電流の関数として選択する工程を含む、請求項１に記載の方法。
8. 前記電圧パルスの高さを前記チャンバ内の圧力の関数として選択する工程を含む、請求項１に記載の方法。
9. 前記電圧パルスの高さを前記チャンバ内のイオンの質量の関数として選択する工程を含む、請求項１に記載の方法。
10. 前記電圧パルスは前記チャンバの開口の近くに配置された導電性表面に印加され、それによって脈動電位がチャンバの導電性表面とある表面との間に印加される、請求項１に記載の方法。
11. 前記導電性表面は前記チャンバの外部に存在する、請求項８に記載の方法。
12. 前記導電性表面はイオン収束レンズを含む、請求項１１に記載の方法。
13. 前記抽出電圧は一定値で印加される、請求項１に記載の方法。
14. 前記抽出電圧は、質量分析器による使用のために前記イオン出口から放出されるイオン信号を最適化する選択値に設定される、請求項１に記載の方法。
15. 前記導電性表面は電子集電極を含む、請求項１１に記載の方法。
16. 前記導電性表面は前記チャンバの内部に存在する、請求項１０に記載の方法。
17. 前記導電性表面は反射電極を含む、請求項１０に記載の方法。
18. 前記電圧パルスの印加は、前記電子ビームのパルス化を含む、請求項１に記載の方法。
19. 前記電圧パルスは前記チャンバの壁部に印加され、それによって脈動電位が前記壁部と前記チャンバ内に配置された導電性表面との間に印加される、請求項１に記載の方法。
20. 前記電圧パルスの印加および前記抽出電圧の印加は協働して、イオンの自己振動が減少していることを特徴とする実質的に連続的なイオンビームを生成する、請求項１に記載の方法。
21. 前記電子ビームのパルス化を、前記チャンバ内で生成された前記イオンからデータを取得するタイミングと同期させる工程をさらに含む請求項１８に記載の方法。
22. チャンバと、
    電子ビームを前記チャンバ内に導入するための電子源と、
    抽出電圧を前記チャンバに印加して、前記チャンバからイオンを放出させるための手段と、
    前記チャンバに電圧パルスを印加して、前記チャンバ内に存在する電子空間電荷を撹乱させる手段とを含み、
    前記抽出電圧を印加する手段と、前記電圧パルスを印加する手段とは、イオン化とイオン抽出とを同時にかつ連続的に提供する、イオン化装置。
23. 前記電圧パルス印加手段は、電圧源と、前記電圧源に連結された前記チャンバの近くに配置された導電性表面とを含み、前記導電性表面は前記チャンバの外部もしくは内部に配置されているか、または前記チャンバの一部分である、請求項２２に記載の装置。
24. 前記電圧パルス印加手段は、前記電圧源を制御するための手段を含む、請求項２２に記載の装置。
25. 前記チャンバ内で生成された前記イオンからデータを取得するデータサンプリング周波数と、前記電子ビームの電子発生電流と、前記チャンバ内の圧力と、前記チャンバ内のイオンの質量と、前記のうちの２つまたはそれ以上とからなる群から選択された変数に基づいて、前記電圧パルス印加手段を制御するための手段をさらに含む、請求項２２に記載の装置。