JP2008535260A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008535260A5 JP2008535260A5 JP2008504252A JP2008504252A JP2008535260A5 JP 2008535260 A5 JP2008535260 A5 JP 2008535260A5 JP 2008504252 A JP2008504252 A JP 2008504252A JP 2008504252 A JP2008504252 A JP 2008504252A JP 2008535260 A5 JP2008535260 A5 JP 2008535260A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- pulse
- specific
- output light
- gas discharge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003595 spectral Effects 0.000 claims 10
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims 7
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims 7
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 1
Claims (11)
- レーザ出力光パルスビームのスペクトル品質を微調整するようにされた線狭化ガス放電レーザシステムであって、
発振キャビティと、
レーザ媒体ガスを収容するチャンバハウジングを含む前記発振キャビティ内のレーザチャンバと、
1つの端子が前記チャンバハウジングと1対のガス放電電極の第1の電極とに電気的に接続された少なくとも1つのピーキングコンデンサと、
前記少なくとも1つのピーキングコンデンサの反対の端子に接続され、かつ前記チャンバハウジングから絶縁された前記ガス放電電極の対の第2の電極と、
前記少なくとも1つのピーキングコンデンサが前記チャンバハウジングに電気的に接続される電流戻り経路と、
を含み、
前記少なくとも1つのピーキングコンデンサの前記1つの端子、前記ガス放電電極の対の前記第1の電極、前記レーザ媒体ガス、該ガス放電電極の対の前記第2の電極、前記電流戻り経路、及び該少なくとも1つのピーキングコンデンサの前記第2の端子は、逆流誘導ループを形成し、該逆流誘導ループは、所定のレーザシステムに対して該特定の逆流誘導ループに固有のインダクタンス値を有し、
前記特定の逆流誘導ループに対する前記特定の逆流誘導ループインダクタンス値を変えるための機構を含むスペクトル品質調整機構、
を更に含むことを特徴とするシステム。 - 前記発振キャビティ内の線狭化モジュール、
を更に含み、
前記特定の逆流ループインダクタンスの前記変化は、特定のガス放電レーザシステムに対するガス放電の持続時間と、該特定のレーザシステムによって生成されたレーザ出力光パルスビームのスペクトル品質に及ぼす前記線狭化モジュールの影響とを調整する、
ことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 前記スペクトル品質は、帯域幅である、
ことを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 前記スペクトル品質調整機構は、特定のレーザシステムに対する前記逆流誘導ループのサイズを変える機構を含むことを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記少なくとも1つのピーキングコンデンサの前記反対の端子に電気的に接触した高電圧バス、
を更に含み、
前記スペクトル品質調整機構は、前記少なくとも1つのピーキングコンデンサの前記反対の端子からの前記高電圧バスの変位を制御する変位制御機構を含む、
ことを特徴とする請求項4に記載の装置。 - 前記スペクトル品質調整機構は、製造時に又はレーザシステム作動寿命中に現場で必要とされる場合に、特定のレーザシステムに対する前記特定のスペクトル品質を調節するように手動で作動される、
ことを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 前記スペクトル品質調整機構は、スペクトル品質測定システムの出力部を入力部として有するコントローラのフィードバック制御に基づいて前記特定の逆流誘導ループインダクタンスを調節する能動制御システムを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 特定のパルス繰返し数でレーザ出力光パルスビームパルスのパルスエネルギを制御するようにされた高繰返し数ガス放電レーザシステムであって、
レーザガス循環回転送風機と、
所定のレーザ出力光パルスビームパルス繰返し数に対する適切なアークなし送風機速度の現在適用可能な範囲内で前記送風機を作動させる送風機回転速度コントローラと、
前記パルス繰返し数と走査ウィンドウパルス数を表す信号とに基づいて、アークなし送風機速度の前記現在適用可能な範囲内の出力送風機回転速度を供給するパルスエネルギコントローラと、
を含むことを特徴とするシステム。 - 前記送風機回転速度は、複数の露光ウィンドウ及びレーザパルス繰返し数関連フーリエ変換ヌル点のそれぞれの1つ内に送風機速度高調波関連線量移行を整列させるように選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項8に記載の装置。 - 送風機速度が、整数の外乱波形を露光ウィンドウ持続時間の期間内に置くように選択されている、
ことを更に含むことを特徴とする請求項8に記載の装置。 - 特定のパルス繰返し数でレーザ出力光パルスビームパルスのパルスエネルギを制御するようにされた高繰返し数ガス放電レーザシステムであって、
レーザガス循環ファンと、
少なくとも1つの先行レーザ出力光パルスビームパルスに対する測定レーザ出力光パルスビームパルスエネルギに少なくとも部分的に基づいて、レーザ出力光パルスビーム出力パルスに対するパルスエネルギ制御信号を生成するパルスエネルギコントローラと、
前記レーザ出力光パルスビームパルスの位相推定値を生成するガス循環ファン位相推定器、
を含むパルスエネルギ制御信号補正機構と、
前記位相推定値と選択高調波モードとに基づいて前記パルスに対する補正値を計算する補正コンピュータと、
を含むことを特徴とするシステム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/095,293 | 2005-03-31 | ||
US11/095,293 US7471708B2 (en) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | Gas discharge laser output light beam parameter control |
PCT/US2006/011305 WO2006105101A2 (en) | 2005-03-31 | 2006-03-27 | Gas discharge laser output light beam parameter control |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008535260A JP2008535260A (ja) | 2008-08-28 |
JP2008535260A5 true JP2008535260A5 (ja) | 2009-05-14 |
JP5124442B2 JP5124442B2 (ja) | 2013-01-23 |
Family
ID=37054019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008504252A Expired - Fee Related JP5124442B2 (ja) | 2005-03-31 | 2006-03-27 | ガス放電レーザ出力光のビームパラメータ制御 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7471708B2 (ja) |
EP (1) | EP1867014B1 (ja) |
JP (1) | JP5124442B2 (ja) |
WO (1) | WO2006105101A2 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7778302B2 (en) * | 2005-11-01 | 2010-08-17 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7920616B2 (en) * | 2005-11-01 | 2011-04-05 | Cymer, Inc. | Laser system |
JP5506194B2 (ja) * | 2005-11-01 | 2014-05-28 | サイマー インコーポレイテッド | レーザシステム |
US20090296758A1 (en) * | 2005-11-01 | 2009-12-03 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7643529B2 (en) | 2005-11-01 | 2010-01-05 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7630424B2 (en) * | 2005-11-01 | 2009-12-08 | Cymer, Inc. | Laser system |
US20090296755A1 (en) * | 2005-11-01 | 2009-12-03 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7885309B2 (en) * | 2005-11-01 | 2011-02-08 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7715459B2 (en) * | 2005-11-01 | 2010-05-11 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7999915B2 (en) * | 2005-11-01 | 2011-08-16 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7746913B2 (en) | 2005-11-01 | 2010-06-29 | Cymer, Inc. | Laser system |
KR101742715B1 (ko) * | 2008-10-21 | 2017-06-01 | 사이머 엘엘씨 | 2 챔버 가스 방전 레이저의 레이저 제어 방법 및 장치 |
US7903701B2 (en) * | 2009-03-27 | 2011-03-08 | Electro Scientific Industries, Inc. | Intracavity harmonic generation using a recycled intermediate harmonic |
JP5755068B2 (ja) * | 2011-07-27 | 2015-07-29 | 株式会社小松製作所 | 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整装置 |
CN102810810A (zh) * | 2012-03-02 | 2012-12-05 | 中国科学院光电研究院 | 单腔双电极放电腔及准分子激光器 |
US8811440B2 (en) * | 2012-09-07 | 2014-08-19 | Asml Netherlands B.V. | System and method for seed laser mode stabilization |
JP5832581B2 (ja) * | 2014-04-28 | 2015-12-16 | 株式会社小松製作所 | 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整装置 |
US9261794B1 (en) * | 2014-12-09 | 2016-02-16 | Cymer, Llc | Compensation for a disturbance in an optical source |
US9966725B1 (en) | 2017-03-24 | 2018-05-08 | Cymer, Llc | Pulsed light beam spectral feature control |
US11349273B2 (en) | 2018-01-17 | 2022-05-31 | Cymer, Llc | Apparatus for tuning discharge performance in a laser chamber |
WO2021071681A1 (en) * | 2019-10-11 | 2021-04-15 | Cymer, Llc | Conductive member for discharge laser |
CN116636100A (zh) * | 2020-12-22 | 2023-08-22 | 西默有限公司 | 气体放电室鼓风机的能耗降低 |
CN113783098B (zh) * | 2021-07-23 | 2023-02-28 | 北京科益虹源光电技术有限公司 | 一种激光器放电腔电极损耗可补偿结构 |
CN115357089A (zh) * | 2021-11-08 | 2022-11-18 | 神盾股份有限公司 | 自动功率控制电路及方法 |
Family Cites Families (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US516847A (en) * | 1894-03-20 | Means for regulating alternating currents | ||
US1892204A (en) * | 1929-03-02 | 1932-12-27 | Rca Corp | Inductance coil |
US1913978A (en) * | 1929-06-14 | 1933-06-13 | Rca Corp | Inductance and capacity |
US1836808A (en) * | 1929-07-31 | 1931-12-15 | Western Electric Co | Inductance coil |
US2410222A (en) * | 1944-02-17 | 1946-10-29 | Rca Corp | Tuning means |
US3582808A (en) * | 1967-07-03 | 1971-06-01 | Hoffman Electronics Corp | Double-tuned circuit |
US3633127A (en) * | 1969-11-17 | 1972-01-04 | Avco Corp | Pulsed laser device with improved discharge circuit |
US4112392A (en) * | 1975-09-17 | 1978-09-05 | Andersson Hans E B | Method and apparatus for producing laser pulses with high reproducibility |
DE3323614A1 (de) * | 1983-06-30 | 1985-01-03 | Kraftwerk Union AG, 4330 Mülheim | Anregungskreis fuer ein te-hochenergielasersystem |
US4611327A (en) * | 1983-11-25 | 1986-09-09 | Amoco Corporation | Gas transport laser system |
DE3705165A1 (de) * | 1986-02-18 | 1987-08-20 | Mitsubishi Electric Corp | Mit entladungserregung arbeitende laservorrichtung fuer kurze impulse |
JPH0754861B2 (ja) * | 1986-05-14 | 1995-06-07 | 株式会社東芝 | ガスレ−ザ発振装置 |
JPS62277782A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-02 | Nec Corp | パルスガスレ−ザ装置 |
JPS62192658U (ja) * | 1986-05-27 | 1987-12-08 | ||
EP0495535B1 (en) * | 1987-03-19 | 1995-07-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Laser apparatus |
JPH02103972A (ja) * | 1988-10-13 | 1990-04-17 | Toshiba Corp | パルスレーザ発振装置 |
DD276952A1 (de) * | 1988-11-11 | 1990-03-14 | Akad Wissenschaften Ddr | Verfahren zur schnellen laserimpulsenergiesteuerung im folgefrequenzbetrieb von gaslasern, insbesondere excimerlasern |
US4972425A (en) * | 1989-08-30 | 1990-11-20 | Hughes Aircraft Company | Laser frequency stabilization |
JP2819865B2 (ja) * | 1991-04-08 | 1998-11-05 | 日新電機株式会社 | 高電圧パルス発生装置 |
US6005880A (en) * | 1997-02-14 | 1999-12-21 | Lambda Physik Gmbh | Precision variable delay using saturable inductors |
US6020723A (en) * | 1997-02-14 | 2000-02-01 | Lambada Physik Gmbh | Magnetic switch controlled power supply isolator and thyristor commutating circuit |
US6128323A (en) * | 1997-04-23 | 2000-10-03 | Cymer, Inc. | Reliable modular production quality narrow-band high REP rate excimer laser |
US6330261B1 (en) * | 1997-07-18 | 2001-12-11 | Cymer, Inc. | Reliable, modular, production quality narrow-band high rep rate ArF excimer laser |
US6240112B1 (en) * | 1997-12-15 | 2001-05-29 | Cymer, Inc. | High pulse rate pulse power system with liquid cooling |
US6757315B1 (en) * | 1999-02-10 | 2004-06-29 | Lambda Physik Ag | Corona preionization assembly for a gas laser |
US6785316B1 (en) * | 1999-08-17 | 2004-08-31 | Lambda Physik Ag | Excimer or molecular laser with optimized spectral purity |
JP3552979B2 (ja) * | 1999-09-16 | 2004-08-11 | ウシオ電機株式会社 | ArFエキシマレーザ装置 |
US6765946B2 (en) * | 2000-01-25 | 2004-07-20 | Cymer, Inc. | Fan for gas discharge laser |
US6392743B1 (en) * | 2000-02-29 | 2002-05-21 | Cymer, Inc. | Control technique for microlithography lasers |
WO2001084678A2 (en) * | 2000-04-18 | 2001-11-08 | Lambda Physik Ag | Stabilization technique for high repetition rate gas discharge lasers |
US6862307B2 (en) * | 2000-05-15 | 2005-03-01 | Lambda Physik Ag | Electrical excitation circuit for a pulsed gas laser |
US6914919B2 (en) * | 2000-06-19 | 2005-07-05 | Cymer, Inc. | Six to ten KHz, or greater gas discharge laser system |
JP3755577B2 (ja) * | 2000-10-10 | 2006-03-15 | ウシオ電機株式会社 | 露光用ArF、KrFエキシマレーザ装置及びフッ素レーザ装置 |
US6690704B2 (en) * | 2001-04-09 | 2004-02-10 | Cymer, Inc. | Control system for a two chamber gas discharge laser |
-
2005
- 2005-03-31 US US11/095,293 patent/US7471708B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-03-27 EP EP06748813.0A patent/EP1867014B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-03-27 WO PCT/US2006/011305 patent/WO2006105101A2/en active Application Filing
- 2006-03-27 JP JP2008504252A patent/JP5124442B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008535260A5 (ja) | ||
JP5124442B2 (ja) | ガス放電レーザ出力光のビームパラメータ制御 | |
JP2004526334A5 (ja) | ||
ES2654328T3 (es) | Generador en forma de onda de radio frecuencia programable para un sincrociclotrón | |
US7518787B2 (en) | Drive laser for EUV light source | |
US10816905B2 (en) | Wavelength stabilization for an optical source | |
US7308013B2 (en) | Excimer or molecular fluorine laser system with precision timing | |
KR101742715B1 (ko) | 2 챔버 가스 방전 레이저의 레이저 제어 방법 및 장치 | |
WO2011046804A2 (en) | Digital pulse-width-modulation control of a radio frequency power supply for pulsed laser | |
US20240039228A1 (en) | Reducing energy consumption of a gas discharge chamber blower | |
US4856012A (en) | Apparatus for controlling light output of a pulse-excited laser oscillator | |
JP6845255B2 (ja) | レーザ装置 | |
JP4570562B2 (ja) | 半導体レーザの駆動制御装置及び駆動制御方法 | |
JP3722200B2 (ja) | 放電励起ガスレーザ装置の出力制御方法及び放電励起ガスレーザ装置 | |
JP4312035B2 (ja) | 電源装置および高電圧パルス発生装置並びに放電励起式ガスレーザ装置 | |
WO2021178091A1 (en) | Control system for a light source | |
NL8203305A (nl) | Inrichting voor het voortbrengen van een laser-actieve toestand in een snelle sub-sonische stroming. | |
JPS63229789A (ja) | 高繰返しパルスレ−ザ発振装置 | |
JP2005116818A (ja) | プラズマ発生装置 | |
JPH04326584A (ja) | 放電励起ガスレーザ装置 | |
Zheng et al. | A four kHz repetition rate compact TEA CO2 laser | |
JPH03194991A (ja) | エキシマレーザ装置 | |
WO2022231784A1 (en) | Electronic module for a magnetic switching network to produce a pulse of the pulsed output light beam | |
JP4397785B2 (ja) | 放電励起式パルス発振ガスレーザ装置 | |
RU2003120867A (ru) | Способ возбуждения импульсных лазеров на самоограниченных переходах атомов металлов, работающих в режиме саморазогрева и устройство для его осуществления |