JP2008532328A - 半導体材料の少なくとも1つの厚い層を含むヘテロ構造の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
a)一般に異なる材料で構成された2枚の略バルク基板と、支持基板上に位置する有効膜とを接触させることによって結合するステップであって、そのアセンブリ全体がヘテロ構造を形成するステップと、
b)高温熱処理にかけることによって、これら2枚の基板の結合界面を強化し、それによって前記界面の脆弱性を低下させ、したがって前記有効膜の層間剥離と機械的および/または電気的品質の欠陥の問題が回避され、あるいは最低限でも制限されるステップと、
c)薄膜が構成されるように、支持基板上に位置する有効膜の厚さを減じるステップと
を含む。
・用いられる熱処理中に、複合体構造によって保存される機械的エネルギー;
・複合体構造を構成する材料間の熱膨張係数の差;および
・使用される基板の厚さ
に依存することも知られている。
*転写された薄膜の厚さは、約100から300オングストロームの間であり、好ましくは150から250Åの間である。
*転写された薄膜上に堆積された膜の厚さは、1000から5000Åの間である。
*第2の材料の薄膜を転写するステップは、化学種の注入によって、ドナーウェハーに、転写されることになる薄膜の境界を有する脆弱ゾーンを生成すること、このドナーウェハーを支持体に接触させること、およびこの接触操作後に、ドナーウェハーの残りの部分から薄膜を剥離することが可能な応力を加えることにある、サブステップを含む。
*この方法は、膜を堆積するために、剥離後に薄膜の自由表面を調製する追加のステップを含む。
*堆積ステップは、エピタキシーによって実施される。
*第1の材料は、絶縁体である。
*第1の材料は石英であり、一方、第2の材料はシリコンである。
*第1の材料は半導体である。
*第1の材料はシリコンであり、一方、第2の材料はゲルマニウムである。
*前記熱処理は、第1および第2の材料の熱膨張係数の差に起因して、転写された薄膜に許容可能なレベルの欠陥を発生させる可能がある。
膜22の厚さ 臨界温度
2000Å 750℃
500Å 950℃
200Å 1100℃
Claims (13)
- 第1の材料で作製された支持体(10)上への、前記第1の材料とは異なる第2の材料で作製された単結晶薄膜(22)の転写と、前記薄膜および前記支持体の間の結合界面(12)を少なくとも強化するための所定の熱処理とを含む、マイクロエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス、オプティクスなどに利用される少なくとも1種の半導体材料を含む構造の製作方法であって、前記薄膜の厚さ(e1)は、前記支持体および転写された薄膜を含むアセンブリに対して前記熱処理により加えられた応力が前記アセンブリを無傷のまま残すように、前記第1および第2の材料の熱膨張係数の差に応じてかつ前記所定の熱処理のパラメータに応じて選択されること、および前記薄膜上に、単結晶状態にある前記第2の材料の追加の厚さの膜(22’)を堆積する追加のステップを含むことを特徴とする方法。
- 前記転写された薄膜の厚さ(e1)は、約100から300Åの間、好ましくは150から250Åの間であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記転写された薄膜(22)上に堆積された、膜(22’)の厚さ(e2)は、1000から5000Åの間であることを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記第2の材料の薄膜(22)を転写するステップは、化学種の注入によってドナーウェハー(20)に、転写されることになる薄膜の境界を有する脆弱ゾーン(21)を生成すること、前記ドナーウェハーを前記支持体に接触させること、および前記接触操作後に、前記ドナーウェハーの残りの部分から薄膜を剥離することが可能な応力を加えることにあるサブステップを含むことを特徴とする請求項1から3の一項に記載の方法。
- 前記膜(22’)を堆積するために、剥離後に、前記薄膜(22)の自由表面を調製する追加のステップを含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記堆積ステップは、エピタキシーによって実施されることを特徴とする請求項1から5の一項に記載の方法。
- 前記第1の材料は、絶縁体であることを特徴とする請求項1から6の一項に記載の方法。
- 前記第1の材料は、石英であることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記第2の材料は、シリコンであることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記第1の材料は、半導体であることを特徴とする請求項1から6の一項に記載の方法。
- 前記第1の材料は、シリコンであることを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記第2の材料は、ゲルマニウムであることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記熱処理は、前記第1および第2の材料の熱膨張係数の差に起因して、前記転写された薄膜(22)に許容可能なレベルの欠陥を発生させる可能性があることを特徴とする請求項1から12の一項に記載の方法。
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