JP2008530790A - 低電力動作において高い読み出しマージンを有する相変化メモリセル - Google Patents
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Abstract
メモリセル素子が、第1電極、該第1電極に隣接しているヒータ、該ヒータに隣接している相変化材料、該相変化材料に隣接している第2電極、および、該相変化材料に隣接している、相変化材料を熱によって絶縁するための絶縁性材料を含んでいる。
Description
〔関連出願の相互参照〕
本出願は、アメリカ特許出願番号11/054、853明細書(代理人整理番号1331.187.101、発明の名称「低電力動作において高い読み出しマージンを有する相変化メモリセル」、出願日:2005年2月10日)の一部継続出願であり、この明細書を本願に引用して援用する。
本出願は、アメリカ特許出願番号11/054、853明細書(代理人整理番号1331.187.101、発明の名称「低電力動作において高い読み出しマージンを有する相変化メモリセル」、出願日:2005年2月10日)の一部継続出願であり、この明細書を本願に引用して援用する。
〔背景〕
本発明は、相変化メモリに関するものであり、特に、相変化材料の熱放散を低減するようなホスト材料に隣接した相変化材料を備えた相変化メモリセルのシステムおよびその方法に関するものである。相変化材料は、少なくとも2つの異なる状態を示す。このため、相変化材料は、メモリセルにおいて用いられ、データのビットを記憶する。相変化材料の状態は、アモルファス状態および結晶状態と呼ばれている。これらの状態は、アモルファス状態が通常、結晶状態よりも高い抵抗値を示すという点が異なっている。通常、アモルファス状態は、より不規則な原子構造を含んでおり、一方、結晶状態は、規則的な格子である。
本発明は、相変化メモリに関するものであり、特に、相変化材料の熱放散を低減するようなホスト材料に隣接した相変化材料を備えた相変化メモリセルのシステムおよびその方法に関するものである。相変化材料は、少なくとも2つの異なる状態を示す。このため、相変化材料は、メモリセルにおいて用いられ、データのビットを記憶する。相変化材料の状態は、アモルファス状態および結晶状態と呼ばれている。これらの状態は、アモルファス状態が通常、結晶状態よりも高い抵抗値を示すという点が異なっている。通常、アモルファス状態は、より不規則な原子構造を含んでおり、一方、結晶状態は、規則的な格子である。
上記相変化材料の相変化を、可逆的に誘導することができる。したがって、上記メモリは、温度変化に応じて、アモルファス状態から結晶状態に、およびその逆に変化する。該相変化材料の温度を、様々な方法によって変えることができる。例えば、該相変化材料へのレーザー照射、該相変化材料を介した電流の励振、あるいは、該相変化材料に隣接した抵抗ヒータを介した電流または電圧の供給が可能である。これらの方法のいずれにおいても、該相変化材料の加熱が制御可能であることによって、該相変化材料内における相変化が制御可能となる。
相変化メモリが相変化材料からなる複数のメモリセルを備えたメモリアレイを含んでいる場合、該相変化材料の記憶状態を用いてデータを記憶するように、該相変化メモリをプログラムすることができる。このような相変化メモリ素子におけるデータを読み出し、書き込むための1つの方法が、該相変化材料に供給される電流パルスおよび/または電圧パルスを制御することである。電流および電圧のレベルは、通常、各メモリセルの相変化材料内に生じた温度に応じたものである。各メモリセルに必要な電力量を最小化するために、相変化材料から漏れる熱の量を最小限に抑える必要がある。
これらの理由および他の理由のために、本発明が必要になる。
〔要約〕
本発明の一実施形態は、メモリセル素子を提供する。このメモリセル素子は、第1電極、該第1電極に隣接しているヒータ、該ヒータに隣接している相変化材料、該相変化材料に隣接している第2電極、および、該相変化材料を熱によって絶縁するための、該相変化材料に隣接している絶縁性材料を含んでいる。
本発明の一実施形態は、メモリセル素子を提供する。このメモリセル素子は、第1電極、該第1電極に隣接しているヒータ、該ヒータに隣接している相変化材料、該相変化材料に隣接している第2電極、および、該相変化材料を熱によって絶縁するための、該相変化材料に隣接している絶縁性材料を含んでいる。
〔図面の簡単な説明〕
本発明をさらに理解するために、図面を添付する。これらの図面は、本明細書に組み込まれ、その一部を構成する。該図面は、本発明の実施形態を例証し、本明細書における記載と共に本発明の原理を説明するためのものである。本発明の他の実施形態、および、本発明の意図する多くの利点については、以下の詳細な説明を参照することによって、より理解されるようになる。それに従って、本発明の意図が容易に認識されるだろう。該図面の構成要素は、必ずしも、互いに相対的な縮尺とはなっていない。類似の箇所には、同じ参照符号を付した。
本発明をさらに理解するために、図面を添付する。これらの図面は、本明細書に組み込まれ、その一部を構成する。該図面は、本発明の実施形態を例証し、本明細書における記載と共に本発明の原理を説明するためのものである。本発明の他の実施形態、および、本発明の意図する多くの利点については、以下の詳細な説明を参照することによって、より理解されるようになる。それに従って、本発明の意図が容易に認識されるだろう。該図面の構成要素は、必ずしも、互いに相対的な縮尺とはなっていない。類似の箇所には、同じ参照符号を付した。
図1は、メモリセル素子を示すブロック図である。
図2は、相変化メモリセルを示す断面図である。
図3は、リセット動作中の、図示した温度区分領域を有する相変化メモリセルを示す断面図である。
図4は、本発明の一実施形態にかかる、側方方向から取り囲んでいる絶縁性材料を有する相変化メモリセルを示す断面図である。
図5は、本発明の他の実施形態にかかる、側方方向から取り囲んでいる絶縁性材料を有する相変化メモリセルを示す断面図である。
図6は、リセットパルス電圧およびリセットパルス電流に応じて読取り動作の間に得られたセル抵抗を示すグラフである。
図7は、本発明の他の実施形態にかかる、側方方向から取り囲む拡散障壁および絶縁性材料を有する、ヒータ相変化メモリセルを示す断面図である。
図8は、前処理されたウェハの一実施形態を示す断面図である。
図9は、上記前処理されたウェハ、第1絶縁材層、停止層、および、第2絶縁材層の一実施形態を示す断面図である。
図10は、上記第2絶縁材層と、停止層と、第1絶縁材層とをエッチングした後の、上記前処理されたウェハ、第1絶縁材層、停止層、および、第2絶縁材層の一実施形態を示す断面図である。
図11は、上記前処理されたウェハ、第1絶縁材層、停止層、第2絶縁材層、および、絶縁性材料層の一実施形態を示す断面図である。
図12は、上記前処理されたウェハ、第1絶縁材層、停止層、第2絶縁材層、および、エッチング後の絶縁性材料層の一実施形態を示す断面図である。
図13は、上記前処理されたウェハ、第1絶縁材層、停止層、第2絶縁材層、絶縁性材料層、および、エッチング後の拡散障壁層の一実施形態を示す断面図である。
図14は、前処理されたウェハ、第1絶縁材層、停止層、第2絶縁材層、絶縁性材料層、拡散障壁層、および、ヒータ材料層の一実施形態を示す断面図である。
図15は、上記前処理されたウェハ、第1絶縁材層、停止層、絶縁性材料層、拡散障壁層、および、平坦化処理後のヒータ材料層の一実施形態を示す断面図である。
図16は、上記前処理されたウェハ、第1絶縁材層、停止層、絶縁性材料層、拡散障壁層、ヒータ材料層、相変化材料層、および、電極材層の一実施形態を示す断面図である。
図17は、上記前処理されたウェハ、第1絶縁材層、停止層、絶縁性材料層、拡散障壁層、ヒータ材料層、相変化材料層、第2電極、および、上記電極材層および上記相変化材料層をエッチングした後のマスク層の一実施形態を示す断面図である。
図18は、本発明の他の実施形態にかかる側方方向から取り囲む拡散障壁および絶縁性材料を有する、ヒータ相変化メモリセルを示す断面図である。
図19は、前処理されたウェハの一実施形態を示す断面図である。
図20は、上記前処理されたウェハのプラグをエッチングした後の前処理されたウェハの一実施形態を示す断面図である。
図21は、上記プラグの下地膜をエッチングした後の前処理されたウェハの一実施形態を示す断面図である。
図22は、上記前処理されたウェハおよび絶縁性材料層の一実施形態を示す断面図である。
図23は、上記前処理されたウェハ、および、エッチング後の絶縁性材料層の一実施形態を示す断面図である。
図24は、上記前処理されたウェハ、絶縁性材料層、および、エッチング後の拡散障壁層の一実施形態を示す断面図である。
図25は、上記前処理されたウェハ、絶縁性材料層、拡散障壁層、および、ヒータ材料層の一実施形態を示す断面図である。
図26は、平坦化処理後の、上記前処理されたウェハ、絶縁性材料層、拡散障壁層、および、ヒータ材料層の一実施形態を示す断面図である。
図27は、上記前処理されたウェハ、絶縁性材料層、拡散障壁層、ヒータ材料層、相変化材料層、および、電極材層の一実施形態を示す断面図である。
図28は、上記前処理されたウェハ、絶縁性材料層、拡散障壁層、ヒータ材料層、相変化材料層、第2電極、および、上記電極材層および該相変化材料層をエッチングした後のマスク層の一実施形態を示す断面図である。
〔詳細な説明〕
以下の詳細な説明では、添付図面を参照する。これらの添付図面は、本発明の一部を構成するものであり、本発明を実施しうる具体的な実施形態を例証として示している。これに関して、説明する図の方向について、例えば「上端」、「下端」、「前」、「後ろ」、「先端」、「後端」などといった方向を示す用語を用いる。本発明の実施形態の構成要素は多くの異なる方向に配置できるので、方向を示す用語は、説明するために用いられ、決して限定するためではない。他の実施形態を用い、構造的または論理的な変更を加えても、本発明の要旨を逸脱するものではない。したがって、以下の詳細な説明は、限定的な意味に解釈されるべきではなく、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲によって規定される。
以下の詳細な説明では、添付図面を参照する。これらの添付図面は、本発明の一部を構成するものであり、本発明を実施しうる具体的な実施形態を例証として示している。これに関して、説明する図の方向について、例えば「上端」、「下端」、「前」、「後ろ」、「先端」、「後端」などといった方向を示す用語を用いる。本発明の実施形態の構成要素は多くの異なる方向に配置できるので、方向を示す用語は、説明するために用いられ、決して限定するためではない。他の実施形態を用い、構造的または論理的な変更を加えても、本発明の要旨を逸脱するものではない。したがって、以下の詳細な説明は、限定的な意味に解釈されるべきではなく、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲によって規定される。
図1は、メモリセル素子5を示すブロック図である。メモリセル素子5は、書き込みパルス発生器6、分配回路7、メモリセル8a、8b、8c、8d、および、センスアンプ9を含んでいる。一実施形態では、メモリセル8a〜8dは、メモリ材料のアモルファス相の結晶相への変化に基づいた相変化メモリセルである。一実施形態では、書き込みパルス発生器6が、分配回路7を介してメモリセル8a〜8dに供給される制御可能な電流パルスまたは電圧パルスを生成する。また、一実施形態では、分配回路7は、該メモリへの直流パルスまたは電圧パルスを供給して制御できる複数のトランジスタであり、他の実施形態では、該相変化メモリセルに隣接したヒータへの直流パルスまたは電圧パルスを制御できる複数のトランジスタである。
一実施形態では、メモリセル8a〜8dが、温度変化の影響を受けてアモルファス状態から結晶状態に、または、結晶状態からアモルファス状態に変わる相変化材料から形成されている。これにより、結晶化度は、メモリセル素子5内のデータを記憶するための、ビット値「0」および「1」に割当てられた少なくとも2つの記憶状態を規定する。メモリセル8a〜8dのビット状態の電気抵抗値は、著しく異なっている。該アモルファス状態での相変化材料の抵抗値は、該結晶状態での抵抗値よりも著しく高い。このようにして、あるメモリセル8a〜8dに割当てられるビット値を決定できるように、センスアンプ9がセル抵抗を読み出すことができる。
メモリセル素子5内のメモリセル8a〜8dをプログラムするために、書き込みパルス発生器6が、対象のメモリセル中の相変化材料を加熱するための電流パルスまたは電圧パルスを生成する。一実施形態では、書き込みパルス発生器6が、分配回路7に供給されて該対象のメモリセル8a〜8dに分配された、適切な電流パルスまたは電圧パルスを生成する。該電流パルスまたは電圧パルスの振幅および持続期間は、メモリセルがセットされているかリセットされているかに応じて制御される。通常、メモリセルの「セット」動作では、対象のメモリセルの相変化材料を、該相変化材料の結晶化温度よりも高い温度で(しかし、該材料の融点よりも低く)、上記結晶状態を得るには十分長い間、加熱する。通常、メモリセルの「リセット」動作では、該対象のメモリセルの相変化材料を、該材料の融点よりも高い温度で急速加熱し、次に、該材料を急冷することにより、上記アモルファス状態が得られる。
図2は、active‐in‐viaタイプの典型的な相変化メモリセル10を示す断面図である。相変化メモリセル10は、第1電極12、相変化材料14、第2電極16、および、絶縁材料18を含んでいる。相変化材料14は、絶縁材18によって、側方方向から完全に囲まれており、電流経路と、それゆえに相変化材料14における相変化領域の位置が規定されている。相変化材料14をセットおよびリセットするために、選択素子(例えば、トランジスタまたはダイオードといった能動素子)を第1電極12に結合し、第1電極12(つまり相変化材料14)への電流または電圧の印加を制御してもよい。
このようにして、相変化メモリセル10のセット動作中、相変化材料14にセット電流パルスまたはセット電圧パルスが選択的に用いられるようになり、これにより、該相変化材料をその結晶化温度よりも高く(しかし、その融点よりも低く)加熱することができる。このようにして、相変化材料14は、該相変化材料のセット動作中にその結晶状態になる。相変化メモリセル10のリセット動作中、上記選択素子によってリセット電流パルスおよび/またはリセット電圧パルスは選択的に用いられるようになり、第1電極12を介して相変化材料14に送られる。相変化材料14は、該リセット電流または該リセット電圧によって該相変化材料の融点よりも高く急速に加熱され、次に、急速に冷却され、アモルファス状態に達する。
リセット動作中、相変化材料14は、通常、加熱され始め、相変化材料14が熱によって自己分離するので、セルの中心から位相を変え始める(融解)。しかし、生じた熱は、通常は二酸化珪素などの絶縁材料である絶縁材料18に拡散してしまう。したがって、該中心の著しい過熱を妨げる低電力リセット動作では、相変化材料14の端部において、融解が不完全であるために結晶状態のままである大量の環状の結晶が位置している。このような不完全に融解された領域22を、図3に示す。該不完全に融解された領域は、相変化材料14中の十分に融解された領域20を取り囲んでいる。このような構成において、リセットに続いて開始される読取り動作は、該領域22において低抵抗分流経路を供給する。このことは、高抵抗状態においてセンスアンプ9によって検出される読み出し信号を隠してしまう。
図4は、本発明の一実施形態にかかる典型的な相変化メモリセル30を示す断面図である。相変化メモリセル30は、第1電極32、相変化材料34、第2電極36、および、絶縁材料38を含んでいる。さらに、相変化メモリセル30は、相変化材料34に隣接した絶縁性材料40を含んでいる。一実施形態では、絶縁性材料40は、熱伝導率/拡散率が低くなるように選択され、これにより、相変化材料34の端部からの熱放散が低減される。
一実施形態では、相変化メモリセル30は、リセットパルスが通常相変化材料34の融解をその中心において開始し、次に、この融解の最前部が外側に移動するような、active‐in‐via(AIV)セルである。相変化メモリセル30の一実施形態では、絶縁性材料40は、相変化材料34の外縁を取り囲んでいる。これにより、取り囲んでいる絶縁性材料40によって断熱が改善されたことにより、相変化材料34の端部からの熱放散が低減される。このようにして、相変化メモリ素子10とは異なって、低電力リセット動作中の相変化材料34の融解が、その端部の外に達するようになり、これにより、前の実施形態において見られた大量の環状の結晶を回避できる。
最も外側の部分の相変化材料34が融解され(続いて、急冷中にアモルファス化され)るので、全体のセル抵抗が非常に高くなり、リセットに続いて開始された読取り動作によって、大きい読み出し信号が供給される。読み出し信号は、センスアンプ9により検出される。このようにして、リセット動作中に適切な読み出しマージンを得るために、入力をより少なくする必要がある。これにより、絶縁性材料40を有しないセルよりもリセットパルス信号を低減することができ、それでもなお、セルの断面全体のスイッチングを維持することによって読み出し信号を大きくすることができる。微細化された相変化メモリセルの設置面積が、リセット動作中に電流を流すために必要な選択素子の幅(および領域も)によって主に決定されるので、この電力低減により、セル幅は、すぐさま圧縮される。
本発明では、相変化メモリセル30をいくつかの方法によって形成してもよい。例えば、相変化材料34を堆積し、次に、エッチングし、続いて、絶縁性材料40を相変化材料34の端部に隣接して形成してもよい。さらに、絶縁性材料40からなる層を初めに堆積し、次に、絶縁性材料40からなる層内にエッチングされたビアを堆積してもよい。続いて、相変化材料34を、絶縁性材料40からなる層内のビアの中に堆積してもよい。
図5は、本発明の他の実施形態にかかる典型的な相変化メモリセル30を示す断面図である。相変化メモリセル30は、第1電極32、相変化材料34、第2電極36、および、絶縁材料38を含んでいる。さらに、相変化メモリセル30は、相変化材料34に隣接した絶縁性材料40を含んでいる。ここで、絶縁性材料40は、もっぱら相変化材料34に直接隣接して配置されており、さらに熱伝導率が低く選択されている。したがって、本実施形態により、少ない絶縁性材料40を用いるにもかかわらず、相変化材料34の端部からの熱放散を効果的に低減できる。このようにして、追加の入力が少なくとも、十分なリセット動作に必要な温度に上げることができる。さらに、本実施形態により、この製造プロセス中の化学的機械研磨法に対する機械的安定性が改善される。
図6は、3つの典型的な相変化メモリセルのリセットパルス電圧およびリセットパルス電流に応じて読取り動作中に得られるセル抵抗を示すグラフである。該相変化セルの中心での融解の開始を、垂直の点線によって示す。図6の線70は、上記相変化材料を絶縁材である二酸化珪素が取り囲んだ相変化メモリセルの特性を示している。ここで、約1.0〜1.5Vでの低電力リセット中に、該セルは、急なスイッチング特性を示さないが、その代わりに、読取り抵抗が比較的低い、長い遅滞期(lag phase)を示す。このことは、上記した、該セル中の相変化材料の部分的な融解に起因し、これにより、該相変化材料の外縁において導電性の高い接続が生じている。
図6の線60は、上記相変化材料を誘電率が比較的低い(「low‐k」)断熱材(例えば、多孔質酸化物)によって取り囲んだ相変化メモリセルの特性を示す図である。ここで、リセット中、読取り抵抗は、線70より高い改善されたスイッチング特性を示し、比較的高い読取り抵抗を有する短い遅滞期を示している。
図6の線50は、上記相変化材料をlow−kである断熱材(例えば、エーロゲル)によって取り囲んだ相変化メモリセルの特性を示す図である。ここで、リセット中、読取り抵抗は、線60より高い改善されて急なスイッチング特性を示し、線70の遅滞期は実質的には消滅する。該読取り抵抗は、いくつかの桁を超えた急な変化を示す。
一実施形態では、絶縁性材料40は、断熱性の高い誘電体材料(例えば、熱伝導率が0.1〜0.8W/(mK)である多孔質酸化膜)である。一実施形態では、絶縁性材料40は、熱伝導率が約0.12〜0.18W/mKであるエーロゲル材料などの誘電体材料であってもよいし、他には、熱伝導率が約0.13〜0.17W/mKであるPhilkなどの典型的な多孔質酸化物誘電体であってもよい。
本発明の相変化材料34は、様々な材料から形成されている。通常、このような材料には、周期表のIV族の1つまたは複数の元素を含むカルコゲナイド合金が用いられる。一実施形態では、メモリセル30の相変化材料34は、GeSbTeまたはagInSbTeといったカルコゲナイド複合材料から形成されている。他の実施形態では、該相変化材料は、GeSb、GaSb、または、GeGaSbのようにカルコゲンを含んでいない材料であってもよい。
これらのタイプの相変化材料34の絶縁性材料40として、上述のlow−k誘電体材料を用いるが、比較的高い温度で動作される異なるタイプの相変化材料には、他のlow−k誘電体を用いてもよい。このようなlow−k誘電体材料は、SiLK、Coral、LDK‐5109、Orion2.2、CF‐ポリマーなどを含んでいる。
low−k誘電体材料を相変化メモリセルの相変化材料を取り囲むように用いることにより、該相変化材料を取り囲むlow−k誘電体材料を用いない相変化セルよりもリセットパルス電力(電流および/または電圧)を抑えることができ、それでもなお、セルの断面全体のスイッチングを維持することによって読み出し信号を大きくすることができる。これにより、相変化メモリセルの大きさ、および、同様にチップの大きさも縮小でき、チップ密度を上げることができる。
図7〜図28は、相変化メモリセルを形成するための2つの実施形態を示す図である。図7〜図17および図18〜図28は、ヒータ相変化メモリセルを形成するための実施形態を示す図である。通常のヒータ相変化メモリセルは、図3を参照しながら記載した相変化メモリセル10と同様に機能する。上記相変化材料の中心を過度に過熱することのない低電力リセット動作中、相変化材料の端部には、融解が不完全であるために結晶状態のままである大量の結晶がヒータに接触して存在する。このような構成におけるリセットに続いて開始された読取り動作によって、高抵抗状態においてセンスアンプによって検出された読み出し信号を隠す低抵抗分流経路が供給される。
図7は、本発明の他の実施形態にかかるヒータ相変化メモリセル31の一実施形態を示す断面図である。ヒータ相変化メモリセル31は、第1電極32、相変化材料34、第2電極36、および、絶縁材38を含んでいる。さらに、ヒータ相変化メモリセル31は、停止層48、相変化材料34と第1電極32との間に位置し、それらに接触しているヒータ49、ヒータ49に隣接した任意の拡散障壁42、および、任意の拡散障壁42に隣接した絶縁性材料40を含んでいる。他の実施形態では、拡散障壁42を用いない。相変化材料34は、1ビットのデータを記憶するための記憶場所を設けている。
拡散障壁42は、絶縁性材料40へのヒータ49材料の拡散を防止する。一実施形態では、拡散障壁42は、SiNまたは他の適切な障壁材料を含んでいる。一実施形態では、熱伝導率/拡散率の低い絶縁性材料40を選択する。これにより、ヒータ49近傍の相変化材料34の端部からの熱放散を低減できる。一実施形態では、ヒータ相変化メモリセル31は、絶縁されたヒータ相変化メモリセルである。本実施形態のヒータメモリセル31の製造プロセスについて、以下の図8〜図17に示す。
図8は、前処理されたウェハ39の一実施形態を示す断面図である。前処理されたウェハ39は、絶縁材38、第1電極32、および、下部ウェハ層(図示せず)を含んでいる。一実施形態では、第1電極32は、タングステンプラグ、銅プラグ、または、他の適切な電極である。
図9は、前処理されたウェハ39、第1絶縁材層38a、停止層48a、および、第2絶縁材層38bの一実施形態を示す断面図である。前処理されたウェハ29上に、SiO2、フッ素添加酸化シリコン(FSG)、または、他の適切な材料を平坦に堆積することにより、第1絶縁材層38aを設ける。一実施形態では、第1絶縁材層38aは、前処理されたウェハ39の絶縁材38と同じ材料を含んでおり、これにより、第1絶縁材層38aと前処理されたウェハ39の絶縁材38とが結合される。第1絶縁材層38a上にSiNまたは他の適切な材料を平坦に堆積することにより、停止層48aを設ける。停止層48a上に、SiO2、FSG、または、他の適切な材料を平坦に堆積することにより、第2絶縁材層38bを設ける。第1絶縁材層38a、停止層48a、および、第2絶縁材層38bを、CVD、ALD、MOCVD、PVD、JVP、または、他の適切な堆積技術によって堆積する。
図10は、第2絶縁材層38bと、停止層48aと、第1絶縁材層38aとをエッチングした後の、前処理されたウェハ39、第1絶縁材層38c、停止層48、および、第2絶縁材層38dの一実施形態を示す断面図である。マスク層(図示せず)によってマスクされなかった、第2絶縁材層38b、停止層48a、および、第1絶縁材層38aの各部分をエッチングして、ビアを形成し、第1電極32を露出させ、第1絶縁材層38c、停止層48、および、第2絶縁材層38dを形成する。一実施形態では、該ビアは、第1電極32の中心のほぼ上に配置されている。
図11は、前処理されたウェハ39、第1絶縁材層38c、停止層48、第2絶縁材層38d、および、絶縁性材料層40aの一実施形態を示す断面図である。絶縁性材料層40aは、前処理されたウェハ39、第2絶縁材層38d、停止層48、および、第1絶縁材層38cの各露出部分の上方に熱伝導率/拡散率の低い材料を同じ膜圧で堆積することによって設けられる。このとき、CVD、ALD、MOCVD、PVD、JVP、または、他の適切な堆積技術によって形成される。
図12は、前処理されたウェハ39、第1絶縁材層38c、停止層48、第2絶縁材層38d、および、絶縁性材料層40aをエッチングした後の絶縁性材料層40bの一実施形態を示す断面図である。異方性エッチバックまたは他の適切な方法により、絶縁性材料を除去して第1電極32および第2絶縁材層38dを露出させ、絶縁性材料層40bを設ける。
図13は、前処理されたウェハ39、第1絶縁材層38a、停止層48、第2絶縁材層38b、絶縁性材料層40b、および、エッチング後の任意の拡散障壁層42aの一実施形態を示す断面図である。他の実施形態では、拡散障壁層42aは用いられていない。拡散障壁層42aは、前処理されたウェハ39、絶縁性材料層40b、および、第2絶縁材層38dの露出部分上に、CVD、ALD、MOCVD、PVD、JVP、または、他の適切な堆積技術を用いてSiNまたは他の適切な障壁材料を同じ膜厚で堆積することにより設けられる。異方性エッチバックまたは他の適切な方法により、該拡散障壁材料を除去して第1電極32および第2絶縁材層38dを露出する。
図14は、前処理されたウェハ39、第1絶縁材層38c、停止層48、第2絶縁材層38d、絶縁性材料層40b、拡散障壁層42a、および、ヒータ材料層49aの一実施形態を示す断面図である。スズ、TaN、または、他の適切なヒータ材料といったヒータ材料を、第2絶縁材層38d、拡散障壁層42a、および、第1電極32の各露出部分上に堆積することにより、ヒータ材料層49aを設ける。ヒータ材料層49aを、CVD、ALD、MOCVD、PVD、JVP、または、他の適切な堆積技術によって堆積する。
図15は、ヒータ材料層49a、第2絶縁材層38d、絶縁性材料層40b、および、拡散障壁層42aを平坦化処理した後の、前処理されたウェハ39、第1絶縁材層38c、停止層48、絶縁性材料層40、拡散障壁層42、および、ヒータ材料層49の一実施形態を示す断面図である。ヒータ材料層49a、第2絶縁材層38d、絶縁性材料層40b、および、拡散障壁層42aは、停止層48まで平坦化され、ヒータ材料層49、拡散障壁層42、および、絶縁性材料層40が設けられる。ヒータ材料層49a、第2絶縁材層38d、絶縁性材料層40b、および、拡散障壁層42aは、CMPまたは他の適切な平坦化技術によって平坦化される。
図16は、前処理されたウェハ39、第1絶縁材層38c、停止層48、絶縁性材料層40、拡散障壁層42、ヒータ材料層49、相変化材料層34a、および、電極材層36aの一実施形態を示す断面図である。停止層48、絶縁性材料層40、拡散障壁層42、および、ヒータ材料層49の各露出部分上に、カルコゲナイド複合材料または他の適切な相変化材料といった相変化材料を平坦に堆積することにより、相変化材料層34aを設ける。相変化材料層34a上に、スズ、TaN、または、他の適切な電極材といった電極材を平坦に堆積することにより、電極材層36aを設ける。相変化材料層34a、および、第2電極材層36aを、CVD、ALD、MOCVD、PVD、JVP、または、他の適切な堆積技術によって堆積する。
図17は、電極材層36aおよび相変化材料層34aをエッチングした後の、前処理されたウェハ39、第1絶縁材層38c、停止層48、絶縁性材料層40、拡散障壁層42、ヒータ材料層49、相変化材料層34、第2電極36、および、マスク層46の一実施形態を示す断面図である。マスク層46によってマスクされなかった電極材層36aおよび相変化材料層34aの各部分を、ドライエッチングまたは他の適切なエッチングによってエッチングして、第2電極36および相変化材料層34が形成される。エッチング後、フォトレジストストリッピング方法(photoresist stripping method)によってマスク層46を除去する。次に、第2電極36および相変化材料34の周りに他の絶縁材38を堆積して、図7に示したヒータ相変化メモリセル31を設ける。
図18は、本発明の他の実施形態にかかる、側方方向から取り囲む拡散障壁42および絶縁性材料40を備えたヒータ相変化メモリセル31の一実施形態を示す断面図である。ヒータ相変化メモリセル31は、下地膜33を有する第1電極32、相変化材料34、第2電極36、および、絶縁材38を含んでいる。さらに、ヒータ相変化メモリセル31は、相変化材料34と第1電極32との間に位置し、それらに接触しているヒータ49、ヒータ49に隣接している任意の拡散障壁42、および、任意の拡散障壁42に隣接している絶縁性材料40を含んでいる。他の実施形態では、拡散障壁42は用いられない。相変化材料34は、1ビットのデータを記憶するための記憶場所を有している。
拡散障壁42は、絶縁性材料40へのヒータ49材料の拡散を防止する。一実施形態では、拡散障壁42は、SiNまたは他の適切な障壁材料を含んでいる。一実施形態では、熱伝導率/拡散率の低い絶縁性材料40を選択する。これにより、ヒータ49近傍の相変化材料34の端部からの熱放散を低減できる。一実施形態では、ヒータ相変化メモリセル31は、絶縁されたプラグ凹部ヒータ相変化メモリセルである。本実施形態のヒータメモリセル31の製造プロセスについて、以下の図19〜図28に示す。
図19は、前処理されたウェハ39の一実施形態を示す断面図である。前処理されたウェハ39は、絶縁材38、下地膜33を有する第1電極32、および、下部ウェハ層(図示せず)を含んでいる。一実施形態では、第1電極32は、タングステンプラグ、銅プラグ、または、他の適切な電極であり、下地膜33は、スズまたは他の適切な下地膜材料を含んでいる。
図20は、第1電極32をエッチングした後の前処理されたウェハ39の一実施形態を示す断面図である。一実施形態では、反応性イオンエッチング(RIE)または他の適切なエッチングによって第1電極32をエッチングし、前処理されたウェハ39に凹部を形成する。
図21は、第1電極32の下地膜33をエッチングした後の前処理されたウェハ39の一実施形態を示す断面図である。一実施形態では、ウェットエッチングまたは他の適切なエッチングによって、第1電極32の上端まで下地膜33をエッチングする。他の実施形態では、シングルエッチングによって、第1電極32と下地膜33との両方を単一の工程においてエッチングし、前処理されたウェハ39に凹部を形成してもよい。
図22は、前処理されたウェハ39および絶縁性材料層40aの一実施形態を示す断面図である。絶縁性材料層40aを、前処理されたウェハ39の露出部分上に、CVD、ALD、MOCVD、PVD、JVP、または、他の適切な堆積技術によって熱伝導率/拡散率の低い材料を同じ膜厚で堆積することによって設ける。
図23は、前処理されたウェハ39、および、絶縁性材料層40aをエッチングした後の絶縁性材料層40bの一実施形態を示す断面図である。異方性エッチバックまたは他の適切な方法によって該絶縁性材料を除去し、第1電極32と前処理されたウェハ39の上端とを露出させ、絶縁性材料層40bを形成する。
図24は、前処理されたウェハ39、絶縁性材料層40b、および、エッチング後の任意の拡散障壁層42aの一実施形態を示す断面図である。他の実施形態では、拡散障壁層42aを用いない。拡散障壁層42aを、前処理されたウェハ39および絶縁性材料層40bの各露出部分上に、CVD、ALD、MOCVD、PVD、JVP、または、他の適切な堆積技術によってSiNまたは他の適切な障壁材料を同じ膜厚で堆積することによって設ける。異方性エッチバックまたは他の適切な方法によって該拡散障壁材料を除去し、第1電極32と前処理されたウェハ39の上端とを露出させる。
図25は、前処理されたウェハ39、絶縁性材料層40b、拡散障壁層42a、および、ヒータ材料層49aの一実施形態を示す断面図である。スズ、TaN、または、他の適切なヒータ材料といったヒータ材料を、前処理されたウェハ39および拡散障壁層42aの各露出部分上に堆積することにより、ヒータ材料層49aを設ける。ヒータ材料層49aを、CVD、ALD、MOCVD、PVD、JVP、または、他の適切な堆積技術によって堆積する。
図26は、ヒータ材料層49a、前処理されたウェハ39、絶縁性材料層40b、および、拡散障壁層42aを平坦化処理した後の、前処理されたウェハ39、絶縁性材料層40、拡散障壁層42、および、ヒータ材料層49の一実施形態を示す断面図である。ヒータ材料層49a、前処理されたウェハ39、絶縁性材料層40b、および、拡散障壁層42aを平坦化して、ヒータ材料層49、拡散障壁層42、および、絶縁性材料層40を設ける。ヒータ材料層49a、絶縁性材料層40b、および、拡散障壁層42aを、CMPまたは他の適切な平坦化処理技術によって平坦化する。
図27は、前処理されたウェハ39、絶縁性材料層40、拡散障壁層42、ヒータ材料層49、相変化材料層34a、および、電極材層36aの一実施形態を示す断面図である。前処理されたウェハ39、絶縁性材料層40、拡散障壁層42、および、ヒータ材料層49の各露出部分上にカルコゲナイド複合材料または他の適切な相変化材料といった相変化材料を平坦に堆積することにより、相変化材料層34aを設ける。相変化材料層34a上に、スズ、TaN、または、他の適切な電極材といった電極材を平坦に堆積することにより、電極材層36aを設ける。相変化材料層34aおよび電極材層36aを、CVD、ALD、MOCVD、PVD、JVP、または、他の適切な堆積技術によって堆積する。
図28は、電極材層36aおよび相変化材料層34aをエッチングした後の、前処理されたウェハ39、絶縁性材料層40、拡散障壁層42、ヒータ材料層49、相変化材料層34、第2電極36、および、マスク層46の一実施形態を示す断面図である。マスク層46によってマスクされなかった電極材層36aおよび相変化材料層34aの各部分を、ドライエッチングまたは他の適切なエッチングによってエッチングすることにより、第2電極36および相変化材料層34を設ける。エッチング後、フォトレジストストリッピング方法によってマスク層46を除去する。次に、第2電極36および相変化材料34の周りに他の絶縁材38を堆積することにより、図18に示したヒータ相変化メモリセル31を設ける。
具体的な実施形態について図示および説明してきたが、当業者であれば、本発明の範囲を逸脱することなく、図示および説明してきたこれらの実施形態の代わりに、様々な別の、および/または同等の実施形態を用いることができることについて理解するであろう。本出願は、本明細書に記載の具体的な実施形態の任意の適応または変型を含んでいる。従って本発明は、特許請求の範囲および特許請求の範囲に相当する部分によってのみ限定される。
Claims (37)
- 第1電極、
該第1電極に隣接しているヒータ、
該ヒータに隣接している相変化材料、
該相変化材料に隣接している第2電極、および、
該相変化材料に隣接している、該相変化材料を熱的に絶縁するための絶縁性材料を含む、メモリセル素子。 - 上記絶縁性材料へのヒータ材料の拡散を防止するために、さらに、上記ヒータおよび該絶縁性材料に隣接した拡散障壁を含んでいる、請求項1に記載のメモリセル素子。
- 上記拡散障壁はSiNを含んでいる、請求項2に記載のメモリセル素子。
- 上記相変化材料はカルコゲナイドを含んでいる、請求項1に記載のメモリセル素子。
- 上記絶縁性材料は、上記相変化材料からの熱放散を制限する誘電体材料を含んでいる、請求項1に記載のメモリセル素子。
- 上記誘電体材料は、熱伝導率が0.1〜0.8W/mKである多孔質酸化膜を含んでいる、請求項5に記載のメモリセル素子。
- 上記誘電体材料は、エーロゲル、Philk、SiLK、Coral、LDK‐5109、Orion2.2、および、CF‐ポリマーのうちのいずれかを含んでいる、請求項5に記載のメモリセル素子。
- 第1電極、
該第1電極に隣接しているヒータ、
該ヒータに隣接している相変化材料、
該相変化材料に隣接している第2電極、および、
該相変化材料に隣接し、該相変化材料を熱的に絶縁するための手段を含む、メモリセル素子。 - 第1電極を備えた前処理されたウェハを設ける工程と、
該前処理されたウェハに隣接している第1絶縁材層を堆積する工程と、
該第1絶縁材層に隣接している停止層を堆積する工程と、
該停止層に隣接している第2絶縁材層を堆積する工程と、
該第1絶縁材層、該停止層、および、該第2絶縁材層を貫通するビアをエッチングして、該第1電極の部分を露出させる工程と、
該ビアの側面に絶縁性材料を堆積する工程と、
該絶縁性材料をエッチングして、該ビア中に絶縁性材料の側壁を形成する工程と、
該ビア中にヒータ材料を堆積する工程と、
該停止層まで平坦化する工程と、
該停止層、絶縁性材料、および、ヒータ材料の各露出された部分に隣接している相変化材料層を堆積する工程と、
該相変化材料層に隣接している電極材層を堆積する工程と、
該電極材層および該相変化材料層をエッチングして、第2電極および記憶場所を形成する工程とを含む、メモリセル素子の製造方法。 - さらに、上記絶縁性材料へのヒータ材料の拡散を防止するために、上記絶縁性材料の側壁に隣接している拡散障壁を堆積する、請求項9に記載の方法。
- 上記拡散障壁を堆積する工程は、SiNを堆積することを含んでいる、請求項10に記載の方法。
- 上記前処理されたウェハを設ける工程は、タングステンプラグを含む前処理されたウェハを設けることを含んでいる、請求項9に記載の方法。
- 上記前処理されたウェハを設ける工程は、銅プラグを含む前処理されたウェハを設けることを含んでいる、請求項9に記載の方法。
- 上記第1絶縁材層を堆積する工程は、SiO2層またはフッ素添加酸化シリコン層を堆積することを含んでいる、請求項9に記載の方法。
- 上記停止層を堆積する工程は、SiN層を堆積することを含んでいる、請求項9に記載の方法。
- 上記第2絶縁材層を堆積する工程は、SiO2層およびフッ素添加酸化シリコン層のうちのいずれかを堆積することを含んでいる、請求項9に記載の方法。
- 上記絶縁性材料を堆積する工程は、上記相変化材料からの熱放散を制限する誘電体材料を堆積することを含んでいる、請求項9に記載の方法。
- 上記誘電体材料を堆積する工程は、熱伝導率が0.1〜0.8W/mKである多孔質酸化膜を堆積する工程を含んでいる、請求項17に記載の方法。
- 上記誘電体材料を堆積する工程は、エーロゲル、Philk、SiLK、Coral、LDK‐5109、Orion2.2、および、CF‐ポリマーのうちのいずれかを堆積することを含んでいる、請求項17に記載の方法。
- 上記ビアにヒータ材料を堆積する工程は、TiNおよびTaNのうちのいずれかを堆積することを含んでいる、請求項9に記載の方法。
- 上記停止層まで平坦化する工程は、該停止層まで化学的機械研磨を施すことを含んでいる、請求項9に記載の方法。
- 上記相変化材料層を堆積する工程は、カルコゲナイド材料層を堆積することを含んでいる、請求項9に記載の方法。
- さらに、上記第2電極および記憶場所に隣接している絶縁材を堆積することを含んでいる、請求項9に記載の方法。
- 絶縁材を堆積する工程は、SiO2またはフッ素添加酸化シリコンを堆積することを含んでいる、請求項23に記載の方法。
- 第1電極を有する前処理されたウェハを設ける工程と、
該第1電極をエッチングして、凹部を形成する工程と、
該凹部の側面に絶縁性材料を堆積する工程と、
該絶縁性材料をエッチングして、該凹部に絶縁性材料からなる側壁を形成する工程と、
該凹部にヒータ材料を堆積する工程と、
該ヒータ材料を平坦化して、ヒータを形成する工程と、
該ヒータ上に相変化材料層を堆積する工程と、
該相変化材料層上に電極材層を堆積する工程と、
該電極材層および該相変化材料層をエッチングして、第2電極および記憶場所を形成する工程とを含む、メモリセル素子の製造方法。 - さらに、上記絶縁性材料の側壁に隣接した拡散障壁を堆積して、該絶縁性材料へのヒータ材料の拡散を防止する工程を含む、請求項25に記載の方法。
- 上記拡散障壁を堆積する工程はSiNを堆積することを含む、請求項26に記載の方法。
- 上記前処理されたウェハを設ける工程は、タングステンプラグを含む前処理されたウェハを設けることを含む、請求項25に記載の方法。
- 上記前処理されたウェハを設ける工程は、銅プラグを含む前処理されたウェハを設けることを含む、請求項25に記載の方法。
- 上記絶縁性材料を堆積する工程は、上記相変化材料からの熱放散を制限する誘電体材料を堆積することを含む、請求項25に記載の方法。
- 上記誘電体材料を堆積する工程は、熱伝導率が0.1〜0.8W/mKである多孔質酸化膜を堆積することを含む、請求項30に記載の方法。
- 上記誘電体材料を堆積する工程は、エーロゲル、Philk、SiLK、Coral、LDK‐5109、Orion2.2、および、CF‐ポリマーのうちのいずれかを堆積することを含む、請求項30に記載の方法。
- 上記凹部にヒータ材料を堆積する工程は、TiNおよびTaNのいずれかを堆積することを含む、請求項25に記載の方法。
- 上記相変化材料層を堆積する工程は、カルコゲナイド材料層を堆積することを含む、請求項25に記載の方法。
- 上記電極材層を堆積する工程は、TiNまたはTaNを堆積することを含む、請求項25に記載の方法。
- さらに、上記第2電極および上記記憶場所に隣接した絶縁材を堆積する工程を含む、請求項25に記載の方法。
- 上記絶縁材を堆積する工程は、SiO2またはフッ素添加酸化シリコンを堆積することを含む、請求項36に記載の方法。
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