JP2008529290A - 照射システム、具体的には、半導体リソグラフにおける投影露光装置のための照射システム - Google Patents
照射システム、具体的には、半導体リソグラフにおける投影露光装置のための照射システム Download PDFInfo
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Abstract
Description
この目的は、非対称的な瞳孔分布のために、少なくとも、非回転対称の光分布をもたらす光学素子、及び/もしくは、均一化素子が、x−y座標系のz軸を形成する光軸を回転軸にして回転可能に支持され、瞳孔分布が、1つの軸上、もしくはx−y座標系を回転角度a分回転させて回転角度aによって新たに形成されたx’−y’座標系の1つの軸を基準にして対称的に位置するように、少なくとも1つの回転角度aを設定することが可能であるという事実に基づいて、本発明によって達成される。
本発明のさらなる実質的な効果は、独創的に回転可能なセッティングと、光学素子及び均一化素子を共に搭載したこととによって、同一の照射システムが、垂直パターンもしくは水平パターンと、傾斜パターンとの双方を撮像するのに適しているということである。全ての素子は、“通常動作”のx−y座標系では“通常位置”にある。ウエハー上に傾斜パターンを生成することが望まれているときには、単に、適切な回転角度を設定する必要があるだけである。適切な回転角度のセッティングを大きな経費を要することなく実行できるため、顧客の要求に従う非常に汎用的に使用可能な照射システムがもたらされる。
本発明に基づく解決策は、明確に、長方形の断面を有するロッドではなく、少なくとも略正方形の側面を有するロッドを使用するときにいつでも、特別な効果を伴って使用され得る。この場合、光損失、及び領域の減小は、結局、明確に長方形のロッドの場合よりも実質的に小さくなる。
均一化素子として例えばロッドインテグレータもしくはハニカム集光器を有する照射システムを備える投影露光装置の構造及び作動形態は、原理上周知であるため、その構造及び作動形態については、以下にごく簡単に説明する。一例として、さらなる詳細については、ドイツ特許公報DE 101 32 988 A1(米国特許公報US 6,707,537 B2)が参照される。そして、ドイツ特許公報DE 101 32 988 A1(米国特許公報US 6,707,537 B2)は、参照されることにより、本願における主題の開示の一部をなす。
Claims (12)
- 照射システムであり、光源が発する光を有し、光軸と光学素子とを有し、具体的には、半導体リソグラフにおける投影露光装置のための照射システムであり、光線の瞳孔分布を生成するための少なくとも1つの光学素子を有し、前記光の強度を均一化するための均一化素子を有する照射システムであって、
非対称的な瞳孔分布のために、非回転対称の光分布をもたらす少なくとも1つの前記光学素子(3,7)、及び/もしくは前記均一化素子が、x−y座標系のz軸を形成する前記光軸を回転軸として回転可能に支持され、
前記瞳孔分布が、1つの軸上に位置、もしくは、前記x−y座標系を回転角度a分回転させて、該回転角度aによって新たに形成されるx’−y’座標系の1つの軸を基準にして対称的に位置するように、少なくとも1つの前記回転角度aを設定することが可能である
ことを特徴とする照射システム。 - 請求項1に記載の照射システムであって、
少なくとも1つの回転可能な光学素子(3,7)、及び前記均一化素子(10)は、同一の回転角度分回転される
ことを特徴とする照射システム。 - 請求項1に記載の照射システムであって、
少なくとも1つの回転可能な光学素子(3,7)、及び前記均一化素子(10)は、異なる回転角度分回転される
ことを特徴とする照射システム。 - 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の照射システムであって、
前記均一化素子として配設されているのは、非対称的な瞳孔分布のために回転角度a分回転可能な長方形のロッドインテグレータ(10)である
ことを特徴とする照射システム。 - 請求項4に記載の照射システムであって、
前記ロッドインテグレータ(10)の断面は、少なくとも略正方形である
ことを特徴とする照射システム。 - 請求項4または請求項5に記載の照射システムであって、
前記ロッドインテグレータ(10)は、インカップリング・オプティクス(9)と、視野絞り(11)を有する領域面との間に配置されている
ことを特徴とする照射システム。 - 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の照射システムであって、
前記複数の光学素子(3,7)は、前記光線の方向における前記均一化素子(10,24)の上流に位置決めされた回折光学素子及び/もしくは屈折光学素子である
ことを特徴とする照射システム。 - 請求項4乃至請求項7のいずれかに記載の照射システムであって、
前記ロッドインテグレータ(10,10’’)は、交換可能に前記照射システムに配置され、
正方形の断面を有するロッドインテグレータ(10’’)は、回転角度の設定に関連して、長方形の断面を有するロッドインテグレータ(10)の代わりに配設される
ことを特徴とする照射システム。 - 請求項8に記載の照射システムであって、
長方形の断面(10)を有する前記ロッドインテグレータの端面における対角線の長さは、少なくとも、正方形の断面を有する前記ロッドインテグレータ(10’’)における端部の長さとほぼ一致している
ことを特徴とする照射システム。 - 請求項8または請求項9に記載の照射システムであって、
前記光線の方向における前記ロッドインテグレータ(10,10’’)の上流に配置された複数の屈折光学素子(7)は、交換可能に配置されている
ことを特徴とする照射システム。 - 請求項1に記載の照射システムであって、
均一化素子として、ハニカム集光器(24)が配設されている
ことを特徴とする照射システム。 - 請求項1乃至請求項11のいずれかに記載の照射システムを有する、半導体リソグラフにおける投影露光装置。
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