JP2008527964A - 移動装置 - Google Patents

移動装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008527964A
JP2008527964A JP2007550900A JP2007550900A JP2008527964A JP 2008527964 A JP2008527964 A JP 2008527964A JP 2007550900 A JP2007550900 A JP 2007550900A JP 2007550900 A JP2007550900 A JP 2007550900A JP 2008527964 A JP2008527964 A JP 2008527964A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnet
type
moving device
magnets
coil
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007550900A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5422126B2 (ja
Inventor
セー コンプテル,ヨハン
セー エム フリッセン,ペトリュス
エイク,ヤン ファン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Koninklijke Philips NV
Koninklijke Philips Electronics NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koninklijke Philips NV, Koninklijke Philips Electronics NV filed Critical Koninklijke Philips NV
Publication of JP2008527964A publication Critical patent/JP2008527964A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5422126B2 publication Critical patent/JP5422126B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70758Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02KDYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K41/00Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
    • H02K41/02Linear motors; Sectional motors
    • H02K41/03Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Linear Motors (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

特に、半導体工業における使用のために、キャリア(714)を有する第1部分を有する移動装置(701)であって、キャリアにおいて、磁石システム(710)が、X方向及びY方向に平行に伸びている行及び列のパターンにしたがって配列されている、移動装置について開示している。各々の行及び列の磁石はホールバッハアレイにしたがって配列され、即ち、各々の行及び各々の列における連続的な磁石の磁性配向は反時計回りに90度回転している。第2部分は、2つの種類の電気コイルであって、一の種類は45°の角度オフセットを有し、他の種類はX方向に対して−45°のオフセットを有する、電気コイルシステム(712)を有する。第1部分(714,710)は、静止している第2部分(712)に対してセンチのオーダー又はそれ以上の範囲に亘って移動可能である。第1部分の高精度の位置決めのために、干渉計システム(731,730)を備えている。

Description

本発明は、例えば、半導体工業において電気平面モータで用いる移動装置に関する。
半導体工業における電気平面モータは、高スループットを達成するように高加速を有する必要がある。高加速を達成するための1つの方法は磁場を大きくすることである。
国際公開第01/18944A1号パンフレットにおいては、磁石システムは、X方向及びY方向のそれぞれに対して平行に伸びている行列パターンにしたがって配列されているキャリアを有する第1部分を有する移動装置について開示されている。各々の行及び列における磁石はハルバッハ配列にしたがって配列されている、即ち、各々の行及び各々の列における連続する磁石の磁気配向は反時計回りに90°回転する。第2部分は、X方向に対して+45°の角度オフセットを有する1つの種類と、X方向に対して−45°の角度オフセットを有する他の種類とを有する2つの種類の電気コイルを有する電気コイルシステムを有し、第1部分に対して移動可能である。その磁石構成は非常に強い磁場をもたらす。
国際公開第01/18944A1号パンフレットの援用により、本発明の説明の一部を代替する。
国際公開第01/18944A1号パンフレット
本発明の目的は、操作を容易にするように、国際公開第01/18944A1号パンフレットにおいて開示されている移動装置を改善することである。
したがって、移動装置は、少なくともX方向及び該X方向に対して垂直方向のY方向に互いに対して移動することができる第1部分及び第2部分を有し、
第1部分は、X方向及び前記Y方向に対して実質的に平行に伸びているキャリアであって、キャリアにおいて、磁石システムは、あるパターン又はX方向に平行に伸びている行及びY方向に平行に伸びている列にしたがって固定され、行の間及び列の間の距離は等しい、キャリアと、キャリアに対して直角に且つ第2部分の方に向かって伸びている磁化方向を有する第1種類の磁石、及びキャリアに対して直角に且つ第2部分から遠ざかる方に向かって伸びている磁化方向を有する第2種類の磁石であって、各々の行及び各々の列において交互に配列されている、第1種類の磁石及び第2種類の磁石と、第1種類及び第2種類の近接している磁石の各々の対の間の各々の列において配列されている第3種類の磁石であって、該第3種類の磁石は、Y方向に平行に且つ第1種類の磁石の方に向かって伸びている磁化方向を有する、第3種類の磁石と、を有し、
第2部分は、磁石システムの磁場において位置付けられ、X方向と実質的に45°の角度を有する電流導体を有する少なくとも1つの第1種類の電気コイルを有し、磁石システムの磁場においてまた、位置付けられ、X方向と実質的に45°の角度を有する電流導体を有する少なくとも1つの第2種類の電気コイルを有する、電気コイルシステムを備え、前記電流導体は第1電気コイルの電流導体に対して垂直方向に伸びていて、第1部分の磁石の各々の行においてまた、第3種類の磁石は第1種類及び第2種類の近接している磁石の各々の対の間に配列され、第3種類の磁石は、X方向に平行に且つ第1種類の磁石の方に向かって伸びている磁化方向を有し、
移動装置は、第2部分は静止していて、第1部分はセンチのオーダーの又はそれ以上の範囲に亘って第2部分に対して相対的に移動可能であり、移動装置は移動可能な第1部分の正確な位置決めのための干渉計システムを更に有することを特徴とする。
第2の、即ち、コイル部分に代えて、第1の、即ち、磁石部分を移動させることには幾つかの有利点がある。それらのコイルは電流が供給され、冷却されることのみが必要であるため、その可動部分に取り付けられるべきホース及びワイヤは必要ない。コイルは静止していて、冷却を実施することは容易である。ワイヤ及びホースは、磁場及び電流の干渉領域から距離を置いて備えられることができ、もはや力学的外乱に繋がることはない。このことは、本質的な位置決め精度を改善する。
磁石部分の移動にはケーブル及びホースのような何れの制限がなく、移動装置は、依然として高い位置決め精度を有する移動の擬似無制限領域を与え、可動部分にケーブルがないことのための固有精度は、正確な位置測定のための干渉計システムにより改善される。短い領域及び長い領域に亘って移動する磁石部分を有することにより、長いストロークのステージ及び短いストロークのステージを有する、通常用いられる複雑なデュアルステージの構成に代えて、単独ステージの構成を可能にする。
当業者に知られているように、干渉計は、2つの光ビームの干渉パターンを解析することによりナノメートルオーダーの長さにおける差を測定することが可能である。標準的な干渉計システムは、光源と、光ビームを調整し、異なる経路を生成するための、例えば、ミラー又はプリズムのような1つ又はそれ以上の光学要素と、干渉パターンを測定するための検出器と、を有する。
高感度のリソグラフィ処理においては、コイルのように熱を発生しないため、それ故、ウェーハに熱応力を導入しないために、磁石部分はウェーハを移動し、搬送するには有利である。
移動装置の更なる改善は、第1及び第2種類の磁石が同一の側面の正方形形状を有し、第3種類の磁石は矩形の側面形状を有し、それにより、第3種類の磁石の長い側面は第1及び第2種類の磁石の側面と隣接し、第1及び第2種類の磁石の側面とまさに同じ長さであることにより達成される。好適には、最も長い側面の寸法に対する第3種類の磁石の最も短い側面の寸法の比は、0.25乃至0.50の範囲内にある。このような磁石の構成は更に強い磁場を生成することが分かった。
これは、電流導体が有効な磁場において位置付けられているコイルの電流導体の長さが、磁石の磁極ピッチのk倍(kは、2,4,6,...である)に略等しく、磁石の磁極ピッチが、第1及び第2種類の磁石の中心点が位置している2つの隣接する対角線間の距離として規定される場合に、更に有利である。電流導体の長手方向における移動は、磁場の和が実質的に一定に維持されるようにし、その結果、強度変動は低減される。
本発明の好適な実施形態においては、第1部分は約5mm又はそれ以下であって、好適には、約3mm又はそれ以下の高さのリターンプレートを有する。リターンプレートは磁石システムの後に直接位置付けられている。それらのリターンプレートは強磁性材料から成り、磁石に磁束を戻す機能を有する。第1及び第2種類の磁石間で、ホールバッハ磁石とも呼ばれる、第3種類の磁石Hを用いる場合、第3種類の磁石を用いない場合と同程度に第1及び第2種類の磁石の外側の遠くまで広がらない。このことは、通常のようにかなり薄いリターンプレートを可能にし、そのことは、リターンプレートを全く用いないことさえ可能にする。これは、移動装置の重量を低減し、エネルギー効率を高める。
好適な実施形態においては、コイルの高さは約5mm乃至30mmの範囲内であって、好適には、約9mm乃至23mmの範囲内である。それらの実施形態は、ウェーハステッパで用いるために最適化され、大きい力及び高勾配の組み合わせを提供し、勾配は。パワー損失当たりの力の平方根である。
コイルの中央にホールセンサアレイを位置付けることは有利であることが判明した。ホールセンサアレイは、磁束を測定するために非常に便利である。それらの測定から、コイル部分に対する磁石部分の位置が決定される。少なくとも2つのホールセンサアレイの情報に基づいて、どのコイルにどれ位の電流レベルが与えられるべきかが決定される。コイルの中央にホールセンサアレイを位置付けることにより、そのホールセンサアレイは、更なる空間の必要性を伴うことなく、最適な測定精度のために磁石に対してできるだけ近くに置かれる。
好適には、干渉計システムの構成要素は、干渉計システムの光ビームを反射するために第1部分の垂直な辺におけるミラー及び/又はプリズムである。ミラー及び/又はプリズム並びにそれらの数をどのように選択するべきかは、実際の幾何学的構成に依存している。
測定データ又は制御信号が交換される必要がある場合、磁石部分における無線通信のための手段、例えば、搬送されるべきオブジェクトのためのデータ関連保持手段又は較正手段を備えることは有利である。好適な通信手段は、例えば、光学的又は容量性である。無線エネルギー伝達が、搬送されるオブジェクトの静電クランピングに適用されることが可能である。また、再充電可能なバッテリを備えることが可能である。
好適には、磁石部分はピックアップコイルを有する。ピックアップコイルは、磁石部分において又は磁石部分内に位置付けられた何れの電子構成要素について電力を受け取るために、信号を送るために又は信号を受け取るために用いられることが可能である。
好適な実施形態においては、装置は、第2部分、即ち、コイル部分に対して移動される2つ以上の第1部分、即ち、磁石部分を有する。そのような構成は、幾つかのオブジェクトが同時に幾つかの位置に連続して伝達される必要がある場合に、特に有用である。
本発明の更なる特徴においては、移動装置は、例えば、オブジェクトステージにおいて用いられるように、6つの自由度を有する平面電気モータにおいて用いられる。
以下、本発明について詳述する。その説明は、図を参照して、非制限的な例示として与えられている。
図1は、磁石システム3により構成される第1部分1と、電気コイルシステム4により構成される第2部分2とを有する国際公開第01/18944A1号パンフレットに記載されている移動装置について示す図である。それらの磁石はキャリア5に固定され、コイルシステムはコイルブロック6に固定されている。第1及び第2部分は互いに対して移動することができる。図1乃至3における例示としての実施例においては、固定部分は、磁石を有するキャリア5により構成され、可動部分はコールブロック6により構成されている。本発明にしたがった移動装置については、磁石システム3の同様の構成が用いられ、第1及び第2部分間の相互作用の基本原理は同様である。
磁石は、以下で説明する様式でキャリア5において配列される。磁石は、X方向に対して平行に伸びている行7及びY方向に対して平行に伸びている列8のパターン状に配列されていて、行の間の間隔及び列の間の間隔は同じである。各々の行において及び各々の列において、第1種類の磁石N及び第2種類の磁石Zは交互に配列されている。第1種類の磁石Nは、キャリアに対して直角に且つ電気コイルシステムを有する第2部分の方に伸びている磁化方向を有する一方、第2種類の磁石Zは、キャリアに対して直角に且つ電気コイルシステムを有する第2部分から遠ざかって伸びている磁化方向を有する。各々の行及び各々の列においては、第3種類の磁石Hは、第1種類の磁石N及び第2種類の磁石Zの各々の対の間に配置されている。列8間に位置付けられている第3種類の磁石Hの磁化方向は、Y方向に対して平行に且つ隣接する第1種類の磁石Nの方に伸びている一方、行7間に位置付けられている第3種類の磁石Hの磁化方向は、X方向に対して平行に且つ隣接する第1種類の磁石Nの方にまた、伸びている。異なる種類の磁石N、Z及びHの磁化方向は矢印により示されている。
電気コイルシステム4は、少なくとも1つの第1種類のコイルCを備え、その第1コイルの電流導体9は磁石の有効磁場において位置付けられ、X方向と45°の角度を有し、そして前記電気コイルシステムはまた、電流導体10を有する少なくとも1つの第2種類のコイルCを備え、その電流導体はまた、磁石の有効磁場において位置付けられ、X方向と45°の角度を有し、そして第1種類のコイルCの電流導体9に対して垂直方向に伸びている。表現“有効磁場における電流導体”は、コイルの一部が、一般には、複数の電流導体が、磁石の磁場において位置付けられていること、そして、有効なローレンツ力が前記部分に影響を与え、その結果、コイルの移動がもたらされることを意味するとして解釈される必要がある。
コイルが磁石システムにおいて移動する様式については、図2を参照して下で説明する。参照番号9、9及び10、10は、コイルC及びCの電流導体をそれぞれ表し、それらのコイルは磁石の磁場において備えられている。電流導体9は、文字Nにより表される磁石の磁場において主に位置付けられる。それらNの磁石の磁化方向は上向きの矢印により示され、即ち、磁石システムに対して直角方向に且つ電流導体9の方に方向付けられている。その磁場の方向は、矢印Bにより示されている。電流が、矢印Iにより示される方向に電流導体9を通って流れる場合、力Fが、関連矢印により示される方向に電流導体において加えられ、その結果、電流導体は、矢印Fの方向に移動を開始しようとする。電流導体9は、参照される磁石Zの磁場において主に位置付けられている。それらのZの磁石の磁化方向は、下向きの、即ち、磁石システムに対して直角に且つ電流導体9から遠ざかる矢印Bにより示されている。電流が、矢印Iにしたがって電流導体9を通って流れる、即ち、電流Iに対して逆に流れる場合、力Fが、関連矢印により示される方向に加えられ、その結果、電流導体は、矢印Fにより示される方向、即ち矢印Fと同じ方向に移動を開始しようとする。同様に、電流導体9及び9に対して直角に配列されている電流導体10及び10は、矢印I及びIにしたがってある電流においてN及びZの磁石の磁場の影響下で、矢印F及びFにより示されている方向に伸びる力の影響を受ける。勿論、電流導体における電流が逆向きになる場合、その力が加えられ、それ故、電流導体の移動はまた、逆向きになる。図3においては、このような力の相互作用について示されている。
電流導体9、10の部分11はまた、第3種類の磁石Hの上及び/又は磁石が存在しない部分、即ち、第1種類の磁石Nと第2種類の磁石Zとの間の部分の上にある(図2の左下部分を参照されたい)。それらの電流導体の部分は磁場Bにおいて位置付けられ、その磁場Bの平均的な方向はX−Y平面に対して実質的に平行に広がっている。図3における電流導体91cをまた参照する。電流Iがこの電流導体を通って流れる場合、上記の電流導体の部分は、X−Y平面に対して垂直な方向、即ち、Z方向において力Fの影響を受ける。電流の方向及び磁石に対する電流導体の位置に応じて、その力は、磁石の方に又は磁石から遠ざかるように方向付けられる。その力が磁石から遠ざかるように方向付けられる場合、この力は浮上力Fと呼ばれ、即ち、その力は電流導体が磁石から遠ざかるように移動する力である。そのような力は、コイルブロックと磁石との間のベアリング機能を与えるように用いられることが可能である。
第1種類の磁石N及び第2種類の磁石Zは形状が正方形である。第3種類の磁石Hは矩形であり、Hの磁石の最も長い側面12はNの磁石及びZの磁石の側面13に隣接し、最も短い側面14の寸法とHの磁石の最も長い側面12の寸法との比は0.25乃至0.5の範囲内にある。これは、最適な解析で分かったように、磁石システムの面積当たり、最も大きい磁場強度をもたらす。
図3は、3つのコイルの2つの集合、即ち、電流導体91a、91b、91c及びリターン電流導体92a、92b、92cを有する第1集合C11と、電流導体93a、93b、93c及びリターン電流導体94a、94b、94cを有する第2集合C21とを示している。両方のコイルの集合は三相電流システムにより供給される。電流導体の長手方向からみて、3つの電流導体の第1集合C11は、3つの電流導体の第2集合C21に対して、磁石の磁極ピッチ16の約半分である距離15だけ移動する。磁石の磁極ピッチ16は、ここでは、同じ種類N及びZの磁石の中心点17及び18のそれぞれが位置付けられる2つの隣接する対角線間の距離を意味すると解釈される。この対策が講じられない場合、変動トルクが、移動中の通電コイルの両方の集合に影響を与え、その変動トルクは、固定部分に対してZ軸の周りの可動部分(磁石を有するキャリア又はコイルブロック)の一種の揺動運動をもたらす。互いに対するコイルの集合の移動によって、この揺動の影響は、トルクがそれら2つのコイルの集合の1つにおいて発生し、そのことは他の集合におけるトルクを補償するために、実質的に低減される。本発明にしたがった移動装置においては、この揺動の影響は、コイルブロック6において振動を生じさせる可能性がある。
電流導体の長さ19は、磁石の磁極ピッチ16のk倍(kは2の倍数である)に略等しいように選択される。その結果、長手方向における電流導体の移動時に、磁場の和は略一定に維持される。このことは、電流導体に影響を与える力の変動が小さくなるようにする。これは、コイル及び位相の数に拘わらず。適用できる。
図4a及び4bは、第1部分、即ち可動磁石部分410及び第2部分、即ち静止コイル部分420を有する本発明にしたがった移動装置を示している(図4aは断面図、図4bは平面図)。本実施例の磁石部分410は、図4において見えない磁石と、キャリア414の上部にミラーブロック412とを有するキャリア414を有し、そのミラーブロックにおいて、1つ又はそれ以上のミラー及び/又は他の光学要素が、磁石部分の位置の高精度測定のための干渉計システム(図4には図示せず)の部分として固定されている。磁石部分410は、固定コイル部分420に対して移動することができる。コイル424は、冷却チャネル426を介して流体冷却されるコイルブロック422において配列されている。図4において理解できるように、コイル424は、90°だけオフセットされた隣接する群の配向を有する3個群に配列されている。当業者は、3個のコイルより多い又は少ない群のような他の構成がまた、可能であることを理解することができるであろう。
図5は、上下を反転させて、磁石部分410を更に詳細に示している。磁石の3種類のN、Z及びHが、図1に関連して説明したように配列されている。
図6は、デュアルステージ構成の従来技術にしたがった移動装置601を示している。長い距離についての第1ステージは、磁石プレート610に対して相対的に移動可能であり、長いストロークのキャリア614に対して固定されているコイル612を有する。電流を供給し、信号及び冷却剤流体を制御するために、長いストロークのキャリア614がケーブルアーム632に取り付けられている。ケーブルアーム632は、移動装置601の移動範囲を制限する。更に、ケーブルスラブ632のケーブルは、磁場をまた有するために、磁石とコイルとの間の相互作用を乱す可能性がある。
長いストロークのキャリアにおいては、短いストロークのステージの一部であるコイルは固定されている。磁石620を有する短いストロークのキャリア624は、コイル622及び長いストロークのキャリア614に対して相対的に移動可能である。短いストロークのステージの位置決めは干渉計システムの支援により制御され、その干渉計システムの2つの光ビーム630が図6に示されている。
図6の移動装置601の複雑度は、1つのみのステージではなく。2つのステージが移動され、位置決めされ、制御されそして冷却される必要があるためにかなり高い。その移動装置は、例えば、高い位置精度が非常に重要であるリソグラフィのために用いられるウェーハ用ステッパにおいて、ウェーハ20を搬送するために半導体工業において用いられる。
それとは対照的に、図7は、例えば、ウェーハ用ステッパにおいて用いられる、本発明にしたがった移動装置701を示している。キャリア714に取り付けられた磁石710を有し、コイルプレート712に対して相対的に移動可能である1つのステージのみを必要とする。十分な加速を与えるために必要な力は、上記のようにホールバッハ磁石の構成を有する特定の磁石構成により与えられる。その移動は、何れのケーブル又はホースにより制限もされないし、乱されもしない。キャリア714は、熱的及び電磁気的に隔絶され、それ故、移動されるべきオブジェクト、例えば、ウェーハ20に決して影響を及ぼさない。位置決め精度は、光ビーム730を用いる干渉計制御ユニット731により達成される。干渉計制御ユニット731は、光源と、この実施例においては、ウェーハ20の位置を決定するために測定データを解析するための処理ユニットに中継される検出器とを有する。光源730は、キャリア714の鉛直側面において反射され、位置の測定のための干渉計制御ユニット731により参照ビームに対して比較される。従来技術に比べて少ない可動部分を有することにより、その移動装置701の信頼性は向上する。
図8は、ウェーハ用ステッパで用いられる、本発明にしたがった移動装置801の詳細を示す図である。主要部分は、再び、固定されているコイル812の配列、及びコイル812に対して移動される磁石810の配列であり、両者の配列については上で説明している。
コイル812はテーブル841に取り付けられている。各々のコイル812の中央には、増幅器856に結合されたホールセンサアレイ854、及びコイル812に対して磁石810の位置を測定するためのホール電極858がある。その位置、力のレベル及び力の方向に応じて、磁石と重なり合っているコイルを電流が流れる。コイル812は、コイル812の直下の冷却体852により冷却される。
キャリア814及びミラーブロック816におけるエレクトロニクスのための電力は、ピックアップコイル851により獲得される。
キャリア814及びミラーブロック816は、弾性要素、この実施例においては、板ばね840により振動及び熱に対して隔絶されている。キャリアは、エレクトロニクスの殆どを有し、ミラーブロックは、ウェーハ20をクランプするクランプ818に支持されている。そのミラーブロックは、リソグラフィ用露光ビームの正しい位置を較正し、チェックするための較正ユニット850を更に支持している。干渉計の探査ビームを反射のために、プリズム832及びミラー833がミラーブロック816の鉛直側面に取り付けられている。
クランプ818及び較正ユニット850は、較正エレクトロニクス864及びクランプエレクトロニクス866により制御される。較正及びクランプ要素864、866は、必要に応じて、ピックアップコイル及び/又はパワーエレクトロニクスの後の蓄電器860により電力供給される。較正及びクランプエレクトロニクス864、866は通信エレクトロニクス868に対して中継する。キャリア814における受信器876及びエミッタ並びに外部の受信器872及びエミッタ874を介して、通信エレクトロニクスは、クランプ、較正及び移動装置の及びそれらのための制御データを外部の制御ユニットと交換する。通信エレクトロニクス868は、クランプ及び較正エレクトロニクス864、866のように電力供給される。本実施例においては、無線通信手段はオプションであり、送信機870、874は発光ダイオードであり、受信器872、876はフォトダイオードである。ピックアップコイル851のみを用いて通信することがまた、可能であることを特記しておく。
電子部品を封止したために、移動装置801を真空中で用いることが可能である。
図9は、所謂、ツインステージ構成のような、コイルプレート912に対して移動される1つのみではない、2つの磁石部分を有する移動装置を示している。この平面図においては、ウェーハクランプ918及び磁石部分912のミラーブロック916がみえる。X、Y及びZ方向に対する空間における位置ばかりでなく、X、Y及びZ軸に対する傾きのような6つの探査ビーム930が、各々の磁石部分910について干渉計システムにより供給される。
ただ1つの磁石部分を有する移動装置は6つの自由度を有し、また、移動装置は3つ以上の磁石部分を有する(磁石部分当たり6つの自由度)ことが可能であることを特記しておく。
このツインステージ構成は、半導体工業において非常に便利である。例えば、左側の磁石部分910におけるウェーハが測定されることが可能である一方、右側の磁石部分910におけるウェーハはリソグラフィ装置の投影ビームに同時に露光されることが可能である。両者の磁石部分910の位置の交換について、図10に示されている。ケーブル及びホースアームに取り付けられた移動コイル部分を有する従来のデュアルステージ構成と比較して、それらの障害の全てを考慮する必要がないために、交換時間が短縮できる。
図9及び10から理解できるように、干渉計システムは、連続測定する必要はない。殆どのアプリケーションについて、磁石部分910の高精度の位置決めにおいてのみの測定で十分である。
図9及び10に示すデュアルステージの移動装置は次のような寸法を有する。ミラーブロック916の長さは420mmである。交換中の両方の磁石部分910間の最小間隔は50mmである(図10を参照されたい)。図4に示すような3個のコイルの群であり、5磁石ピッチに等しいようにコイルプレート912の1つの正方形を取り、2.5個のコイルの群に等しいようにミラーブロックの長さを取る場合、磁性ピッチは31.8mmである。
図11は、リターンプレート111において配列されたN及びZの種類の磁石110を示している。リターンプレートは、磁束を磁石110に戻す。ホールバッハ磁石112を磁石110の間に付加する場合、磁束は、磁束がリターンプレートの側面における磁石110から殆ど出ないように修正される。この効果についてはまた、図12に示している。リターンプレートの高さに対するパワー当たりの加速が、ホールバッハ磁石の有無について測定されたものである。ホールバッハ磁石を有しない場合、パワー当たりの加速は、0mmから略4mmにリターンプレートの高さを増加させることにより増加される。ホールバッハ磁石を有する場合、約2.5mmからリターンプレートの高さが全くない状態にすることにより、パワー当たりの加速は一定に維持される。リターンプレートを省略することにより磁石部分の重みを減少させることによって、一部のパラメータが改善されることができる場合、パワー当たりの加速に関する負の影響はない。ホールバッハ磁石を用いることにより、ホールバッハ磁石を用いない磁石配列に比べて、低いリターンプレートの高さについて、パワー当たりの加速における一般増加は約25%及びそれ以上であることを特記しておく。
本発明にしたがって移動装置を最適化するための他のパラメータについて、図13に示している。プレートにおける移動の力、X−Y平面及び急峻度が、図9及び10に示す装置を用いてコイル高さの変化について測定されたものである。そのグラフから理解できるように、最適の大きい力及び大きい急峻度の組み合わせは、約5mm乃至30mmの範囲内であり、好適には、9mm乃至25mmの範囲内であり、測定装置についての最適の組み合わせは約22mmである。
上記においては、本発明の幾つかの好適な実施形態について説明しているが、当業者は、本発明の主旨及び範囲から逸脱することなく、多くの変形、変更及び代替が実施可能であることを理解することができるであろう。それ故、本発明については、同時提出の特許請求の範囲における適切な範囲内の何れの様式又は変形において権利主張することができる。例えば、複数の独立請求項の特徴の複数の組み合わせが、本発明の範囲から逸脱することなく、従属請求項の特徴と共に成されることが可能である。
磁石システム及び電気コイルシステムを有する従来技術にしたがった移動装置の平面図である。 図1の詳細な平面図である。 図1に示す移動装置の断面図である。 本発明にしたがった移動装置の模式図である。 本発明にしたがった移動装置の模式図である。 図4の移動装置の磁石部分の模式図である。 従来技術にしたがった移動装置の断面図である。 本発明にしたがった移動装置の断面図である。 本発明にしたがった移動装置の詳細な断面図である。 第1位置における本発明にしたがった移動装置の他の実施形態の模式的な平面図である。 第2位置における図9の移動装置の模式的な平面図である。 本発明にしたがった移動装置の磁石部分の特定の特徴を示す図である。 リターンプレートの高さに対するパワー当たりの加速のプロットを示す図である。 コイルの高さに対する力及び急峻度のプロットを示す図である。

Claims (12)

  1. 少なくともX方向及び該X方向に対して垂直方向のY方向に互いに対して移動することができる第1部分及び第2部分を有する移動装置であって、
    前記第1部分は、前記X方向及び前記Y方向に対して実質的に平行に伸びているキャリアであって、前記キャリアにおいて、磁石システムは、あるパターン又はX方向に平行に伸びている行及びY方向に平行に伸びている列にしたがって固定され、前記行の間及び前記列の間の距離は等しい、キャリアと、前記キャリアに対して直角に且つ前記第2部分の方に向かって伸びている磁化方向を有する第1種類の磁石、及び前記キャリアに対して直角に且つ第2部分から遠ざかる方に向かって伸びている磁化方向を有する第2種類の磁石であって、各々の行及び各々の列において交互に配列されている、第1種類の磁石及び第2種類の磁石と、前記第1種類及び前記第2種類の近接している磁石の各々の対の間の各々の列において配列されている第3種類の磁石であって、該第3種類の磁石は、Y方向に平行に且つ前記第1種類の磁石の方に向かって伸びている磁化方向を有する、第3種類の磁石と、を有し、
    前記第2部分は、前記磁石システムの磁場において位置付けられ、前記X方向と実質的に45°の角度を有する電流導体を有する少なくとも1つの第1種類の電気コイルを有し、前記磁石システムの磁場においてまた、位置付けられ、前記X方向と実質的に45°の角度を有する電流導体を有する少なくとも1つの第2種類の電気コイルを有する、電気コイルシステムを備え、前記電流導体は前記第1電気コイルの前記電流導体に対して垂直方向に伸びていて、第1部分の磁石の各々の行においてまた、前記第3種類の磁石は前記第1種類及び前記第2種類の近接している磁石の各々の対の間に配列され、前記第3種類の磁石は、前記X方向に平行に且つ前記第1種類の磁石の方に向かって伸びている磁化方向を有し、
    前記第2部分は静止していて、前記第1部分はセンチのオーダーの又はそれ以上の範囲に亘って前記第2部分に対して相対的に移動可能であり、
    前記移動装置は、移動可能な前記第1部分の正確な位置決めのための干渉計システムを更に有する、
    ことを特徴とする移動装置。
  2. 請求項1に記載の移動装置であって、前記第1種類及び前記第2種類の磁石は同じ側面の正方形形状を有し、前記第3種類の磁石は矩形の側面の形状を有し、前記第3種類の磁石の最も長い側面は前記第1種類及び前記第2種類の磁石の側面に隣接し、前記第1種類及び前記第2種類の磁石の側面と同じ長さである、ことを特徴とする移動装置。
  3. 請求項2に記載の移動装置であって、前記第3種類の磁石の最も短い側面の寸法の前記最も長い側面の寸法に対する比は0.25乃至0.50の範囲内にあることを特徴とする移動装置。
  4. 請求項1乃至3の何れか一項に記載の移動装置であって、前記電流導体が有効な磁場において位置付けられている、前記コイルの前記電流導体の長さは、前記磁石の磁極ピッチのk倍に略等しく、ここで、kは2の倍数の何れかの数であり、前記磁石の前記磁極ピッチは、前記第1種類及び前記第2種類の同じ種類の磁石の中心点のそれぞれが位置している2つの隣接する対角線間の距離として定義される、ことを特徴とする移動装置。
  5. 請求項1乃至4の何れか一項に記載の移動装置であって、前記第1部分は、約5mm又はそれ以下の、好適には、約3mm又はそれ以下の高さのリターンプレートを有する、ことを特徴とする移動装置。
  6. 請求項1乃至5の何れか一項に記載の移動装置であって、前記コイルの高さは、約15mm乃至30mmの範囲内、好適には、約19mm乃至23mmの範囲内にある、ことを特徴とする移動装置。
  7. 請求項1乃至6の何れか一項に記載の移動装置であって、ホールセンサがコイルの中央に位置している、ことを特徴とする移動装置。
  8. 請求項1乃至7の何れか一項に記載の移動装置であって、前記干渉計システムの構成要素は、前記干渉システムの光ビームを反射させるために前記第1部分の鉛直側面におけるミラー及び/又はプリズムである、ことを特徴とする移動装置。
  9. 請求項1乃至8の何れか一項に記載の移動装置であって、前記第1部分は無線データ通信のための手段を有する、ことを特徴とする移動装置。
  10. 請求項1乃至9の何れか一項に記載の移動装置であって、前記第1部分はピックアップコイルを有する、ことを特徴とする移動装置。
  11. 請求項1乃至10の何れか一項に記載の移動装置であって、2つ以上の第1部分を有する、ことを特徴とする移動装置。
  12. 6つの自由度を有する平面電気モータにおいて使用する請求項1乃至11の何れか一項に記載の移動装置。
JP2007550900A 2005-01-17 2006-01-10 移動装置 Active JP5422126B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP05100237.6 2005-01-17
EP05100237 2005-01-17
PCT/IB2006/050088 WO2006075291A2 (en) 2005-01-17 2006-01-10 Displacement device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008527964A true JP2008527964A (ja) 2008-07-24
JP5422126B2 JP5422126B2 (ja) 2014-02-19

Family

ID=36580017

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007550900A Active JP5422126B2 (ja) 2005-01-17 2006-01-10 移動装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7948122B2 (ja)
EP (1) EP1842101B1 (ja)
JP (1) JP5422126B2 (ja)
KR (1) KR20070099609A (ja)
CN (1) CN100541337C (ja)
TW (1) TW200639589A (ja)
WO (1) WO2006075291A2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012212876A (ja) * 2011-03-30 2012-11-01 Asml Netherlands Bv 平面モータおよび平面モータを備えるリソグラフィ装置

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100259768A1 (en) 2007-10-19 2010-10-14 Koninklijke Philips Electronics N.V. Displacement device with precision measurement
US8492934B2 (en) * 2009-03-23 2013-07-23 Nikon Corporation Coil variations for an oval coil planar motor
DE102011100153A1 (de) 2011-04-29 2012-10-31 Physik Instrumente GmbH & Co. KG Anordnung eines planaren 6D-Positionierers
US9030057B2 (en) * 2011-06-24 2015-05-12 Nikon Corporation Method and apparatus to allow a plurality of stages to operate in close proximity
EP4033645A1 (en) 2011-10-27 2022-07-27 The University of British Columbia Displacement devices and methods for fabrication, use and control of same
US9778579B2 (en) 2011-11-10 2017-10-03 Nikon Corporation System and method for controlling a temperature of a reaction assembly
CN102607391B (zh) * 2012-03-01 2014-06-18 清华大学 一种平面电机动子位移的测量方法
CN104364881A (zh) * 2012-04-13 2015-02-18 株式会社尼康 移动体装置、曝光装置以及器件制造方法
CN103795296B (zh) * 2012-11-02 2016-04-20 上海微电子装备有限公司 一种磁浮平面电机
US9921495B2 (en) * 2013-01-23 2018-03-20 Nikon Corporation Magnetic sensor calibration and servo for planar motor stage
US10451982B2 (en) 2013-01-23 2019-10-22 Nikon Research Corporation Of America Actuator assembly including magnetic sensor system for vibrationless position feedback
CN105452812B (zh) * 2013-08-06 2019-04-30 不列颠哥伦比亚大学 移位装置以及用于检测和估计与其相关联的运动的方法和设备
ES2597780T3 (es) * 2014-04-09 2017-01-23 Magcam Nv Dispositivos y métodos para determinar un campo magnético
WO2015179962A1 (en) 2014-05-30 2015-12-03 The University Of British Columbia Displacement devices and methods for fabrication, use and control of same
WO2015184553A1 (en) 2014-06-07 2015-12-10 The University Of British Columbia Methods and systems for controllably moving multiple moveable stages in a displacement device
EP3155712A4 (en) 2014-06-14 2018-02-21 The University Of British Columbia Displacement devices, moveable stages for displacement devices and methods for fabrication, use and control of same
TWI676227B (zh) 2015-01-23 2019-11-01 美商應用材料股份有限公司 半導體工藝設備
WO2017004716A1 (en) 2015-07-06 2017-01-12 The University Of British Columbia Methods and systems for controllably moving one or more moveable stages in a displacement device
JP2019502341A (ja) * 2015-11-05 2019-01-24 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 磁石アレイ、電気コイルデバイス、変位システム、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法
CN105487343A (zh) * 2016-01-14 2016-04-13 哈尔滨工业大学 基于平面光栅测量的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105629676A (zh) * 2016-01-14 2016-06-01 哈尔滨工业大学 基于回转平衡质量的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105511234A (zh) * 2016-01-14 2016-04-20 哈尔滨工业大学 基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
KR101792390B1 (ko) * 2016-02-01 2017-11-01 연세대학교 산학협력단 정밀 공간 운동기
CN109789977B (zh) 2016-10-05 2021-07-23 莱特拉姆有限责任公司 线性电机输送机系统
US10926418B2 (en) 2017-03-27 2021-02-23 Planar Motor Incorporated Robotic devices and methods for fabrication, use and control of same
DE102017003120A1 (de) 2017-03-30 2018-10-04 Nils Dreifke Planares Transportsystem und Verfahren zum gleichzeitigen, unabhängigen Handhaben von Objekten
JP7177785B2 (ja) 2017-05-02 2022-11-24 レイトラム,エル.エル.シー. ブラシレス直流モータによって駆動されるトレイコンベヤ
DE102017109510A1 (de) * 2017-05-03 2018-11-08 Technische Hochschule Mittelhessen Mehrkoordinatenaktor
BR112019024517A2 (pt) 2017-06-19 2020-06-23 Laitram, L.L.C. Transportador de monotrilho e transportador de monotrilho contínuo
EP3681830A4 (en) 2017-09-13 2021-06-23 Laitram, LLC SINGLE RAIL TRAY CONVEYOR WITH PASSIVE GUIDE RAILS
DE102017219306A1 (de) 2017-10-27 2019-05-02 Robert Bosch Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Spulenanordnung, Spulenanordnung und Stützkörper
US10654660B2 (en) 2018-01-31 2020-05-19 Laitram, L.L.C. Hygienic magnetic tray and conveyor
US10807803B2 (en) 2018-01-31 2020-10-20 Laitram, L.L.C. Hygienic low-friction magnetic tray and conveyor
DE102018203667A1 (de) 2018-03-12 2019-09-12 Robert Bosch Gmbh Verfahren zur automatisierten Bewegungsplanung bei einem Planarantrieb
DE102018118004B3 (de) * 2018-07-25 2019-11-07 Beckhoff Automation Gmbh Statoreinheit
KR102664423B1 (ko) 2018-10-04 2024-05-10 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 이송 시스템
CN112840542A (zh) 2018-10-13 2021-05-25 普拉那汽车公司 用于识别磁性动子的系统和方法
CN109660064B (zh) * 2019-01-29 2024-05-17 苏州隐冠半导体技术有限公司 一种基于混合位移传感器和平面电机的位移装置
EP3883103A1 (de) 2020-03-19 2021-09-22 Beckhoff Automation GmbH Planarantriebssystem, verfahren zum betreiben eines planarantriebssystems und stator zum antreiben eines läufers
US11521870B2 (en) 2020-07-08 2022-12-06 Applied Materials, Inc. Annealing chamber
CN112436711B (zh) * 2020-11-12 2022-03-11 复旦大学 位移装置
US11958694B2 (en) * 2022-03-11 2024-04-16 Laitram, L.L.C. Magnetic XY sorting conveyor

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2596793Y2 (ja) * 1993-07-16 1999-06-21 日本トムソン株式会社 リニア直流モータ
JP2001526878A (ja) * 1997-04-28 2001-12-18 ウルトラテック ステッパー,インコーポレイテッド 6自由度を有する磁気的に位置決めされたx−yステージ
JP2003509992A (ja) * 1999-09-02 2003-03-11 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 変位装置
JP2003092808A (ja) * 2001-09-20 2003-03-28 Hitachi Kiden Kogyo Ltd リニアモータ
JP2004254489A (ja) * 2002-12-27 2004-09-09 Canon Inc 位置決め装置、及びその位置決め装置を利用した露光装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3635401A1 (de) 1986-10-15 1988-04-28 Licentia Gmbh Schaltungsanordnung zur rueckspeisung von beschaltungsenergie eines abschaltbare halbleiterbauelemente aufweisenden wechselrichters
US6020964A (en) * 1997-12-02 2000-02-01 Asm Lithography B.V. Interferometer system and lithograph apparatus including an interferometer system
US7170241B1 (en) * 1998-02-26 2007-01-30 Anorad Corporation Path module for a linear motor, modular linear motor system and method to control same
US6208045B1 (en) * 1998-11-16 2001-03-27 Nikon Corporation Electric motors and positioning devices having moving magnet arrays and six degrees of freedom
US6265839B1 (en) * 1999-11-10 2001-07-24 Howard Layton Hoist transfer drive system having X and Y-linear motors
US6452292B1 (en) * 2000-06-26 2002-09-17 Nikon Corporation Planar motor with linear coil arrays
US20030169412A1 (en) * 2002-03-08 2003-09-11 Hazelton Andrew J. Reaction frame for a wafer scanning stage with electromagnetic connections to ground

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2596793Y2 (ja) * 1993-07-16 1999-06-21 日本トムソン株式会社 リニア直流モータ
JP2001526878A (ja) * 1997-04-28 2001-12-18 ウルトラテック ステッパー,インコーポレイテッド 6自由度を有する磁気的に位置決めされたx−yステージ
JP2003509992A (ja) * 1999-09-02 2003-03-11 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 変位装置
JP2003092808A (ja) * 2001-09-20 2003-03-28 Hitachi Kiden Kogyo Ltd リニアモータ
JP2004254489A (ja) * 2002-12-27 2004-09-09 Canon Inc 位置決め装置、及びその位置決め装置を利用した露光装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012212876A (ja) * 2011-03-30 2012-11-01 Asml Netherlands Bv 平面モータおよび平面モータを備えるリソグラフィ装置
US9172294B2 (en) 2011-03-30 2015-10-27 Asml Netherlands B.V. Planar motor and lithographic apparatus comprising such planar motor

Also Published As

Publication number Publication date
JP5422126B2 (ja) 2014-02-19
CN101107571A (zh) 2008-01-16
WO2006075291A3 (en) 2007-04-12
WO2006075291A2 (en) 2006-07-20
EP1842101B1 (en) 2014-09-17
KR20070099609A (ko) 2007-10-09
US7948122B2 (en) 2011-05-24
CN100541337C (zh) 2009-09-16
TW200639589A (en) 2006-11-16
US20080203828A1 (en) 2008-08-28
EP1842101A2 (en) 2007-10-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5422126B2 (ja) 移動装置
US6661127B2 (en) Displacement device
US6353271B1 (en) Extreme-UV scanning wafer and reticle stages
US9479040B2 (en) High-resolution positioning device
KR20060126605A (ko) 스테이지 장치
US20150241525A1 (en) Dynamic Correction to Remove the Influence of Motor Coil Flux on Hall Sensor Measurement
JP2006510182A (ja) 高い位置正確性で物体を処理するための装置
KR102022788B1 (ko) 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
CN111490642B (zh) 一种基于霍尔效应传感器和平面电机的位移装置
RU2037944C1 (ru) Линейный двигатель и позицирующее устройство, содержащее по меньшей мере один линейный двигатель
US6836033B2 (en) Apparatus for precisely driving X-Y stages using VCM
JP4198338B2 (ja) ステージ装置
CN112262522B (zh) 线性电动机、运输设备和生产设备
US10451982B2 (en) Actuator assembly including magnetic sensor system for vibrationless position feedback
US7319510B2 (en) Stage device, exposure apparatus using the unit, and device manufacturing method
JP2005259738A (ja) 位置決め装置
KR20160014827A (ko) 자기부상 이중서보 스테이지
CN110313120B (zh) 平面的定位装置
JP6865963B2 (ja) プローブユニット及びプリント配線板検査装置
JP2009514489A (ja) 位置測定システムを備えた平型直接駆動装置
JP2005093638A (ja) 微動ステージ

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080502

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090109

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110823

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20111121

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20111129

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120210

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20121009

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130208

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20130219

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20130315

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130925

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131125

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5422126

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250