JP2008525627A - 単一光子重合性プレセラミック高分子組成物および多光子重合性プレセラミック高分子組成物 - Google Patents
単一光子重合性プレセラミック高分子組成物および多光子重合性プレセラミック高分子組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008525627A JP2008525627A JP2007549571A JP2007549571A JP2008525627A JP 2008525627 A JP2008525627 A JP 2008525627A JP 2007549571 A JP2007549571 A JP 2007549571A JP 2007549571 A JP2007549571 A JP 2007549571A JP 2008525627 A JP2008525627 A JP 2008525627A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition
- less
- carbon atoms
- group
- linear
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 0 CC(C)(CCCCCCCCCCCCCCC(C)(C)[S+](*)(*)*N(*)C(C)(C)C1(C)C)N(*)[Si](*)(*)C(C)(C)C(C)(C)N(*=C)C1=O Chemical compound CC(C)(CCCCCCCCCCCCCCC(C)(C)[S+](*)(*)*N(*)C(C)(C)C1(C)C)N(*)[Si](*)(*)C(C)(C)C(C)(C)N(*=C)C1=O 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/60—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/62—Nitrogen atoms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
- C08F283/12—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
- C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
- C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
- C08F290/068—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/452—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing nitrogen-containing sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/54—Nitrogen-containing linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L51/00—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L51/08—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving unsaturated carbon-to-carbon bonds
- C08L51/085—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving unsaturated carbon-to-carbon bonds on to polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L53/00—Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/14—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/16—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D143/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium, or a metal; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D143/04—Homopolymers or copolymers of monomers containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/16—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
Description
a)液体ポリシラザン前駆体と、
b)多官能性アクリレート添加剤と、
c)単一光子光硬化性組成物または多光子光硬化性組成物と、
を含む単一光子反応性組成物または多光子反応性組成物を提供する。
a)液体ポリシラザン前駆体と、
b)多官能性アクリレート添加剤と、
c)i)単一光子光硬化性組成物と、
ii)少なくとも1種の多光子光増感剤および任意に電子受容体と電子供与体の一方または両方を含む多光子光硬化性組成物
の一方または両方を好ましくは含む単一光子光硬化性組成物または多光子光硬化性組成物と、
を含む単一光子反応性組成物または多光子反応性組成物を提供する。
a)i)液体ポリシラザン前駆体と、
ii)多官能性アクリレート添加剤と、
iii)少なくとも1種の多光子光増感剤および任意に電子受容体と電子供与体の一方または両方を含む多光子光硬化性組成物と、
を含む多光子反応性組成物を提供する工程と、
b)前記組成物(好ましくは微細構造化パターンを有する)を、前記組成物を少なくとも部分的に反応させるのに十分な光で画像状に照射する工程と、
c)任意に、少なくとも部分的に反応した前記多光子組成物の可溶性部分を除去する(好ましくは微細構造化プレセラミックポリマーを提供する)工程と、
d)任意に、少なくとも部分的に反応した前記組成物の残りの部分(除去が行われなかった場合、少なくとも部分的に反応した組成物の全体であることが可能である)を、前記ポリシラザンを少なくとも部分的に熱分解させる(好ましくは微細構造化セラミックを提供する)のに十分な時間にわたり高温に供する工程と、
を含む方法を提供する。
a)i)液体ポリシラザン前駆体と、
ii)多官能性アクリレート添加剤と、
iii)単一光子光硬化性組成物と、
を含む単一光子反応性組成物を提供する工程と、
b)前記組成物(好ましくは微細構造化パターンを有する)を、前記組成物を少なくとも部分的に反応させるのに十分な光で画像状に照射する工程と、
c)任意に、少なくとも部分的に反応した前記単一光子組成物の可溶性部分を除去する(好ましくは微細構造化プレセラミックポリマーを提供する)工程と、
d)任意に、少なくとも部分的に反応した前記組成物の残りの部分(除去が行われなかった場合、少なくとも部分的に反応した組成物の全体であることが可能である)を、前記ポリシラザンを少なくとも部分的に熱分解する(好ましくは微細構造化セラミックを提供する)のに十分な時間にわたり高温に供する工程と、
を含む方法を提供する。
この特許出願において用いられる時、
「a」、「an」および「the」は記載されているエレメントの1つ以上の意味するために「少なくとも1つ」と互換可能に用いられる。
「硬化」は、重合を引き起こすこと、および/または架橋を引き起こすことを意味する。
「電子励起状態」は、電磁放射線の吸収を経由して到達できるとともに10-13秒より長い寿命を有する分子の電子基底状態よりエネルギーにおいて高い分子の電子状態を意味する。
「エチレン系不飽和基」は、少なくとも1個の炭素−炭素二重結合を有する部分を意味する。
「ヘテロアルキル」は、好ましくは、酸素、窒素および硫黄である(反応性化学種の反応を)妨害しない少なくとも1個のヘテロ原子を含むアルキル基を意味する。
「露出システム」は光学システムと光源を意味する。
「多光子吸収」は、同じエネルギーの単一光子の吸収によってエネルギー的に到達できない電子励起状態に達するための2個以上の光子の同時吸収を意味する。
「光学システム」は、レンズなどの屈折光学エレメント、鏡などの反射光学エレメントおよび回折格子などの回折光学エレメントから選択された少なくとも1つのエレメントを含む、光を制御するためのシステムを意味する。光エレメントは、ディフューザ、導波路、および光学分野で公知の他のエレメントも含む。
「光化学的に有効な量」は、(例えば、密度、粘度、色、pH、屈折率あるいは他の物理的特性または化学的特性の変化によって証拠となるような)選択された露出条件下で所望の反応を反応性化学種が受けることを可能にするのに十分な量を意味する。
「光開始剤」は、光を吸収し、励起状態に達し、その後、分解して重合開始性化学種を作る電子受容体であることが可能である分子を意味する。
「光増感剤」は、活性化のために光開始剤が必要とするよりも低いエネルギーの光を吸収し、光開始性化学種を作るために光開始剤または電子受容体と相互作用することによって光開始剤を活性化するために必要とされるエネルギーを下げる分子、またはそれ自体が光を吸収することによって光重合を開始させる分子であることを意味する。
「ポリシラザン」は、少なくとも1個のSi−N連結を含む線状、分岐または環状の主鎖の少なくとも1つを有する化合物を意味する。これらの化合物は少なくとも1個のエチレン系不飽和基またはSiH基を含む。
「ポリシロキサザン」は、Si−N連結とSi−O連結の両方を含む線状、分岐または環状の主鎖の少なくとも1つを有する化合物を意味する。簡単のために、本願において、「ポリシラザン」は「ポリシロキサザン」および「ポリウレアシラザン」も含む。
「ポリウレアシラザン」は、少なくとも1個のSi−N連結を含むとともに2個の窒素原子の各々に結合された少なくとも1個のカルボニル基を有する少なくとも1個の線状、分岐または環状の主鎖を有する化合物を意味する。
「同時」は10-14秒以下の時間以内に起きる2つの事象を意味する。
「置換アリール」基は、ハロゲン、アルキル基、ヘテロアルキル基、エチレン系不飽和基の1つ以上などの(反応性化学種の反応を)妨害しない基によって置換されたアリール基を意味する。
「十分な光」は、単一光子吸収または多光子吸収を引き起こすのに十分な強度と適切な波長の光を意味する。
「三次元光パターン」は、光エネルギー分布が体積または多平面に存在し、単一平面に存在しない光学的画像を意味する。
それらのすべてがランダムコポリマー、交互コポリマーまたはブロックコポリマーであることが可能である有用なポリシラザンは式Iによって一般に表される線状ポリシラザンを含む。
本発明は少なくとも1種の多官能性アクリレートを含む。一官能性アクリレートは、架橋密度を下げるために任意に用いることが可能である。一般に好ましいアクリレートは、硬化性化学種、例えば、付加重合性のアクリレートモノマーおよびオリゴマーまたはメタクリレート(以後(メタ)アクリレートとしばしば呼ぶ)モノマーおよびオリゴマーならびにラジカル重合性または架橋性のアクリレートおよびメタクリレートなどの付加架橋性のアクリレートポリマーまたはメタクリレートポリマーならびにそれらの混合物を含む。
光反応性組成物の多光子光硬化性組成物の中で用いるために適する多光子光増感剤は、十分な光に露出された時に少なくとも2個の光子を同時に吸収することができるとともにフルオレセインの好ましくは少なくとも1.5倍の2光子吸収断面積を有する光増感剤である。
光反応性組成物の多光子光硬化性組成物の中で有用な電子供与体化合物は、光増感剤の電子励起状態に電子を供与できる(光増感剤自体以外の)化合物を含む。こうした化合物は、任意に、光開始剤系の多光子感光性を増すために用いてもよく、よって光反応性組成物の光反応を引き起こすために必要とされる露出を減らす。電子供与体化合物は、零より大きく、且つp−ジメトキシベンゼンのそれ以下である酸化電位を好ましくは有する。好ましくは、酸化電位は、標準カロメル電極(「S.C.E」)に対して約0.3〜1ボルトの間である。
光反応性組成物の反応性化学種のために適する電子受容体化合物は、多光子光増感剤の電子励起状態から電子を受容することにより光増感されることができ、よって少なくとも1個のラジカルの形成をもたらす(光増感剤自体以外の)化合物である。こうした電子受容体には、クロロメチル化トリアジン(例えば、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−アリール−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン)、ジアゾニウム塩(例えば、アルキル、アルコキシ、ハロまたはニトロなどの基で任意に置換されたフェニルジアゾニウム塩)、スルホニウム塩(例えば、アルキル基またはアルコキシ基で任意に置換され、隣接アリール部分を橋架けする2,2’−オキシ基を任意に有するトリアリールスルホニウム塩)、アジニウム塩(例えば、N−アルコキシピリジニウム塩)およびトリアリールイミダゾリルダイマー(好ましくは、アルキル、アルコキシまたはハロなどの基で任意に置換された2,2’,4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,1’−ビイミダゾールなどの2,4,5−トリフェニルイミダゾリルダイマー)など、ならびにそれらの混合物が挙げられる。
単一光子光硬化性組成物は、一成分系、二成分系または三成分系であることが可能である。一成分系は光化学的に有効な量の少なくとも1種の一光子光開始剤を含む。こうした化合物の例には、電磁スペクトルの紫外線部分または可視部分の波長を有する放射線に露出されたときにラジカル源を発生させるラジカル光開始剤が挙げられる。
本発明において有用な反応性化学種(すなわち、ポリシラザンおよびアクリレート)、多光子光増感剤、電子供与体化合物および電子受容体化合物は、上述した方法および引用された参考文献における方法によって、または技術上知られている他の方法によって調製することが可能であり、多くは市販されている。本発明の成分は、組み合わせのいずれかの順序および組み合わせの方式(任意に、攪拌あるいはかき混ぜ)を用いて「安全光」条件下で組み合わせることが可能である。但し、光開始剤(電子受容体)を最後(そして、他の成分の溶解を促進するために任意に用いられるあらゆる加熱工程後)に添加することが時には好ましい(保存寿命および熱安定性の観点から)。溶媒が認め得るほどに組成物の成分と反応しないように選択されるかぎり、必要ならば溶媒を用いることが可能である。適する溶媒には、例えば、アセトン、ジクロロメタンおよびアセトニトリルが挙げられる。反応性化学種自体も他の成分のための溶媒として時には作用することが可能である。
単一光子光反応性組成物は、接触リトグラフィまたは投影リトグラフィ(例えば、W.モロー(W.Moreau)著「半導体リトグラフィ:原理、実施および材料(Semiconductor Lithography:Principles,Practices,and Materials)」(第三版),プレナム・プレス(Plenum Press):New York,1991年を参照すること)などの標準フォトリトグラフィを用いて光パターン化することが可能である。光源は、化学線(すなわち、光反応プロセスを開始できる放射線)を生じさせるいかなる光源であることも可能であり、光反応性組成物の中で用いられる光開始剤または光増感剤のために適切な波長で十分な強度を提供する実際上いかなる光源であることも可能である。こうした波長は、一般に電磁スペクトルの紫外線部分または可視光部分にあり、約150〜約800nm、好ましくは約200〜約600nm、より好ましくは約240〜約500nmの範囲内であることが可能である。露出時間は、画像形成を引き起こすために用いられる露出システムのタイプ(開口率、光強度空間分布の幾何形状および平均光強度などのその随伴変数)に応じて、および露出された光反応性組成物の性質に応じて一般に異なる。
多光子硬化のために有用な露出システムは、少なくとも1つの光源(通常はパルスレーザ)および少なくとも1つの光学エレメントを含む。適する光源には、例えば、アルゴンイオンレーザ(例えば、コヒーレント・インノバ(Coherent Innova))によって送り込まれたフェムト秒近赤外チタンサファイアオシレータ(例えば、コヒーレント・ミラ・オプティマ(Coherent Mira Optima)900−F、カリフォルニア州サンタクララの(Santa Clara,CA))を含む。76MHzで作動するこのレーザは、200フェムト秒未満のパルス幅を有し、700nmと980nmとの間で整調可能であり、1.4ワット以下の平均出力を有する。しかし、実際には、(光反応性組成物の中で用いられる)光増感剤のために適切な波長で(多光子吸収を引き起こすのに)十分な強度を提供するいかなる光源も用いることが可能である(こうした波長は、一般に約300〜約1500nm、好ましくは約600〜約1100nm、より好ましくは約750〜約850nmの範囲内であることが可能である。ピーク強度は、一般に少なくとも約106W/cm2から推移することが可能である。パルス流束量の上限は光反応性組成物の消耗限界によって一般に決定される)。例えば、Q−交換Nd:YAGレーザ(例えば、スペクトル−フィジックス・クオンタ−レイPRO(Spectra−Physics Quanta−Ray PRO)、カリフォルニア州マウンテンビュー(Mountain View,CA))、可視波長染料レーザ(例えば、スペクトル−フィジックス・クオンタ−レイPRO(Spectra−Physics Quanta−Ray PRO)によって送り込まれたスペクトル−フィジックス・シラ(Spectra−Physics Sirah)およびQ−交換ダイオードポンプレーザ(例えば、スペクトル−フィジックス・FCbar(Spectra−Physics FCbar)(登録商標))も用いることが可能である。好ましい光源は、約10-8秒未満(より好ましくは約10-9秒未満、最も好ましくは約10-11秒未満)のパルス長を有する近赤外パルスレーザである。上述したピーク強度およびパルス流束量の基準を満たす限り他のパルス長を用いることが可能である。
これらの耐熱性材料に関する代表的な用途には、独立して用いることができるか、またはミクロエレクトロメカニカルシステムなどの他のシステムに統合することができるミクロ燃焼器、ミクロ熱交換器、センサーおよびアクチュエータシステム、ミクロ流体素子およびミクロオプティックスシステムなどのパターン化セラミックデバイスが挙げられる。高温に耐えることができるセラミックスは、セラミックスの優れた熱特性、耐腐食性および耐薬品性、高い弾性率および硬度のゆえに従来の高分子材料の良好な代替品である。
特に注記がない限り、脱酸素された乾燥溶媒および乾燥試薬と合わせて乾燥窒素雰囲気下ですべての手順を行った。特に注記がない限り、すべての溶媒および試薬はウィスコンシン州ミルウォーキーのアルドリッチ・ケミカル・カンパニー(Aldrich Chemical Co.(Milwaukee,WI))から購入したか、または購入することが可能である。
「VL20」は、ペンシルバニア州ハンチングドンバレーのKiONコーポレーション(KiON Corporation(Huntingdon Valey,PA))から購入したVL20硬化性ポリシラザンを意味する。
「Dye1」は、多光子増感性染料であるビス−[4−(ジフェニルアミノ)スチリル]−1−(2−エチルヘキシルオキシ),4−(メトキシ)ベンゼンを意味する。
「TMPTA」はトリメチロールプロパントリアクリレートを意味する。
「ITX」は、ニューヨーク州タリータウンのチバ・スペシャルティ・ケミカルズ(Ciba Specialty Chemicals(Tarrytown,NY))から入手できるダロキュア(DAROCURE)ITXを意味する。
「イルガキュア(IRGACURE)819」は、ニューヨーク州タリータウンのチバ・スペシャルティ・ケミカルズ(Ciba Specialty Chemicals(Tarrytown,NY))から入手できるビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシドを意味する。
米国特許第5,189,136号明細書の手順により本質的に調製された2,5−ビス(クロロメチル)−1−メトキシ−4−(2−エチルヘキシルオキシ)ベンゼン(28.26g)とトリエチルホスファイト(37.4g)の混合物を加熱して6時間にわたり還流させた。冷却後、生成物を高真空下で加熱して残留トリエチルホスファイトを除去した。濃い油を得、それは数日後にゆっくり結晶化し、特に精製せずに以下の工程で用いた。濃い油(11.60g)、4−ジフェニルアミノベンズアルデヒド(12.34g)および乾燥テトラヒドロフラン(400mL)の混合物にカリウムt−ブトキシド(テトラヒドロフラン中の1.0M、44mL)を滴下した。混合物を室温で3時間にわたり攪拌し、その後、溶媒を真空下で除去した。水(100mL)を残留物に添加し、混合物を塩化メチレンで数回抽出した。組み合わせ有機層をブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、溶媒を真空下で除去した。30/70塩化メチレン/ヘキサンを用いるシリカゲル上でのカラムクロマトグラフィによって粗製品を精製して、14.44gのDye1、ビス−[4−(ジフェニルアミノ)スチリル]−1−(2−エチルヘキシルオキシ),4−(メトキシ)ベンゼンを鮮明な緑色の固体としてもたらした。構造をスペクトル分析によって確認した。
2光子重合によるポリ(ビニルシラザン)の硬化
各スライドに接着させた接着剤テープ(スコッチ(SCOTCH)810マジックテープ(登録商標)、ミネソタ州セントポールのスリーエム・カンパニー(3M Company(St.Paul,MN))から入手できる)の約1cm離れた2つの細片の間の3つのきれいなガラス顕微鏡スライドの各々の上にVL20(2.00g)、TMPTA(0.30g)、ITX(0.040g)Dye1(0.011g)およびジクロロメタン(0.26g)の混合物の数滴を置いた。次いで、ガラスカバースリップが各混合物の上に置かれた。800nmの波長、公称パルス幅45fs、80MHzのパルス反復速度および約1.5mmのビーム径で動作するダイオードポンプTi:サファイアレーザ(カリフォルニア州マウンテンビューのスペクトル−フィジックス(Spectra−Physics(Mountain View,CA)))を用いて2光子重合を行った。光学縦列は、低分散ターニングミラー、ビームエキスパンダ、光学能を変えるための光学アテニュエータ、シャッターとしての音響光学変調器および垂直z軸段上に据えられたコンピュータ制御2軸(x−y軸)ガルボミラー走査システムからなっていた。100Xの油浸漬プランフルオライト(Plan Fluorite)顕微鏡対物レンズ(開口率1.4、ニューヨーク州メルビルのニコン・インストルメンツ・インコーポレーテッド(Nikon Instruments,Inc.(Melville,NY))を用いて、レーザ光をサンプルに焦点を合わせた。顕微鏡対物レンズの位置を調節して、ポリマー組成物とガラススライドの界面に焦点を設定した。コンピュータコントロール下で、焦点合わせされたレーザをラスターして、幅約100マイクロメートルの一連のバーを形成させた。レーザの走査速度を0.67mm/秒から43mm/秒まで変え、レーザの平均出力を約7mWから約12mWまで変えて、平均出力の関数として限界書き込み速度を決定した。限界書き込み速度は、以下で記載する現像工程後に無傷のままである重合済み構造を提供する所定の平均出力での最大走査速度である。サンプルのレーザへの露出後、各サンプルを現像した。各ガラススライドをアセトンで洗浄して、未重合ポリ(ビニルシラザン)を除去した。各ガラススライドを室温で空気中で乾燥させた後、光学顕微鏡を用いて、それぞれを検査した。データを表1に示している。
1光子重合済みポリ(ビニルシラザン)−アクリレート組成物からのセラミック構造体
ガラス顕微鏡スライドの片側をノーランド・オプティカル・アドヘシブ(NORLAND OPTICAL ADHESIVE)81(ニュージャージー州クランベリーのノーランド・プロダクツ(Norland Products(Cranbury,NJ))から入手できる)により約500マイクロメートルの厚さで被覆した。被膜から約4インチ(10cm)であったモデル66001ランプハウジング(コネチカット州スタンフォードのオリエル・コーポレーション(Oriel Corp.(Stanford,CT))から入手できる)とモデルUSH−200DPランプ(カリフォルニア州サイプレスのウシオ・アメリカ・インコーポレーテッド(USHIO America,Inc.(Cypress,CA))から入手できる)を含む光源を用いて被膜をシャドーマスクを通して2分にわたり照射した。その後、酢酸エチル中でスライドを洗浄して未硬化接着剤を除去することによりサンプルを現像した。その後、サンプルを空気のストリームの中で約2分にわたり乾燥させて、片側に硬化した接着剤のパターンを有するガラススライドをもたらした。第2のガラススライドをスリーエム・エスペ・エクスプレス(3M ESPE EXPRESS)7301ビニルポリシロキサン歯科用印象材料(ミネソタ州セントポールのスリーエム・エスペ(3M ESPE(St.Paul,MN))から入手できる)で被覆し、エクスプレス(EXPRESS)歯科用印象材料が硬化した接着剤に接触しているように、接着剤を上で硬化させたスライドにこのスライドを押し付けた。スライドを約5分にわたり互いに押し付けられたままにして、歯科用印象材料が硬化することを可能にし、その時間後に、スライドを分離した。硬化した歯科用印象材料は、硬化した接着剤のパターンの逆を保持し、次の工程のための型を提供した。VL20(4.00g)、TMPTA(0.55g)、テトラビニルシラン(1.00g)、白金(II)アセチルアセトネート(0.02g)、イルガキュア(IRGACURE)819(0.01g)、ジクミルペルオキシド(0.04g)およびジクロロメタン(5滴)の混合物をガラススライド上の硬化した歯科用印象材料上に注いで、パターンを混合物で満たした。オリエル(Oriel)ハウジング内のモデルUSH−200DPランプで2分にわたり混合物を照射した。照射を停止した後、サンプルを放置して室温で約3時間にわたり静置した。歯科用印象材料型を硬化したポリシラザン層から注意深く引き剥がした。10℃/分の速度で600℃まで2時間にわたり加熱し、その後、800℃で2時間にわたり加熱し、その後、1000℃で2時間にわたり加熱することにより、硬化したポリシラザン層をモデル3−550炉(コネチカット州ブルームフィールドのネイテック(Neytech(Bloomfield,CT))から入手できる)内で空気中で熱分解させた。サンプルを含む炉を放置して室温に冷却し、セラミック構造体を取り出した。製造されたセラミック構造体は型の正確な複製であった。不活性熱分解用雰囲気を用いて、他の有用なセラミック構造体を製造することが可能である。
Claims (21)
- a)液体ポリシラザン前駆体と、
b)多官能性アクリレート添加剤と、
c)単一光子光硬化性組成物または多光子光硬化性組成物と、
を含む組成物。 - 前記液体ポリシラザン前駆体が、
式I
式II
および式IV
[さらに必要に応じてR1またはR2あるいは両方が式III
によって表される構造を有する]
の1つ以上を有する1個以上の単位を含む、請求項1に記載の組成物。 - 前記ポリシラザン前駆体がポリシロキサザンを含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記ポリシロキサザンが式IV
によって表される構造を有する、請求項4に記載の組成物。 - 前記ポリシラザン前駆体がポリウレアシラザンを含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記アクリレートが、付加重合性のアクリレートモノマーまたはメタクリレートモノマー、付加重合性のアクリレートオリゴマーまたはメタクリレートオリゴマーおよび付加架橋性のアクリレートポリマーまたはメタクリレートポリマーの1つ以上を含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記光硬化性組成物が単一光子光硬化性組成物である、請求項1に記載の組成物。
- 前記光開始剤がラジカル源を含む、請求項9に記載の組成物。
- 前記光硬化性組成物が、多光子光増感剤および任意に電子受容体と電子供与体の一方または両方を含む多光子光硬化性組成物である、請求項1に記載の組成物。
- 前記多光子光増感剤が十分な光に露出された時に少なくとも2個の光子を吸収し、フルオレセインの少なくとも1.5倍の2光子吸収断面積を有する、請求項11に記載の組成物。
- 前記多光子光増感剤が(a)ローダミンB、(b)2個の供与体が共役π(pi)電子橋に連結している分子、(c)1個以上の電子受容性基で置換されている共役π(pi)電子橋に2個の供与体が連結している分子、(d)2個の受容体が共役π(pi)電子橋に連結している分子、および(e)1個以上の電子供与性基で置換されている共役π(pi)電子橋に2個の受容体が連結している分子からなる群から選択される、請求項11に記載の組成物。
- 前記多光子光増感剤がフルオレセイン塩である、請求項11に記載の組成物。
- 前記多光子光増感剤が1個以上の半導体量子ドットを含む、請求項11に記載の組成物。
- 前記半導体量子ドットがセレン化カドミウム(CdSe)、セレン化亜鉛(ZnSe)、硫化カドミウム(CdS)および硫化亜鉛(ZnS)の1つ以上を含む、請求項15に記載の組成物。
- 前記電子受容体がクロロメチル化トリアジン、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、アジニウム塩、トリアリールイミダゾリルダイマーおよびそれらの混合物の1つ以上を含む、請求項11に記載の組成物。
- 前記電子供与体がアミン、アミド、エーテル、ウレア、スルフィン酸およびその塩、フェロシアン化物塩、アスコルビン酸およびその塩、ジチオカルバミン酸およびその塩、キサントゲン酸塩、エチレンジアミン四酢酸塩、(アルキル)n(アリール)mホウ酸(式中、n+m=4)塩、SnR4化合物(式中、各Rは独立してアルキル、アラルキル(特にベンジル)、アリールおよびアルカリール基から選択される)、フェロセンおよびそれらの混合物の1つ以上を含む、請求項11に記載の組成物。
- a)i)液体ポリシラザン前駆体と、
ii)多官能性アクリレート添加剤と、
iii)単一光子光硬化性組成物または多光子光硬化性組成物と、
を含む単一光子反応性組成物または多光子反応性組成物を提供する工程と、
b)前記組成物を、前記組成物を少なくとも部分的に反応させるのに十分な光で画像状に照射する工程と、
c)任意に、少なくとも部分的に反応した前記組成物の可溶性部分を除去する工程と、
d)任意に、少なくとも部分的に反応した前記組成物の残りの部分を、前記ポリシラザンを少なくとも部分的に熱分解させるのに十分な時間にわたり高温に供する工程と、
を含む方法。 - 前記光硬化性組成物が単一光子光硬化性組成物である、請求項19に記載の方法。
- 前記光硬化性組成物が、多光子光増感剤および任意に電子受容体と電子供与体の一方または両方を含む多光子光硬化性組成物である、請求項19に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/024,786 US7297374B1 (en) | 2004-12-29 | 2004-12-29 | Single- and multi-photon polymerizable pre-ceramic polymeric compositions |
PCT/US2005/047182 WO2006071914A2 (en) | 2004-12-29 | 2005-12-27 | Single- and multi-photon polymerizable pre-ceramic polymeric compositions |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008525627A true JP2008525627A (ja) | 2008-07-17 |
JP2008525627A5 JP2008525627A5 (ja) | 2009-01-29 |
Family
ID=36143288
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007549571A Pending JP2008525627A (ja) | 2004-12-29 | 2005-12-27 | 単一光子重合性プレセラミック高分子組成物および多光子重合性プレセラミック高分子組成物 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7297374B1 (ja) |
EP (1) | EP1831271A2 (ja) |
JP (1) | JP2008525627A (ja) |
KR (1) | KR20070089721A (ja) |
CN (1) | CN101124520B (ja) |
WO (1) | WO2006071914A2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016503829A (ja) * | 2013-01-11 | 2016-02-08 | マルチフォトン オプティクス ゲーエムベーハー | 一次構造および/または二次構造の異なる2つの領域を有する層または三次元成形品、成形品の製造方法、およびこの方法を実施するための材料 |
JP2018028042A (ja) * | 2016-08-19 | 2018-02-22 | 信越化学工業株式会社 | 縮合硬化性シリコーン樹脂組成物 |
JP2021167369A (ja) * | 2020-04-09 | 2021-10-21 | 信越化学工業株式会社 | ポリシラザン化合物含有組成物 |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR876M (ja) * | 1960-10-12 | 1961-10-16 | ||
US7582685B2 (en) * | 2004-12-29 | 2009-09-01 | 3M Innovative Properties Company | Multi-photon polymerizable pre-ceramic polymeric compositions |
US8376013B2 (en) | 2008-03-11 | 2013-02-19 | Duke University | Plasmonic assisted systems and methods for interior energy-activation from an exterior source |
DE102007023094A1 (de) * | 2007-05-16 | 2008-11-20 | Clariant International Ltd. | Farbpigmentierte Lackzusammensetzung mit hoher Deckkraft, erhöhter Kratzbeständigkeit und easy to clean Eigenschaften |
CN101795840B (zh) | 2007-09-06 | 2013-08-07 | 3M创新有限公司 | 形成模具的方法以及使用所述模具形成制品的方法 |
JP5801558B2 (ja) | 2008-02-26 | 2015-10-28 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 多光子露光システム |
DE102008001063A1 (de) * | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Herstellung von siliziumhaltigen keramischen Strukturen |
KR101627725B1 (ko) | 2009-02-03 | 2016-06-07 | 삼성전자 주식회사 | 광경화형 화합물 |
US8324324B2 (en) * | 2009-06-30 | 2012-12-04 | 3M Innovative Properties Company | Composition and process for preparing curable organofluorine-modified polysilazanes, and polysilazanes prepared thereby |
US20110021653A1 (en) * | 2009-07-22 | 2011-01-27 | Lixin Zheng | Hydrogel compatible two-photon initiation system |
KR101914793B1 (ko) | 2009-07-30 | 2018-11-02 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 노즐 및 그 제조 방법 |
TWI572389B (zh) | 2009-11-10 | 2017-03-01 | 伊穆諾萊特公司 | 用於產生介質中之改變之儀器組及系統、用於產生光或固化之系統、輻射固化或可固化物品、微波或rf接受器及用於治療或診斷之系統 |
DE102009059777A1 (de) * | 2009-12-09 | 2011-06-16 | Clariant International Ltd. | Acrylnitril-Silazan-Copolymere, insbesondere in Faserform, Verfahren zu deren Herstellung und ihre Verwendung |
EP2516512B1 (en) | 2009-12-22 | 2015-09-23 | 3M Innovative Properties Company | Process for preparing shelf-stable curable polysilazanes, and polysilazanes prepared thereby |
US9041034B2 (en) | 2010-11-18 | 2015-05-26 | 3M Innovative Properties Company | Light emitting diode component comprising polysilazane bonding layer |
WO2012086959A2 (ko) * | 2010-12-20 | 2012-06-28 | 주식회사 동진쎄미켐 | 프린팅 프로세스용 광경화성 수지 조성물 |
CN103459824B (zh) | 2011-02-02 | 2017-06-27 | 3M创新有限公司 | 喷嘴及其制备方法 |
US10406537B2 (en) | 2011-11-02 | 2019-09-10 | 3M Innovative Properties Company | Method of making a nozzle |
US11891341B2 (en) * | 2016-11-30 | 2024-02-06 | Hrl Laboratories, Llc | Preceramic 3D-printing monomer and polymer formulations |
US11535568B2 (en) | 2016-11-30 | 2022-12-27 | Hrl Laboratories, Llc | Monomer formulations and methods for 3D printing of preceramic polymers |
US10590042B2 (en) * | 2017-06-29 | 2020-03-17 | Hrl Laboratories, Llc | Photopolymer resins with solid and liquid phases for polymer-derived ceramics |
US10822460B1 (en) * | 2017-09-06 | 2020-11-03 | Hrl Laboratories, Llc | Formulations for 3D printing of isothiocyanate-modified polysilazanes or polycarbosilanes |
US10851211B1 (en) * | 2017-09-06 | 2020-12-01 | Hrl Laboratories, Llc | Formulations for 3D printing of isocyanate-modified polysilazanes or polycarbosilanes |
WO2020044164A1 (en) | 2018-08-31 | 2020-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Articles including nanostructured surfaces and interpenetrating layers, and methods of making same |
CN109705358A (zh) * | 2018-12-14 | 2019-05-03 | 江南大学 | 一种耐高温可uv固化的聚硅氮烷的制备方法 |
CN110092873A (zh) * | 2019-05-16 | 2019-08-06 | 广东工业大学 | 一种光敏树脂陶瓷及其立体光固化制备方法 |
CN110467468B (zh) * | 2019-09-19 | 2022-02-15 | 广东工业大学 | 一种可光固化聚硅氮烷及其制备方法、SiCN陶瓷及其制备方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63182321A (ja) * | 1987-01-15 | 1988-07-27 | ダウ・コーニング・コーポレーシヨン | ビニルまたはアリル含有プレセラミツク・シラザン重合体の不融性化法 |
JP2000199963A (ja) * | 1999-01-04 | 2000-07-18 | Toagosei Co Ltd | 感光性組成物及びそれを用いたパタ―ン形成方法 |
WO2001044371A1 (fr) * | 1999-12-16 | 2001-06-21 | Asahi Glass Company, Limited | Composition de polysilazane et article moule revetu comportant un objet traite elabore a partir de cette composition |
JP2001296664A (ja) * | 2000-04-12 | 2001-10-26 | Asahi Glass Co Ltd | フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン化されたフォトレジスト膜の形成方法 |
JP2002107937A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-10 | Clariant (Japan) Kk | 層間絶縁膜用感光性組成物及びパターン化層間絶縁膜の形成方法 |
JP2002519212A (ja) * | 1998-06-26 | 2002-07-02 | エス・アール・アイ・インターナシヨナル | 3次元物体の製造 |
JP2006501521A (ja) * | 2002-10-02 | 2006-01-12 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 無機粒子を有する多光子反応性組成物および構造の製造方法 |
JP2006503969A (ja) * | 2002-08-20 | 2006-02-02 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニヴァーシティ オブ コロラド | ポリマー誘導セラミック材料 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3729313A (en) * | 1971-12-06 | 1973-04-24 | Minnesota Mining & Mfg | Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use |
US4642126A (en) * | 1985-02-11 | 1987-02-10 | Norton Company | Coated abrasives with rapidly curable adhesives and controllable curvature |
US5008422A (en) * | 1985-04-26 | 1991-04-16 | Sri International | Polysilazanes and related compositions, processes and uses |
US4652274A (en) * | 1985-08-07 | 1987-03-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive product having radiation curable binder |
US4816497A (en) * | 1986-09-08 | 1989-03-28 | The Dow Corning Corporation | Infusible preceramic silazane polymers via ultraviolet irradiation |
CA1323949C (en) * | 1987-04-02 | 1993-11-02 | Michael C. Palazzotto | Ternary photoinitiator system for addition polymerization |
US4859572A (en) * | 1988-05-02 | 1989-08-22 | Eastman Kodak Company | Dye sensitized photographic imaging system |
FR2693465B1 (fr) * | 1992-07-10 | 1994-09-02 | Aerospatiale Soc Nat Industrielle | Procédé de préparation d'un polysilane réticulé par rayonnement ionisant et procédé de fabrication d'un matériau composite à matrice de polysilane. |
US6025406A (en) * | 1997-04-11 | 2000-02-15 | 3M Innovative Properties Company | Ternary photoinitiator system for curing of epoxy resins |
US5770737A (en) * | 1997-09-18 | 1998-06-23 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Asymmetrical dyes with large two-photon absorption cross-sections |
US5859251A (en) * | 1997-09-18 | 1999-01-12 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Symmetrical dyes with large two-photon absorption cross-sections |
US6245849B1 (en) * | 1999-06-02 | 2001-06-12 | Sandia Corporation | Fabrication of ceramic microstructures from polymer compositions containing ceramic nanoparticles |
US6403750B1 (en) * | 1999-06-03 | 2002-06-11 | Edward J. A. Pope | Apparatus and process for making ceramic composites from photo-curable pre-ceramic polymers |
US6100405A (en) * | 1999-06-15 | 2000-08-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Benzothiazole-containing two-photon chromophores exhibiting strong frequency upconversion |
US7005229B2 (en) * | 2002-10-02 | 2006-02-28 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization method |
DE60138021D1 (ja) | 2000-06-15 | 2009-04-30 | 3M Innovative Properties Co | |
US6852766B1 (en) * | 2000-06-15 | 2005-02-08 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization system |
US7381516B2 (en) * | 2002-10-02 | 2008-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization system |
JP2002260280A (ja) * | 2000-06-28 | 2002-09-13 | Tdk Corp | 光情報媒体およびその評価方法 |
ATE354818T1 (de) * | 2000-08-31 | 2007-03-15 | Az Electronic Materials Usa | Strahlungsempfindliche polysilazan- zusammensetzung, daraus erzeugte muster sowie ein verfahren zur veraschung eines entsprechenden beschichtungsfilms |
US6652978B2 (en) * | 2001-05-07 | 2003-11-25 | Kion Corporation | Thermally stable, moisture curable polysilazanes and polysiloxazanes |
US6750266B2 (en) * | 2001-12-28 | 2004-06-15 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization system |
JP2003275671A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-09-30 | Asahi Glass Co Ltd | ポリシラザンの硬化方法 |
JP4215650B2 (ja) * | 2002-03-26 | 2009-01-28 | Tdk株式会社 | 複合ハードコート層付き物体及び複合ハードコート層の形成方法 |
US7232650B2 (en) * | 2002-10-02 | 2007-06-19 | 3M Innovative Properties Company | Planar inorganic device |
US20080274335A1 (en) * | 2004-12-16 | 2008-11-06 | Regents Of The University Of Colorado | Photolytic Polymer Surface Modification |
-
2004
- 2004-12-29 US US11/024,786 patent/US7297374B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-12-27 WO PCT/US2005/047182 patent/WO2006071914A2/en active Application Filing
- 2005-12-27 EP EP05855696A patent/EP1831271A2/en not_active Withdrawn
- 2005-12-27 JP JP2007549571A patent/JP2008525627A/ja active Pending
- 2005-12-27 CN CN2005800453369A patent/CN101124520B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-27 KR KR1020077014747A patent/KR20070089721A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63182321A (ja) * | 1987-01-15 | 1988-07-27 | ダウ・コーニング・コーポレーシヨン | ビニルまたはアリル含有プレセラミツク・シラザン重合体の不融性化法 |
JP2002519212A (ja) * | 1998-06-26 | 2002-07-02 | エス・アール・アイ・インターナシヨナル | 3次元物体の製造 |
JP2000199963A (ja) * | 1999-01-04 | 2000-07-18 | Toagosei Co Ltd | 感光性組成物及びそれを用いたパタ―ン形成方法 |
WO2001044371A1 (fr) * | 1999-12-16 | 2001-06-21 | Asahi Glass Company, Limited | Composition de polysilazane et article moule revetu comportant un objet traite elabore a partir de cette composition |
JP2001296664A (ja) * | 2000-04-12 | 2001-10-26 | Asahi Glass Co Ltd | フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン化されたフォトレジスト膜の形成方法 |
JP2002107937A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-10 | Clariant (Japan) Kk | 層間絶縁膜用感光性組成物及びパターン化層間絶縁膜の形成方法 |
JP2006503969A (ja) * | 2002-08-20 | 2006-02-02 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニヴァーシティ オブ コロラド | ポリマー誘導セラミック材料 |
JP2006501521A (ja) * | 2002-10-02 | 2006-01-12 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 無機粒子を有する多光子反応性組成物および構造の製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016503829A (ja) * | 2013-01-11 | 2016-02-08 | マルチフォトン オプティクス ゲーエムベーハー | 一次構造および/または二次構造の異なる2つの領域を有する層または三次元成形品、成形品の製造方法、およびこの方法を実施するための材料 |
JP2018028042A (ja) * | 2016-08-19 | 2018-02-22 | 信越化学工業株式会社 | 縮合硬化性シリコーン樹脂組成物 |
US10669422B2 (en) | 2016-08-19 | 2020-06-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Condensation-curable silicone resin composition |
JP2021167369A (ja) * | 2020-04-09 | 2021-10-21 | 信越化学工業株式会社 | ポリシラザン化合物含有組成物 |
JP7321965B2 (ja) | 2020-04-09 | 2023-08-07 | 信越化学工業株式会社 | ポリシラザン化合物含有組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7297374B1 (en) | 2007-11-20 |
WO2006071914A2 (en) | 2006-07-06 |
EP1831271A2 (en) | 2007-09-12 |
CN101124520B (zh) | 2012-11-07 |
CN101124520A (zh) | 2008-02-13 |
US20070254975A1 (en) | 2007-11-01 |
KR20070089721A (ko) | 2007-08-31 |
WO2006071914A3 (en) | 2007-09-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008525627A (ja) | 単一光子重合性プレセラミック高分子組成物および多光子重合性プレセラミック高分子組成物 | |
US7582685B2 (en) | Multi-photon polymerizable pre-ceramic polymeric compositions | |
Jung et al. | Designing with light: advanced 2D, 3D, and 4D materials | |
US20060069176A1 (en) | Polymer derived ceramic materials | |
JP4786858B2 (ja) | 封入光学素子を提供するための多光子硬化 | |
JP4965052B2 (ja) | 3次元光学素子の加工方法 | |
US8846160B2 (en) | Three-dimensional articles using nonlinear thermal polymerization | |
JP2006514711A (ja) | 多光子光増感系 | |
JP2006514709A (ja) | 多光子光増感方法 | |
Cazin et al. | Spatially controlling the mechanical properties of 3D printed objects by dual-wavelength vat photopolymerization | |
Griesser et al. | Cross-linking of ROMP derived polymers using the two-photon induced thiol–ene reaction: Towards the fabrication of 3D-polymer microstructures | |
Houbertz et al. | Investigations on the generation of photonic crystals using two‐photon polymerization (2PP) of inorganic–organic hybrid polymers with ultra‐short laser pulses | |
JP2014517856A (ja) | 改善された多光子撮像解像方法 | |
US10196464B1 (en) | Pre-ceramic monomer formulations for making preceramic polymer waveguides | |
EP1635202B1 (en) | Microfabrication of organic optical elements |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081204 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081204 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110831 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110906 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120214 |