JP2003275671A - ポリシラザンの硬化方法 - Google Patents

ポリシラザンの硬化方法

Info

Publication number
JP2003275671A
JP2003275671A JP2002077661A JP2002077661A JP2003275671A JP 2003275671 A JP2003275671 A JP 2003275671A JP 2002077661 A JP2002077661 A JP 2002077661A JP 2002077661 A JP2002077661 A JP 2002077661A JP 2003275671 A JP2003275671 A JP 2003275671A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polysilazane
curing
coating film
composition
preferable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2002077661A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003275671A5 (ja
Inventor
Satoshi Kondo
聡 近藤
Toshihiko Higuchi
俊彦 樋口
Satoshi Takeda
諭司 竹田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2002077661A priority Critical patent/JP2003275671A/ja
Publication of JP2003275671A publication Critical patent/JP2003275671A/ja
Publication of JP2003275671A5 publication Critical patent/JP2003275671A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】ポリシラザンの硬化を促進する方法を提供す
る。 【解決手段】ポリシラザンおよび光重合開始剤を必須成
分とする組成物(X)を用いて塗膜を形成した後に、該
塗膜に活性エネルギ線を照射することでポリシラザンを
硬化する方法において、活性エネルギ線を照射する前お
よび/または後に、前記塗膜の表面をカバー材で覆う。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、ポリシラザンの硬
化方法に関する。 【0002】 【従来の技術】ポリシラザンの硬化が、活性エネルギ線
の照射により行われること(特開平11−240103
号公報)は知られているが、ポリシラザンの硬化に要す
る時間(赤外スペクトル分析においてSi−Hの吸収ピ
ークが消失するのに要する時間。以下、硬化時間と記
す。)は、硬化触媒が添加されていても5日間以上かか
っていた。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術が有する前述の欠点を解消しようとするものであ
る。すなわち、本発明は、ポリシラザンの硬化時間が短
いポリシラザンの硬化方法を提供することを目的とす
る。 【0004】 【課題を解決するための手段】本発明は、前述の課題を
解決すべくなされたものであり、ポリシラザンおよび光
重合開始剤を必須成分とする組成物(X)を用いて塗膜
を形成した後に、該塗膜に活性エネルギ線を照射してポ
リシラザンを硬化する方法において、活性エネルギ線を
照射する前および/または後に、前記塗膜をカバー材で
覆うことによりポリシラザンの硬化を促進せしめること
を特徴とする、ポリシラザンの硬化方法を提供する。 【0005】 【発明の実施の形態】本発明におけるポリシラザンは、
特開平11−240103号公報の段落番号0097〜
0107に記載されるポリシラザンが好ましく用いられ
る。本発明におけるポリシラザンは、シラザンの単独重
合体でもよく、シラザンと他のモノマとの共重合体でも
よく、ポリシラザンと他の化合物との混合物でもよい。
ポリシラザンとしては、ペルヒドロポリシラザンが好ま
しい。 【0006】ポリシラザンの分子量は数平均分子量で1
00〜5万が好ましく、特に500〜10,000が好
ましい。分子量が上記範囲にあると、ポリシラザンの反
応性に優れ、また、ポリシラザンの安定性がよく良好な
硬化物が得られる。 【0007】本発明における組成物(X)には、光重合
開始剤を含む。該光重合開始剤としては、公知のものを
限定なく使用でき、入手容易な市販のものを使用しても
よい。光重合開始剤は、1種でもよく、2種以上を使用
してもよい。光重合開始剤としては、特開平11−24
0103号公報の段落番号0080〜0085に記載さ
れる光重合開始剤が好ましく用いられる。 【0008】組成物(X)における光重合開始剤の量
は、ポリシラザンの100質量部に対して0.1〜20
質量部が好ましく、特に0.1〜10質量部が好まし
い。 【0009】組成物(X)には、必要に応じて溶剤が含
まれていてもよい。用いる溶剤としては、特に限定され
ず、特開平11−240103号公報の段落番号010
5〜0106に記載される溶剤が好ましく用いられる。 【0010】溶剤を使用する場合、ポリシラザンの溶解
度または溶剤の蒸発速度を調節するために、2種類以上
の溶剤を使用してもよい。溶剤の使用量は、塗膜を形成
する方法、必要な塗膜の厚さ、ポリシラザンの平均分子
量、分子量分布、その構造によって適宜選択される。組
成物(X)における溶剤の割合は、99質量%以下が好
ましく、特に組成物(X)中の固形分濃度が3〜50質
量%の範囲となるように用いるのが好ましい。 【0011】本発明においては、組成物(X)に、硬化
触媒が含まれていてもよい。該硬化触媒としては、特開
平11−240103号公報の段落番号0110〜01
12に記載の触媒が好ましく用いられる。 【0012】本発明においては、組成物(X)に、必要
に応じて適当な充填剤が添加されていてもよい。充填剤
の例としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、マイカ
等の酸化物系無機物、炭化珪素、窒化珪素等の非酸化物
系無機物の微粉等が好ましく挙げられる。また用途によ
ってはアルミニウム、亜鉛、銅等の金属粉末を添加して
もよい。さらに充填剤としては、以下のものが好ましく
挙げられる。 【0013】ケイ砂、石英、ノバキュライト、ケイ藻土
などのシリカ系:合成無定形シリカ:カオリナイト、雲
母、滑石、ウオラストナイト、アスベスト、ケイ酸カル
シウム、ケイ酸アルミニウム等のケイ酸塩:ガラス粉
末、ガラス球、中空ガラス球、ガラスフレーク、泡ガラ
ス球等のガラス体:窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化アル
ミニウム、炭化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ
素、ホウ化チタン、窒化チタン、炭化チタン等の非酸化
物系無機物:炭酸カルシウム:酸化亜鉛、アルミナ、マ
グネシア、酸化チタン、酸化ベリリウム等の金属酸化
物:硫酸バリウム、二硫化モリブデン、二硫化タングス
テン、弗化炭素その他無機物:アルミニウム、ブロン
ズ、鉛、ステンレススチール、亜鉛等の金属粉末:カー
ボンブラック、コークス、黒鉛、熱分解炭素、中空カー
ボン球等のカーボン体等。 【0014】これら充填剤は、針状(ウィスカーを含
む。)、粒状、鱗片状等種々の形状のものを単独または
2種以上混合して用いることができる。また、これら充
填剤の粒子の大きさ(粒子径)は、1回に塗工する層の
厚さよりも小さいことが好ましい。組成物(X)におけ
る充填剤の添加量は、ポリシラザンの1質量部に対して
0.05〜10質量部が好ましく、特に0.2〜3質量
部が好ましい。また、充填剤の表面は、カップリング剤
処理、蒸着、メッキ等で表面処理されていてもよい。 【0015】組成物(X)には、必要に応じて各種顔
料、レベリング剤、潤滑性付与剤、消泡剤、帯電防止
剤、紫外線吸収剤、pH調整剤、分散剤、表面改質剤、
可塑剤、乾燥促進剤、流れ止め剤が添加されていてもよ
い。また、ポリシラザンの硬化をさらに促進する目的
で、パラジウム、プラチナ等の金属錯体が添加されてい
てもよい。 【0016】組成物(X)を用いて塗膜を形成する方法
は、特に限定されず、通常の塗工方法が用いられる。た
とえば、浸漬、ロール塗り、バー塗り、刷毛塗り、スプ
レー塗り、フロー塗り等が好ましく用いられる。 【0017】本発明において、塗膜を形成するのに用い
られる基材は、特に限定されず、金属、セラミックス、
プラスチックス等が好ましく用いられる。塗膜を形成す
る前に、基材に、ヤスリがけ、脱脂、各種ブラスト等で
表面処理しておくと、組成物(X)が付着しやすくなる
ので好ましい。 【0018】本発明において、活性エネルギ線として
は、紫外線、電子線、その他の活性エネルギ線等が使用
でき、紫外線が好ましい。紫外線源としては、特に限定
なく使用できる。 【0019】本発明において、カバー材としては、公知
または周知のものを使用でき、入手しやすい市販のもの
が好ましい。カバー材としては、形状または材料等は限
定されない。形状としては、板状のものを用いてもよ
く、フィルム状のものを用いてもよい。表面への密着し
やすさの点から、フィルム状のものが好ましい。 【0020】カバー材に用いられる材料としては、特に
限定されないが、ポリエチレン、ポリエチレン共重合
体、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、
ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、フッ素樹
脂、ポリカーボネート、ポリアセテート、ポリエステ
ル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン等が好まし
く用いられる。 【0021】本発明において、塗膜の表面をカバー材で
覆う時間は、1時間以上が好ましい。上限の時間は特に
限定されないが、硬化が充分に行われるのに要する時間
が好ましい。たとえば、3ヶ月以下が好ましい。この範
囲であると、硬化が充分に行われ、ポリシラザンは硬化
してシリカになる。 【0022】ポリシラザンの硬化を促進する方法として
は、たとえば次のような方法が好ましい。組成物(X)
を基材の表面に塗工した後、溶媒を蒸発させて表面を指
触乾燥状態にし、活性エネルギ線を照射した後に、その
表面をカバー材で覆い、数日間保持する。 【0023】組成物(X)を用いて形成された塗膜の表
面とカバー材とは、密着しているのが好ましい。密着し
ている(エアトラップ等ができていない)と、硬化が均
等に促進され、均質なシリカが形成されるため好まし
い。そのため、カバー材で覆う際には、スキージ等でエ
アトラップができないように密着被覆するか、またはラ
ミネーター等を用いて密着被覆することが好ましい。 【0024】また、活性エネルギ線の照射前にカバー材
で覆う場合には、該カバー材は活性エネルギ線を透過で
きる材料を選択するのが好ましい。そのような材料とし
ては、フッ素樹脂が好ましい。活性エネルギ線の照射後
にカバー材で覆う場合には、このような制限はない。 【0025】組成物(X)を用いて形成された層の厚さ
は、0.01〜30μmが好ましく、特に0.1〜10
μmが好ましい。この厚さが上記範囲にあると、硬化が
充分行われ、基材との密着性に優れ、硬化物層の耐熱
性、耐摩耗性、耐食性が充分となり好ましい。 【0026】また、基材と該層との間には、別の層が形
成されていてもよい。たとえば、密着性を向上させるた
めの層、他の機能(導電性、帯電防止性等)を発現させ
るための層等が形成されていてもよい。 【0027】本発明の方法によれば、組成物(X)を用
いて形成された塗膜の表面がカバー材で覆われること
で、ポリシラザンの硬化が促進される。ポリシラザンの
硬化が促進される理由は不明であるが、以下のことが推
測される。 【0028】すなわち、組成物(X)を用いて形成され
た塗膜に活性エネルギ線が照射されることにより、光重
合開始剤由来の活性ラジカルがシラザンから水素を引き
抜く反応が起こる。生じたシラザンのラジカルが、該塗
膜に存在する微量の水分と反応して分解し、アンモニア
またはアミンが生成する。そして、該塗膜がカバー材で
覆われていることで、該アンモニアまたはアミンが塗膜
内に閉じこめられ、閉じ込められたアンモニアまたはア
ミンが自己触媒として作用して、ポリシラザンの硬化が
促進される、と考えられる。 【0029】 【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されない。 【0030】[例1]ペルヒドロポリシラザンの20質
量%キシレン溶液(クラリアントジャパン社製、商品名
「N−V110」、ペルヒドロポリシラザンの数平均分
子量:M≒700。)に、ポリシラザンの質量の5%
に相当する量の2−メチル−1−[4−(メチルチオ)
フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オンを加え
て溶解させて塗工液とした。 【0031】厚さ3mmのアクリル板(100mm×1
00mm)に、スピンコータを用いて塗工液を塗工(ウ
エット厚み5μm)して、90℃の熱風循環オーブン中
で1分間保持して溶剤を除去した。これを空気雰囲気
中、高圧水銀灯を用いて1000mJ/cm(波長3
00〜390nm領域の紫外線積算エネルギ量。)の紫
外線を照射し、膜厚1.0μmの指触乾燥した層を形成
した。 【0032】続いて、50μmのポリエチレン製フィル
ムを、スキージを使って表面に密着被覆させ、23℃、
相対湿度50%の環境で1週間保持し、ポリシラザンを
硬化して硬化物を得た。 【0033】得られた硬化物におけるシリカの割合を、
表面のIR測定を用いて評価したところ、2200cm
−1付近のSi−H由来の吸収ピークは完全に消失し、
1060cm−1付近のSi−O由来の吸収ピークが大
きく形成されていた。 【0034】一方、フィルムを用いない以外は上記と同
じ条件にて硬化物を形成したものについて、同様に評価
したところ、2200cm−1付近のSi−H由来の吸
収ピークが残存し、1060cm−1付近のSi−O由
来の吸収ピークはフィルムを密着被覆した場合の半分以
下であった。 【0035】[例2]例1において、「N−V110」
のかわりに、硬化触媒の添加されたポリシラザンの20
質量%キシレン溶液(クラリアントジャパン社製、商品
名「N−L110」、ペルヒドロポリシラザンの数平均
分子量:M≒900。)を用いる以外は、例1と同様
にして硬化物を得た。 【0036】得られた硬化物におきえるシリカの割合
を、例1と同様にして評価したところ、密着被覆して硬
化した硬化物については、2200cm−1付近のSi
−H由来の吸収ピークは完全に消失し、1060cm
−1付近のSi−O由来の吸収ピークが大きく形成され
ていた。 【0037】一方、フィルムを用いないで硬化した硬化
物については、2200cm−1付近のSi−H由来の
吸収ピークが残存し、1060cm−1付近のSi−O
由来の吸収ピークはフィルムを密着被覆した場合の半分
以下であった。 【0038】 【発明の効果】本発明の方法によれば、短い時間でポリ
シラザンを硬化できる。また、その硬化を促進する方法
は、カバー材で塗膜を覆うという簡便な方法である。 【0039】本発明の方法によれば、ポリシラザンの硬
化時間は、硬化触媒が添加されている場合は1〜2日
間、硬化触媒が添加されていなくても1週間程度であ
る。また、カバー材で覆う時間を1日間だけとした場合
でも、その後の硬化が促進されて、硬化時間を短くでき
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4D075 AD06 BB42Z BB46Z BB47Z BB50Z CA02 CA13 CA18 CA33 CA47 DA06 DB01 DB14 DB31 EA07 EA21 EB42 EC37 4J038 DL171 KA03 KA04 PA17 PA21

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】ポリシラザンおよび光重合開始剤を必須成
    分とする組成物(X)を用いて塗膜を形成した後に、該
    塗膜に活性エネルギ線を照射してポリシラザンを硬化す
    る方法において、活性エネルギ線を照射する前および/
    または後に、前記塗膜をカバー材で覆うことによりポリ
    シラザンの硬化を促進せしめることを特徴とする、ポリ
    シラザンの硬化方法。
JP2002077661A 2002-03-20 2002-03-20 ポリシラザンの硬化方法 Withdrawn JP2003275671A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002077661A JP2003275671A (ja) 2002-03-20 2002-03-20 ポリシラザンの硬化方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002077661A JP2003275671A (ja) 2002-03-20 2002-03-20 ポリシラザンの硬化方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003275671A true JP2003275671A (ja) 2003-09-30
JP2003275671A5 JP2003275671A5 (ja) 2005-09-02

Family

ID=29205806

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002077661A Withdrawn JP2003275671A (ja) 2002-03-20 2002-03-20 ポリシラザンの硬化方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003275671A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006071907A1 (en) * 2004-12-29 2006-07-06 3M Innovative Properties Company Multi-photon polymerizable pre-ceramic polymeric compositions
US7297374B1 (en) * 2004-12-29 2007-11-20 3M Innovative Properties Company Single- and multi-photon polymerizable pre-ceramic polymeric compositions
JP2011221470A (ja) * 2010-04-14 2011-11-04 Sony Corp 光学素子、およびその製造方法、表示装置、ならびに太陽電池

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006071907A1 (en) * 2004-12-29 2006-07-06 3M Innovative Properties Company Multi-photon polymerizable pre-ceramic polymeric compositions
US7297374B1 (en) * 2004-12-29 2007-11-20 3M Innovative Properties Company Single- and multi-photon polymerizable pre-ceramic polymeric compositions
US7582685B2 (en) 2004-12-29 2009-09-01 3M Innovative Properties Company Multi-photon polymerizable pre-ceramic polymeric compositions
JP2011221470A (ja) * 2010-04-14 2011-11-04 Sony Corp 光学素子、およびその製造方法、表示装置、ならびに太陽電池

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2997124B2 (ja) ハイドロゲンシルセスキオキサン樹脂からの光画描可能な皮膜
US6183935B1 (en) Inorganic-containing photosensitive resin composition and method for forming inorganic pattern
TW589356B (en) Composition for forming ceramic material and process for producing ceramic material
ES2238457T3 (es) Procedimiento para el revestimiento de chapas.
JP2007517943A (ja) ポリシラザンを基剤とする親水性被覆
JPS6013847A (ja) 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物
JPH09263638A (ja) 放射線硬化性組成物およびこれを用いた硬化物パターンの製造方法
JPWO2012133443A1 (ja) 活性エネルギー線硬化性コーティング用樹脂組成物
CN1091789C (zh) 胶粘剂表面官能团改性方法
JP2003275671A (ja) ポリシラザンの硬化方法
JPH07292321A (ja) コーティング用組成物
JP4014284B2 (ja) ハードコートフィルム
JP2006219607A (ja) 水性の鏡用縁塗り液およびそれを用いた鏡
JP5100077B2 (ja) シリカ膜の製造方法
JP2006188035A (ja) 積層体
JP2000265116A (ja) 耐熱コーティング材料
JP4140705B2 (ja) 塗膜形成方法
JP4892771B2 (ja) ガスバリア性プラスチック成形品およびその製造方法
JP3964165B2 (ja) 光触媒機能を有するハードコートフィルム
JP2005199586A5 (ja)
JPH11181290A (ja) 硬化性組成物およびその硬化方法
JPH03252414A (ja) シリコーン系コーティング用組成物
JP3993330B2 (ja) SiO2系セラミックス膜の形成方法
JP2001322206A (ja) ガスバリア性プラスチック成形品およびその製造方法
JPH11302596A (ja) 有害物質分解性被覆組成物及びこれを塗布した基材

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050309

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050309

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20061207