JP2008521254A - 成形ビーム書き込みシステムにおける臨界寸法均一性に対する低周波数エラーソースを排除する方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】 図3
Description
[0001]本発明の実施形態は、概してリソグラフィおよび電子(または他のエネルギ)ビームカラム、より具体的には可変的成形ビームを使用する書き込み技術に関する。
[0002]リソグラフィ(パターン生成)の分野において、パターン生成システムの正確さを増加させることが望ましいことは周知である。このようなパターン生成システムに対する2つの主な適用は、半導体デバイスを形成するために電子ビームリソグラフィと、ウェーハ上へのパターンのダイレクト電子ビーム書き込みとによる半導体製作で使用するマスクを作ることである。
Claims (22)
- 基板にフラッシュを生成する方法であって、
前記基板にプリントされるパターンの1つ以上のフィギュアを受け取るステップと、
各フィギュアを少なくとも4つの略矩形形状に分解するステップであって、前記4つの略矩形形状が少なくとも1つの水平境界および少なくとも1つの垂直境界によって分離されるステップと、
略矩形形状ごとにフラッシュを生成するステップであって、前記フラッシュが生成されて、各フィギュアの縁が第1のアパーチャの画像であるように各フィギュアを形成するステップと、
を備える方法。 - 前記少なくとも4つの略矩形形状およびこれと関連した情報をフラッシュ生成器に転送するステップをさらに備えており、前記情報が各略矩形形状の各辺を内辺および外辺の一方であると識別するための辺記述子(a side descriptor)と、各略矩形形状の垂直サイズおよび水平サイズと、各略矩形形状の垂直オフセットおよび水平オフセットのうちの少なくとも1つを備えており、内辺がフィギュアの縁に対応しない辺として定義され、外辺がフィギュアの縁に対応する辺として定義される、請求項1に記載の方法。
- 形状偏向器およびベクトル偏向器のうちの少なくとも1つの動作をコントロールする信号を生成するステップをさらに備える、請求項1に記載の方法。
- 前記フラッシュを生成するステップが、前記略矩形形状と関連した前記情報を使用して略矩形形状ごとに前記フラッシュを生成する工程を備える、請求項2に記載の方法。
- 前記アパーチャが下部アパーチャである、請求項1に記載の方法。
- 前記アパーチャが上部アパーチャである、請求項1に記載の方法。
- 前記フラッシュを生成するステップが、前記略矩形形状の前記辺記述子、前記垂直サイズおよび前記水平サイズのうちの少なくとも1つに従って上部アパーチャの画像が下部アパーチャにイメージングされるように電子ビームを成形する工程を備える、請求項2に記載の方法。
- 前記フラッシュを生成するステップが、前記水平オフセットおよび前記垂直オフセットに従って前記成形された電子ビームを移動させる工程を備える、請求項7に記載の方法。
- 前記電子ビームを成形するステップが、前記略矩形形状の右辺が内辺として識別される場合に、前記下部アパーチャに投影された前記画像の右辺が前記下部アパーチャの左辺の右まで水平サイズ距離であるように前記電子ビームを移動させる工程を備える、請求項7に記載の方法。
- 前記電子ビームを成形するステップが、前記略矩形形状の右辺が外辺として識別される場合に、前記下部アパーチャに投影された前記画像の左辺が前記下部アパーチャの右辺の左まで水平サイズ距離であるように前記電子ビームを移動させる工程を備える、請求項7に記載の方法。
- 前記電子ビームを成形するステップが、前記略矩形形状の上辺が内辺として識別される場合に、前記下部アパーチャに投影された前記画像の上辺が前記下部アパーチャの底辺の上垂直サイズ距離であるように前記電子ビームを移動させる工程を備える、請求項7に記載の方法。
- 前記電子ビームを成形するステップが、前記略矩形形状の上辺が外辺として識別される場合に、前記下部アパーチャに投影された前記画像の底辺が前記下部アパーチャの上辺の下垂直サイズ距離であるように前記電子ビームを移動させる工程を備える、請求項7に記載の方法。
- 前記成形された電子ビームを移動させるステップが、前記略矩形形状の上辺が内辺として識別される場合に、前記成形された電子ビームを前記垂直オフセットだけ垂直に移動させる工程を備える、請求項8に記載の方法。
- 前記成形された電子ビームを移動させるステップが、前記略矩形形状の上辺が外辺として識別される場合に、前記成形された電子ビームを前記垂直オフセットから前記下部アパーチャの垂直サイズを引いた分だけ垂直に移動させる工程を備える、請求項8に記載の方法。
- 前記成形された電子ビームを移動させるステップが、前記略矩形形状の右辺が内辺として識別される場合に、前記成形された電子ビームを前記水平オフセットの分だけ水平に移動させる工程を備える、請求項8に記載の方法。
- 前記成形された電子ビームを移動させるステップが、前記略矩形形状の右辺が外辺として識別される場合に、前記成形された電子ビームを前記水平オフセットから前記下部アパーチャの水平サイズを引いた分だけ水平に移動させる工程を備える、請求項8に記載の方法。
- 基板にフラッシュを書き込む装置であって、
パターンの1つ以上のフィギュアを受け取り、各フィギュアを少なくとも4つの略矩形形状に分解するように構成されているデータ処理システムであって、前記略矩形形状が少なくとも1つの水平境界および少なくとも1つの垂直境界によって分離されるデータ処理システムと、
前記データ処理システムに結合されたフラッシュ生成器であって、エネルギビームカラムの1つ以上の偏向器の動作をコントロールする信号を生成するように構成されたフラッシュ生成器と、
第1のアパーチャおよび第2のアパーチャを有するエネルギビームカラムであって、前記フラッシュ生成器に結合され、前記生成された信号に応答して略矩形形状ごとにフラッシュを生成するように構成されており、前記フラッシュが生成されて、各フィギュアの縁が前記第1のアパーチャの画像であるように各フィギュアを形成するエネルギビームカラムと、
を備える装置。 - 前記データ処理システムがさらに、前記少なくとも4つの略矩形形状およびこれと関連した情報を前記フラッシュ生成器に転送するように構成されており、前記情報が、各略矩形形状の各辺を内辺および外辺の一方であると識別する辺記述子と、各略矩形形状の垂直サイズおよび水平サイズと、各略矩形形状の垂直オフセットおよび水平オフセットのうちの少なくとも1つを備えており、内辺がフィギュアの縁に対応しない辺として定義され、外辺がフィギュアの縁に対応する辺として定義される、請求項17に記載の装置。
- 前記エネルギビームカラムが、前記辺記述子、前記垂直サイズおよび前記水平サイズのうちの少なくとも1つに従って前記第2のアパーチャの画像が前記第1のアパーチャに投影されるようにエネルギビームを成形するように構成された形状偏向器を備える、請求項18に記載の装置。
- 前記エネルギビームカラムが、
前記辺記述子、前記垂直サイズおよび前記水平サイズのうちの少なくとも1つに従って前記第2のアパーチャの画像が前記第1のアパーチャに投影されるようにエネルギビームを成形するように構成された形状偏向器と、
前記水平オフセットおよび前記垂直オフセットのうちの少なくとも1つに従って前記成形されたエネルギビームを移動させるように構成されたベクトル偏向器とを備える、請求項18に記載の装置。 - 前記第1のアパーチャが下部アパーチャであり、前記第2のアパーチャが上部アパーチャである、請求項17に記載の装置。
- 前記エネルギビームカラムが、電子ビームカラム、イオンビームカラムおよびレーザビームカラムからなる群より選択される、請求項17に記載の装置。
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