JP2008520532A - 元素状ハロゲン化物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Fe+2HCl→FeCl2+H2、
2Fe+3Cl2→2FeCl3、
PCl3+Cl2→PCl5、
2BCl3+"塩素を脱離する試薬"→BCl4。
TiO2+2Cl2+2C→TiCl4+2CO、
AlO3+3Cl2+3C→2AlCl3+3CO、
BaSO4+C+Cl2→BaCl2+CO2+SO2。
即ち、H.F. Johnstone et al., Ind. engg. Chem. 34 (1942) の記載によれば、クロム鉄鉱と塩化ナトリウムまたは塩化カリウムとの混合物は、二酸化硫黄/空気混合物と反応され、水溶性の塩化物および硫酸塩に変わる。ラウター(Rauter)(Liebigs Ann. 270, 1892, 236)は、塩化カドミウムへの酸化カドミウムと四塩化珪素との反応を記載している:
2CdO+SiCl4→2CdCl2+SiO2。
同様に、塩化カドミウムは、酸化カドミウムから次のように:
CdO+SOCl2→CdCl2+SO2、
NorthおよびHagemann, J. Am. Chem. Soc. 35 (1913) 2088に記載の方法により得ることができる。米国特許第2895796号明細書および米国特許第3652219号明細書には、例えば塩化鉄(II)を硫化鉄から次のように製造する方法が開示されている:
FeS2+SCl2→FeCl2+3S。
ZnS+2FeCl3→ZnCl2+2FeCl2+S。
SiO2+4HF→SiF4+2H2O、
As2O3+HCl→AsCl3+H2Oおよび
SnS+2HCl→SnCl2+H2S。
SiO2+2C+2Cl2→SiCl4+2CO、
CO+Cl2→COCl2。
H2O+C ⇔ CO+H2
は、一酸化炭素および水素のために、ずれる可能性がある。水は、平衡から取り去られ、加水分解は、行なわれない。この場合生じる一酸化炭素−水混合物は、エネルギー的または化学的に利用されうる。
実施例1
使用される装置および反応の基礎は、使用可能性および温度安定性に基づいて石英ガラスからなる。ガラス装置を反応および熱負荷から保護するために、この石英ガラスを反応条件下で攻撃し、脚部を備えた、中心部で切開された石英管からなる石英ガラス担体上の反応体を反応器中に導入した。従って、反応器の外壁での反応速度は、僅かな表面積および本質的に低い温度によって、粉末状化されたかまたは粒状の反応混合物と比較して明らかに減少しており、したがって反応器の外壁の破壊は、個々の反応中には観察されなかった。
酸化アルミニウム(III);150μm未満、99%、
酸化ホウ素(III);最も純粋、99.98%以上、
酸化鉄(III);5μm、99%以上、
酸化ハフニウム(IV);98%、
雲母小板、
炭化ケイ素;37μm
高分散性ケイ酸(380m2/g)、
石英微細粉末(平均粒径3μm、理論的比表面積0.75m2/g)、
石英砂(平均粒径0.32mm、理論的比表面積75cm2/g)、
荒野の砂;(サハラ砂漠、位置N23゜27.419;E009゜01.489、粒径0.5mm未満)
砕解された褐色の多目的飲料瓶(褐色ガラス)
砕解された毛細管ピペット(石灰−ソーダガラス)、
日本の小枝の灰、
ゼオライトをベースとする触媒、
窒化ケイ素;Si3N4、44μm、
一酸化ケイ素;44μm以下、
二酸化チタン;99.8%以上;
燐酸三カルシウム;35〜40%Ca;
四塩化ケイ素を、GCMSおよび29Si NMRにより、販売されている標準化合物と比較して検出した。ジエチレン付加物としての三塩化ホウ素および三塩化リンを11B NMRおよび31P NMR により、販売されている標準化合物と比較して検出した。二塩化鉄、三塩化アルミニウムおよび四塩化ハフニウムをEDXおよびX線粉末回折測定法により検出した。
実施例2
石英ガラス担体(半分にされた石英ガラス管、直径13mm、長さ約100mm、石英ガラスからなる脚部5mm)上に、1:4の比で最大0.5mmの粒度を有する荒野の砂と2〜2.5mmの粒度を有する活性炭とからなるSiO2/C混合物1〜1.5gを載せた。石英ガラス担体を反応管(石英ガラス管、直径30mmおよび2本の煙突、降下管および上昇管、平均的間隔100mm)中に導入し、この反応管をマイクロ波反応器(Panasonic製家庭用機器)のホットスポット中にもたらした。この反応管にアルゴンで希釈した塩素ガス流(塩素40l/時間、Ar10l/時間)を導通した。マイクロ波機器の活性化による加熱後、反応生成物を、ペンタンが装入されている、エタノール冷却浴を備えた冷却トラップ中で−30℃未満で凝縮した。分析を定量的および定性的に行なった。得られた反応生成物は、SiCl4である。
実施例1に記載の試験構成によって、塩化水素(60l/時間)および窒素(40l/時間)の混合物を導いた。15〜20分間の反応時間で、荒野の砂の50〜60%は反応することができ、この場合計算は、試料の質量差によって反応SiO2+2C+2Cl2→SiCl4+2COにより行なわれた。更に5分後に照射によりさらなる質量の減少を観察することができなかった場合に、実験を中断した。
約80%の使用された砂中のSiO2含量およびCOからのCO2およびCの形成によるボドアード(Boudouard)平衡の影響を考慮しながら、実際のSiO2変換率は、相応して上昇する。従って、SiOx源に対して、十分に定量的な収量を得ることができた。
実施例1に記載の試験構成によって、この場合には、塩化水素(20l/時間)および水素(20l/時間)の混合物を導いた。単離された生成物は、SiCl4と共にHSiCl3をも含有する。
Claims (25)
- 元素状ハロゲン化物の製造法において、元素を含有する材料と炭素または炭素含有材料とからなる混合物を、交番磁界の作用による加熱下に、反応条件下でガス状のハロゲンまたはガス状のハロゲン化合物またはこれらの混合物を含有するガス流と接触させることを特徴とする、元素状ハロゲン化物の製造法。
- 相応する元素を含有する粉末状材料を使用する、請求項1記載の方法。
- 炭素または炭素含有材料を顆粒の形または粉末の形で使用する、請求項1または2記載の方法。
- 元素含有材料を液状の形でかまたはガスとして反応空間内に導入する、請求項1または3記載の方法。
- 炭素含有材料を液状の形でかまたはガスとして反応空間内に導入する、請求項1、2または4記載の方法。
- 使用される交番磁界をマイクロ波照射によって発生させる、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。
- 使用される炭素または炭素含有材料を交番磁界によって加熱する、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。
- 炭素または炭素含有材料を交番磁界の作用によって、交番磁界によって加熱可能な金型内の反応空間内に存在する物質混合物上に移す、請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。
- 反応条件下でガス状のハロゲン、ガス状ハロゲン化合物またはこれらの混合物をキャリヤーガスと一緒に使用する、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法。
- ハロゲン含有化合物として弗素含有または塩素含有化合物を使用する、請求項1から9までのいずれか1項に記載の方法。
- 塩素をガス状ハロゲンとして使用するかまたは塩化水素をガス状ハロゲン化合物として使用する、請求項1から10までのいずれか1項に記載の方法。
- 相応する元素を含有する任意の化合物を使用する、請求項1から11までのいずれか1項に記載の方法。
- 使用される元素状化合物中に含有される元素が金属または非金属である、請求項1から12までのいずれか1項に記載の方法。
- 元素を含有する化合物が他の材料との混合物で存在する、請求項1から13までのいずれか1項に記載の方法。
- 使用される炭素または炭素含有材料を元素状ハロゲン化物の形成中に少なくとも部分的に反応させ、交番磁界によって励起不可能な炭素化合物に変える、請求項1から14までのいずれか1項に記載の方法。
- 加水分解に敏感な元素状ハロゲン化物の製出中に混合物を700℃超に加熱する、請求項1から15までのいずれか1項に記載の方法。
- 元素含有材料として天然に由来する原料を使用する、請求項1から16までのいずれか1項に記載の方法。
- 元素を含有する材料として、工業的生産過程の副生成物または廃棄物を使用する、請求項1から17までのいずれか1項に記載の方法。
- 元素含有材料を精製過程または元素を濃縮するための工程に掛け、その後に該元素含有材料を本発明による方法で使用する、請求項1から18までのいずれか1項に記載の方法。
- 元素含有材料として、SiOx、但し、この場合xは、1〜2の数であるものとし、を含有する材料を使用する、請求項1から19までのいずれか1項に記載の方法。
- 100〜900Wのマイクロ波エネルギーを供給する、請求項20記載の方法。
- 反応ガスに付加的に水素を供給する、請求項20または21記載の方法。
- 塩化水素をガス状ハロゲン化合物として使用する、請求項20から22までのいずれか1項に記載の方法。
- 酸化ケイ素SiOx含有材料として任意の酸化ケイ素源を使用する、請求項20から23までのいずれか1項に記載の方法。
- 酸化ケイ素源として荒野の砂を使用する、請求項24記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004055687 | 2004-11-18 | ||
DE200510024104 DE102005024104A1 (de) | 2005-05-25 | 2005-05-25 | Verfahren zur Herstellung von Elementhalogeniden |
PCT/EP2005/012052 WO2006053676A1 (de) | 2004-11-18 | 2005-11-10 | Verfahren zur herstellung von elementhalogeniden |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008520532A true JP2008520532A (ja) | 2008-06-19 |
Family
ID=35705337
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007541753A Pending JP2008520532A (ja) | 2004-11-18 | 2005-11-10 | 元素状ハロゲン化物の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080105536A1 (ja) |
EP (1) | EP1812339B1 (ja) |
JP (1) | JP2008520532A (ja) |
KR (1) | KR100939508B1 (ja) |
DE (1) | DE502005003871D1 (ja) |
WO (1) | WO2006053676A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
WO2016031362A1 (ja) * | 2014-08-28 | 2016-03-03 | 東亞合成株式会社 | トリクロロシランの製造方法 |
JPWO2016031362A1 (ja) * | 2014-08-28 | 2017-07-13 | 東亞合成株式会社 | トリクロロシランの製造方法 |
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WO2006053676A8 (de) | 2007-06-28 |
EP1812339B1 (de) | 2008-04-23 |
WO2006053676A1 (de) | 2006-05-26 |
KR20070087595A (ko) | 2007-08-28 |
KR100939508B1 (ko) | 2010-02-03 |
EP1812339A1 (de) | 2007-08-01 |
DE502005003871D1 (de) | 2008-06-05 |
US20080105536A1 (en) | 2008-05-08 |
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JPH0352408B2 (ja) | ||
JPS6132255B2 (ja) |
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