JP2008517751A - ゼオライト層で被覆された基板を生成する方法 - Google Patents

ゼオライト層で被覆された基板を生成する方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2008517751A
JP2008517751A JP2007538346A JP2007538346A JP2008517751A JP 2008517751 A JP2008517751 A JP 2008517751A JP 2007538346 A JP2007538346 A JP 2007538346A JP 2007538346 A JP2007538346 A JP 2007538346A JP 2008517751 A JP2008517751 A JP 2008517751A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
metal
zeolite layer
producing
suspension
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007538346A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4939423B2 (ja
Inventor
シュウィーゲール、ウィルヘルム
ヘルマン、ラルフ
タンガラヤ、ゼルヴァン
レディ、マルタラ
シュエッフレール、フランツィシュカ
シュミト、フェルディナンド
ミッテルバッハ、ヴァルテル
ヘニング、ハンシュ−マルトン
バウエル、ジュルゲン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sortech AG
Original Assignee
Sortech AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sortech AG filed Critical Sortech AG
Publication of JP2008517751A publication Critical patent/JP2008517751A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4939423B2 publication Critical patent/JP4939423B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C26/00Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1204Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208Oxides, e.g. ceramics
    • C23C18/1212Zeolites, glasses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1229Composition of the substrate
    • C23C18/1241Metallic substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/1229Composition of the substrate
    • C23C18/1245Inorganic substrates other than metallic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/125Process of deposition of the inorganic material
    • C23C18/1254Sol or sol-gel processing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2229/00Aspects of molecular sieve catalysts not covered by B01J29/00
    • B01J2229/60Synthesis on support
    • B01J2229/64Synthesis on support in or on refractory materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2229/00Aspects of molecular sieve catalysts not covered by B01J29/00
    • B01J2229/60Synthesis on support
    • B01J2229/66Synthesis on support on metal supports
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J29/00Catalysts comprising molecular sieves
    • B01J29/82Phosphates
    • B01J29/84Aluminophosphates containing other elements, e.g. metals, boron
    • B01J29/85Silicoaluminophosphates [SAPO compounds]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/249921Web or sheet containing structurally defined element or component
    • Y10T428/249953Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
    • Y10T428/249978Voids specified as micro

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本発明は、金属を含む基板上にゼオライト層を生成する方法であって、数個の成分を含む水性懸濁液を生成する方法ステップであり、1つの成分は、周期表の第三、第四、第五主族の少なくとも1つの架橋元素を含み、前記金属を含む基板は、前記架橋元素の少なくとも1つを含む方法ステップと、前記水性懸濁液に、金属を含む前記基板を導入する方法ステップと、前記水性懸濁液、および該水性懸濁液中に存在する前記金属を含む基板を加熱して、前記金属を含む基板上にゼオライト層をインサイチュウで結晶化させる方法ステップであり、それによって、前記金属を含む基板中の架橋元素を引き出し、前記ゼオライト層に含ませ、前記ゼオライト層を形成するために前記懸濁液中に存在する架橋元素が、非常に低い濃度で存在して、前記懸濁液中での結晶化を大部分または完全に回避され、前記元素を前記基板によって主に供給される方法ステップと、を備えている。

Description

本発明は、ゼオライト層で被覆された基板を生成する方法、特に、金属を含む基板のコーティングに関する。
より詳細には、鉱物学的意味のゼオライト類は、ケイ酸塩鉱物類、特に、化学的複合構造を有するケイ酸アルミニウム類であり、それは、多孔性四面体ネットワーク(T−ネットワーク)の形成を特徴とする。IZA(国際ゼオオライト協会)の一般的な定義によれば、ゼオライト類は、1000Å当たり19T原子未満のネットワーク密度を有するT−ネットワークを有する材料に関する。ゼオライト類は、内部ボイドを備えた構造を有し、ここで、これらのボイドは、分子の大きさとすることができる。これにより、ゼオライト類が、その多孔性構造において、それぞれ、外来原子または外来分子を受け取ることができる特性を有する。例えば、ゼオライト類は、大量の水を貯蔵し、加熱時に再びそれを放出することができる。従って、熱交換器に接触するゼオライト材料は、潜熱蓄熱器を形成するために特に適する。先行技術によると、堆積されたバルク状成型ゼオライト材料またはゼオライト類を使用し、それらを、熱交換器と熱接触して、開孔固形物、例えば金属スポンジに導入する。例えば、DE第10159652C2号を後に参照されたい。
さらに、ゼオライト類は、他の複数の用途の化学工業に、例えば、イオン交換プロセスに使用され、ここで、ほとんど合成的に生成された、数ミクロンの結晶のサイズの粉末形態のゼオライト類を使用する。さらに、ゼオライト類は、分子ふるいとして使用される。この場合も、ゼオライト材料は、結晶の遊離バルクの形態または成型材料の形態でフィルタシステムに導入することができる。
熱がゼオライト類に供給される、または熱がゼオライト材料から取り出される用途では、それぞれ、隣接する熱交換器構造に十分な熱接触が不十分に達成されるのみなので、したがって、遊離ゼオライトバルクは適切ではない。さらに、特に、潜熱蓄熱器では、通常、ソルビン酸塩と称する作動媒体が、有効な方法で吸着剤材料としてゼオライトに供給されなければならない。これは、吸着剤材料において巨視的な輸送孔を必要とする。従って、用途のそのような目的のために、粉末として合成されたゼオライトは、バインダーによってペレットの形態で、より大きなユニットに形成される。しかし、ゼオライト類の用途関連の特性は影響を受け、ほとんどの場合、ほとんどの接着剤によって不利に変化されてしまい、不利益である。さらに、ペレットの使用は、隣接する熱交換器への十分な熱接触を保証することができない。この理由により、熱交換器のシステムが提案されており、その上にゼオライト層が適用されている。ゼオライト類を備えた基板の典型的な公知のコーティング法は、2段階の手順である。まず、ゼオライト粉末を、予め合成工程で製造される。このゼオライト粉末を、標準粒子(結晶)サイズを有する粉状ゼオライトを得るために、機械的二次処理、例えば、粉砕工程またはミル工程にかけることができる。次に、そのように合成された、または予め合成されたゼオライト材料を、通常、バインダーと混合し、いわゆるコーティングとしてキャリアー基板に適用する。
しかし、この手順は、特に、複合三次元熱交換器構造で、熱交換器の表面全体に、一定の厚さのゼオライト層を適用することは困難であるという不都合を有する。さらに、そのような合成後のコーティング法は、複数の生成ステップを含む。さらに、結合分子および粒子が、ゼオライト結晶の表面に定着するので、ほとんどのバインダーは、ゼオライト類の適切な特性を変化させる。
米国特許公開第2003/0091872A1号には、アルミニウム、ニッケル、鋼、チタンなどの金属上にゼオライト層を生成し、一般的なケイ酸アルミニウムをその上に形成する方法について記載されている。これは、中性からpH12までの通常のpH範囲で、一般的なケイ酸アルミニウムゼオライト類のための合成懸濁液を使用することで達成することができる。また、懸濁液は、アルミニウムを含む。アルミニウムを含む懸濁液に、アルミニウムを含む基板を導入した後に、その基板のアルミニウム原子は、基板上へのゼオライト層の付着を改善することによって、ゼオライトネットワークに組み入れられる。
DE第10309009A1号では、セラミックキャリア材料を使用する方法について記載されている。それによって、キャリアーは、同時に、一般的なケイ酸アルミニウムゼオライト類を生成するために、架橋材料フォーマーシリコン用のドナーである。
他の公開文献も知られるようになっており、それらには、ゼオライトを形成することができる元素を用いた懸濁液の生成、さらに、懸濁液中に基板を導入することに加えて、基板上に一般的なケイ酸アルミニウムゼオライト類の非常に高い粘着性の層をインサイチュウ(in-situ)結晶化するために加熱することについて記載されている。EP第0649387B2号、EP第1222961A2号および第08119624A号を参照されたい。
従来の方法は、十分満足されるものではない。従って、一般的なケイ酸アルミニウムゼオライト類の層は形成されるが、該層の基板への固着は、それほど完璧ではない。
本発明は、ゼオライト類の特性に悪影響を及ぼさず、ゼオライト層の微孔構造に接近することを妨げないことを保証する、金属を含む基板上にゼオライト層を生成する方法を提供する目的に基づく。とりわけ、ゼオライト層を基板上に確実に固定する。金属を含む基板に適用されたゼオライト層は、金属を含む基板上に良好に付着することを特徴とする。先行技術とは対照的に、本方法は、さらに、方法ステップ数を低減して実行可能であり、複合三次元構造の基板、特に熱交換器上に一定の厚みのゼオライト層を適用するために適合する。
目的を解決するために、発明者らは、まず、基板上に合成後生成されたゼオライト類を強固にするためのバインダーの使用を回避するために、インサイチュウ合成によって、金属を含む基板上にゼオライト層を生成しなければならないことに気がついた。さらなるステップで、インサイチュウ結晶化の間に基板から原子を選択的に引き出し、形成されているゼオライトのネットワークに含ませるなら、金属を含む基板上のゼオライト層のそのようなインサイチュウ結晶化によってゼオライト層と基板とが特に密接することを、発明者らは認識した。本願においては、この条件を「直接合成」と称する。
金属を含む基板上へのゼオライト層のインサイチュウ結晶化における直接合成を実現するために、そのような金属を含む基板は、十分な量の周期表の第三、第四、第五主族の架橋元素を含むことからから始められる。アルミニウムおよび/またはシリコンを含む、金属を含む基板を使用することが特に好ましい。最も単純な場合、金属を含む基板として、アルミニウムの基板、またはアルミニウムをコーティングした基板である。さらに、アルミニウムまたはシリコンを含む合金が、検討され、それは、例えば、ISO4948によると、アルミニウムを少なくとも0.1重量%および/またはシリコンを少なくとも0.5重量%の質量含有率の合金鋼とすることができる。
代わりの基板材料として、セラミック材料を使用してもよく、それは、ゼオライト層の直接結晶化において架橋元素源としての役目をする成分の対応する部分を包含する。この場合も、特に、ある量のアルミニウムを含むセラミックスは、ここで有利である。
一般的なゼオライト合成プロセスに対応して、ゼオライト構造を形成するために必要な出発原料を水性懸濁液に導入する。そのような水性懸濁液は、周期表の第三、第四、第五主族の少なくとも1つの架橋元素を含む。
本発明による方法では、一般的なゼオライト合成と比較して、水性懸濁液中のゼオライト層における架橋元素の少なくとも1つの濃度は、この架橋元素の必要性を最適に満足しないように、調節される。以下においては、これについては「不十分」と称する。すなわち、水性懸濁液によって形成された反応混合物中の架橋成分の少なくとも1つを、ゼオライト形成プロセスおよびゼオライトの最終構造に関して不十分に準備する。
発明者らは、以下の内容を認めた。
懸濁液が、ゼオライト層のための架橋元素の量を、前述の不十分より多く含む場合、局部的な温度比によって回避されなければ、望まれない結晶化が、懸濁液中においてバルク状の塊が所構わず生じる。従って、形成された結晶が存在するが、架橋元素は懸濁液中で所構わず最適に提供されるので、結晶は基板上に固定されない、または所望の範囲まで固定されない。しかし、架橋元素を不十分に準備された場合、反応を適切な方法で制御されるのであれば、架橋元素を必要程度まで基板により利用可能とすることができる。従って、架橋元素のうちの1つに関して、懸濁液を消耗するとも言うことができる。しかし、架橋元素を不十分に準備される場合、形成されているゼオライトは、激しく基板の対応する架橋元素と化学反応を始める。
基板上に形成され、固定されている層は、比較的薄い可能性がある。万一、これが特定の場合において不利ならば、さらなる方法ステップで、基板上に固定された第1のゼオライト層上に、懸濁液中の架橋元素を相応して調整された濃度において、さらなるインサイチュウ結晶を行なうことにより、プロセスを容易に繰り返すことができる。従って、基板上に固定された第1のゼオライト層は、繰り返された結晶化における、その結晶の始まりである架橋元素の蓄積を表しており、これはまた結晶化プロセスの出発点でもある。
懸濁液中に不十分に準備された、架橋材料フォーマーと懸濁液中のすべての架橋元素の合計のモル比は、0.5未満、0.4未満、0.3未満、0.2未満、または0.1未満の範囲内にすべきである。
本発明の要旨は、以下のようにまとめることができる。懸濁液中に架橋材料フォーマーが少量であることにより、懸濁液中での結晶化をまず回避される。基板に対する界面上に、ある状況をつくることは、所定の重要事項であり、その状況は、一方は基板からのものであり、他方は懸濁液からのものである2つの架橋材料フォーマーの化学結合をもたらす。従って、基板による架橋材料フォーマーは、アルミニウムであってもよく、懸濁液のよる架橋材料フォーマーは、リン光体であってもよい。従って、1つの成分を周りの懸濁液中に全くまたは大部分準備せず、その結果、懸濁液中での結晶化は、最初に起こらない。
従って、本発明によるシステムは、基板と懸濁液とを含む。基板は、キャリアーだけでなく、同時に架橋元素のドナーである。懸濁液は、少なくとも、水、リン酸塩イオン、さらに場合により、テトラアルキルアンモニウム塩または界面活性剤、いわゆるテンサイドなどの構造指示剤(SDA)である鋳型化合物を含む。
懸濁液は、さらに、Siだけでなく遷移金属イオンも含んでいてもよい。
本方法を実行するために追加手順またはステップを必要としてもよいことが分かる。これは、水性懸濁液を加熱することを含む。水性懸濁液に不十分に準備される架橋材料フォーマーの量は、ゼオライト層を形成するために必要であり、本発明の方法により、インサイチュウ合成で基板から直接引き出す。これは、これら架橋原子は基板から変化して、ゼオライト層を成長させ、ゼオライト層および基板が互いに成長することを成し遂げる。この方法によって、特に、金属を含む基板上でのインサイチュウ結晶化によって生成された、密接して機械的に安定したゼオライト類のゼオライトコーティングが達成される。
水性懸濁液中、架橋元素の濃度または不足量は、それぞれ、金属を含む基板の選択およびインサイチュウ結晶化中での架橋原子を放出する能力に従って調節することができる。極端な場合、基板中の架橋元素の少なくとも1つを、実質的に放棄してもよい。
金属を含む基板上への永続的なゼオライト層を生成するための直接合成に関するインサイチュウ結晶化のためのさらなる合成条件は、一般的なゼオライト合成に従って、当業者の判断力によって選択される。
合成を行なうために、被覆される基板を、出発原料の水性懸濁液に導入する。次いで、そこに配置された水性懸濁液および基板を、熱水処理にかける。ここで、50〜250℃の温度、特に100〜200℃の温度をインサイチュウ結晶化中に設定することが好ましい。さらに、自己生成圧を使用することが好ましく、つまり、処理温度および調節蒸気圧に応じて、密閉反応容器中で反応混合物で形成されるものが好ましい。インサイチュウ結晶化を完了する場合、反応を止めるために被覆された基板をできるだけ速く冷却することが好ましい。これは、例えば、反応凝集体のまわりの気流または他の適切なプロセス技術手段で達成することができる。
インサイチュウおよび直接結晶化によって生成されたSAPO層、ALPO層およびMeALPO層は、特に好ましいゼオライトコーティングであることが分かった。架橋元素として、シリコンおよびアルミニウムとは別に、微孔SAPO層は、リン光体を含む。従って、MeALPO材料は、架橋元素として様々な遷移金属イオンをも含む。微孔ALPOコーティングはアルミニウムおよびリン光体からなり、それらから四面体がネットワーク骨格用の構造ユニットとして形成され、構造ユニットは再度リング状の第2の構造ユニット(例えば、4環および6環)に合わせられ、第2の構造ユニットは次いで、第三の構造ユニットに、再度、最終のゼオライト構造にさらに関連づけられる。
SAPO34をアルミニウム基板上に生成する典型的な実施例によって、本発明による方法を以下に説明する。
まず、水23.6g、リン光体源としての85%リン酸2.38g、シリコン源としてのシリカゾル2.0g(水中においてSiO30.4%)および鋳型分子としてのモルホリン5.4gの水性懸濁液を生成する。前述の重量の表示は、端数を切り捨てる。詳細には、第1の部分混合物を、混合容器にリン酸および水9.4gを入れて生成する。さらに、シリカゾル2.0g、モルホリン5.4gおよび水9.4gからなり、一定の攪拌下で第1の部分混合物に滴下される第2の部分混合物を生成する。完成した第1の部分混合物は、水6g、85%リン酸6gおよび疑似ベーマイト3.6gからなる。さらに、アエロジル1.6g、モルホリン4.5gおよび水6gからなり、一定の攪拌下で第1の部分混合物に滴下される第2の部分混合物を生成する。次いで、水4.8gを、第1および第2の部分混合物のそのように準備された混合物に添加し、攪拌をさらに2時間続けて、使用可能な水性懸濁液を得る。特定の例としては、水性懸濁液は、アルミニウム(極端に不十分)をまったく含まない。ここで、最適のアルミニウム/リン光体比率は、実質的に1:1である。ゼオライト層の生成において、直接合成の点からこの不十分を補うために基板からアルミニウムを引き出され、SAPO層上で成長する。
インサイチュウ結晶化において、水性懸濁液および被覆されるアルミニウム基板は、例えば、アルミニウムの熱交換器またはアルミニウムコーティングを有する熱交換器とすることができ、反応装置に付与し、例えば24時間、200℃で保持する。この間、微孔SAPO−34層を、アルミニウム基板からアルミニウム原子を直接使用して、インサイチュウ結晶化によってアルミニウム上に生成する。そのように被覆されたアルミニウムキャリアーを、反応装置から取り除き、ここでは、後の洗浄工程を行なうことが有利である。
図1は、Al基板上にこの方法で生成されたゼオライト層のX線回折図を示し、横座標が角度を示し、縦座標が角度に対応する相対強度を定めている。CuKα線を検知に使用した。文献から公知の値と比較すると、図1に示されるX線回折図は、SAPO34に関する構造立証を提供する。発明者らは、以下の内容を認識した。独創的なかなり希釈された懸濁液を使用すると、ゼオライト層を形成するための1つの架橋元素を不十分に準備し、水含有量を、先行技術よりも著しく増加した場合、基板上における結晶の好ましい配向性が得られる。この配向性は、その結晶の主要でかつ成長する方向が、基板表面に大体垂直に延在し、その結晶は、基板上に主として同様に垂直に立つことを明らかにしている。好ましい配向性は、結晶の大部分が一定の配向性であり、生成された結晶の微孔システムに反応物または吸着剤の一定の接近性を保証する。これは、本発明で得られた別の有利な効果である。
その特性に関して、使用される水性合成懸濁液は、全ての成分を溶解した状態で準備される澄明な液から非常に高い粘着性ゲルまで、その組成に応じて変化することができる。本発明の進んだ実施例では、水性懸濁液を、被覆される基板と接触する前に、ゲルを形成するために処理し、ゲル形態の反応混合物を、例えば、ゾルゲルプロセスによって被覆される基板に適用する。従って、本出願において、上述された水性懸濁液は、さらに、高い粘着性のものを含む。従って、水性懸濁液は、最も広い意味で、水を含有する反応混合物を含むが、その一貫性は、水性のものだけに限定されない。
図1は、Al基板上にこの方法で生成されたゼオライト層のX線回折図を示し、横座標が角度を示し、縦座標が角度に対応する相対強度を定めている。

Claims (12)

  1. 金属を含む基板上にゼオライト層を生成する方法であって、以下の方法ステップを含む:
    (1.1)数個の成分を含む水性懸濁液を生成し、
    (1.2)1つの成分は、周期表の第三、第四、第五主族または第一〜第八副族の少なくとも1つの架橋元素を含み、
    (1.3)前記金属を含む基板は、前記架橋元素の少なくとも1つを含み、
    (1.4)前記水性懸濁液に、前記金属を含む基板を導入し、
    (1.5)前記金属を含む基板上にゼオライト層をインサイチュウで結晶化させるため、前記水性懸濁液、およびその中に存在する前記金属を含む基板を加熱して、前記金属を含む基板から架橋元素を引き出し、前記ゼオライト層に含ませ、
    (1.6)前記ゼオライト層を形成するために前記懸濁液中に存在する架橋元素は、不十分に存在して、前記懸濁液中での結晶化を大部分または完全に回避し、前記元素を前記基板によって主にまたは完全に提供する。
  2. 前記懸濁液中の架橋された材料フォーマーと前記懸濁液中のすべての架橋された材料フォーマーの合計のモル比は、0.5未満、0.4未満、0.3未満、0.2未満または0.1未満である、請求項1に記載の方法。
  3. 1つの架橋元素は、リン光体である、請求項1または2に記載の金属を含む基板上にゼオライト層を生成する方法。
  4. 前記金属を含む基板は、アルミニウム基板である、請求項1〜3の少なくとも1つに記載の金属を含む基板上にゼオライト層を生成する方法。
  5. 前記金属を含む基板は、アルミニウム、シリコン、リン光体、または周期表の第一〜第八副族の1つの元素を含む、または、アルミニウム、シリコン、リン光体、または周期表の第一〜第八副族の1つの元素を含む合金または化合物で被覆されている、請求項1〜3の少なくとも1つに記載の金属を含む基板上にゼオライト層を生成する方法。
  6. 前記金属を含む基板は、アルミニウムおよび/またはシリコンとの合金鋼である、請求項1〜3の少なくとも1つに記載の金属を含む基板上にゼオライト層を生成する方法。
  7. 前記基板は、アルミニウムおよび/またはシリコンを含むセラミック基板である、請求項1〜3の少なくとも1つに記載の金属を含む基板上にゼオライト層を生成する方法。
  8. 前記水性懸濁液は、さらに、少なくとも1つの有機ステンシル分子または1つの有機鋳型分子を含む、請求項1〜7の少なくとも1つに記載の金属を含む基板上にゼオライト層を生成する方法。
  9. 前記水性懸濁液および、該水性懸濁液に存在する前記金属を含む基板を、50℃〜250℃の温度に、特に好ましくは100℃〜200℃で、例えば、密閉容器中で加熱する、請求項1〜8の少なくとも1つに記載の金属を含む基板上にゼオライト層を生成する方法。
  10. 前記水性懸濁液をゲルに変化させ、該ゲルを前記基板に塗布する、請求項1〜9の少なくとも1つに記載の金属を含む基板上にゼオライト層を生成する方法。
  11. 請求項1〜10の少なくとも1つに記載の方法によって、ゼオライト層で被覆される、金属を含む基板材料の熱交換器。
  12. 前記ゼオライト層は、SAPO材料、微孔ALPO材料、または微孔MeALPO材料である、請求項11に記載の熱交換器。
JP2007538346A 2004-10-29 2005-10-29 ゼオライト層で被覆された基板を生成する方法 Active JP4939423B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004052976A DE102004052976A1 (de) 2004-10-29 2004-10-29 Verfahren zur Herstellung eines mit einer Zeolith-Schicht beschichteten Substrats
DE102004052976.0 2004-10-29
PCT/EP2005/011610 WO2006048211A2 (de) 2004-10-29 2005-10-29 Verfahren zur herstellung eines mit einer zeolith-schicht beschichteten substrats

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008517751A true JP2008517751A (ja) 2008-05-29
JP4939423B2 JP4939423B2 (ja) 2012-05-23

Family

ID=36051507

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007538346A Active JP4939423B2 (ja) 2004-10-29 2005-10-29 ゼオライト層で被覆された基板を生成する方法

Country Status (9)

Country Link
US (1) US8053032B2 (ja)
EP (2) EP1761657B1 (ja)
JP (1) JP4939423B2 (ja)
KR (1) KR101225397B1 (ja)
CN (1) CN101057005B (ja)
AT (1) ATE471998T1 (ja)
DE (2) DE102004052976A1 (ja)
ES (2) ES2348213T3 (ja)
WO (1) WO2006048211A2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160039224A (ko) * 2013-07-31 2016-04-08 소르테크 아게 흡착 모듈
JP2019501290A (ja) * 2015-12-18 2019-01-17 ファーレンハイト ゲーエムベーハー アルミニウム含有金属基板上にアルミノシリケート−ゼオライト層を形成する方法およびそれによって得られる基板の使用

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006030199A1 (de) * 2006-06-30 2008-01-03 Klingenburg Gmbh Feuchtigkeits- und/oder Wärmeaustauschvorrichtung, z.B. Plattenwärmetauscher, Sorptionsrotor, Adsorptionsentfeuchtungsrotor od.dgl.
DE102006043715A1 (de) 2006-09-18 2008-03-27 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Adsorptionswärmepumpe mit Wärmespeicher
DE102007056587A1 (de) * 2007-11-23 2009-05-28 Sortech Ag Funktionelles Kompositmaterial
KR100941521B1 (ko) * 2008-01-30 2010-02-10 한국건설기술연구원 재료의 표면에 제올라이트를 코팅하는 방법 및 상기 방법을통하여 얻어진 제올라이트 코팅 성형체
KR100941520B1 (ko) * 2008-01-30 2010-02-10 한국건설기술연구원 소성체 표면에 제올라이트를 코팅하는 방법 및 상기 방법을통하여 얻어진 소성체
DE102008023634A1 (de) 2008-05-15 2009-11-19 Sortech Ag Aluminiumhaltiges Substrat mit einer mikroporösen Schicht eines Aluminiumphosphat-Zeoliths, ein Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung
DE102009043515A1 (de) 2009-09-30 2011-04-07 Wolf Beineke Solarthermisch betriebene Adsorptionskältemaschine zur Raumklimatisierung und Lebensmittelkühlung
JP6695803B2 (ja) 2014-01-10 2020-05-20 ブライ・エアー・アジア・ピーヴイティー・リミテッド ハイブリッド吸着装置熱交換デバイスの製造方法
DE102015200373A1 (de) 2015-01-13 2016-07-14 Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft Verfahren zum Herstellen eines Wasserstoff-Fahrzeugtanks mit einem Zeolith auf der Tankwand
DE102017208201A1 (de) 2017-05-16 2018-11-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Bauteil, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung
DE102019134587B4 (de) 2019-12-16 2023-01-12 Fahrenheit Gmbh Wärmeübertrager und Adsorptionsmaschine
CN116119680B (zh) * 2023-01-17 2024-09-24 西南科技大学 一种4a沸石固化有色金属尾矿的方法及其固化体

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63291809A (ja) * 1987-05-26 1988-11-29 Idemitsu Kosan Co Ltd 膜状合成ゼオライトの製造方法
JPH09202614A (ja) * 1996-01-24 1997-08-05 Nisshin Steel Co Ltd ゼオライトコ−ティング溶液およびその溶液によるゼオライトコ−ト鋼板の製造方法
JP2003093857A (ja) * 2001-09-27 2003-04-02 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ゼオライト膜形成用種結晶塗布装置および方法
US20030091872A1 (en) * 2000-03-23 2003-05-15 Yushan Yan Hydrophilic zeolite coating

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5316661A (en) * 1992-07-08 1994-05-31 Mobil Oil Corporation Processes for converting feedstock organic compounds
FR2719238B1 (fr) * 1994-04-29 1996-05-31 Centre Nat Rech Scient Matériau inorganique composite poreux, notamment sous forme de membrane, et procédé d'obtention d'un tel matériau.
JP3524177B2 (ja) * 1994-10-19 2004-05-10 日新製鋼株式会社 ゼオライトで被覆した金属板の製造方法
US6060415A (en) * 1997-02-10 2000-05-09 National Science Council Aligned molecular sieve crystals grown on anodic alumina membrane
US6521198B2 (en) 2000-05-17 2003-02-18 The Regents Of The University Of California Metal surfaces coated with molecular sieve for corrosion resistance
DE10159652C2 (de) * 2000-12-05 2003-07-24 Sortech Ag Verfahren zur Wärmeübertragung sowie Wärmeübertrager hierfür
EP1222961A3 (en) * 2001-01-10 2002-08-28 Abb Research Ltd. Method of forming a zeolite layer on a substrate
DE10309009A1 (de) * 2003-03-01 2004-09-09 Scheffler, Michael, Dr.rer.nat. Zeolith-Beschichtung

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63291809A (ja) * 1987-05-26 1988-11-29 Idemitsu Kosan Co Ltd 膜状合成ゼオライトの製造方法
JPH09202614A (ja) * 1996-01-24 1997-08-05 Nisshin Steel Co Ltd ゼオライトコ−ティング溶液およびその溶液によるゼオライトコ−ト鋼板の製造方法
US20030091872A1 (en) * 2000-03-23 2003-05-15 Yushan Yan Hydrophilic zeolite coating
JP2003093857A (ja) * 2001-09-27 2003-04-02 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ゼオライト膜形成用種結晶塗布装置および方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160039224A (ko) * 2013-07-31 2016-04-08 소르테크 아게 흡착 모듈
JP2016525670A (ja) * 2013-07-31 2016-08-25 ゾルテッヒ アーゲー 吸着モジュール
KR102172103B1 (ko) * 2013-07-31 2020-11-02 파렌하이트 게엠베하 흡착 모듈
JP2019501290A (ja) * 2015-12-18 2019-01-17 ファーレンハイト ゲーエムベーハー アルミニウム含有金属基板上にアルミノシリケート−ゼオライト層を形成する方法およびそれによって得られる基板の使用
JP7022435B2 (ja) 2015-12-18 2022-02-18 ファーレンハイト ゲーエムベーハー アルミニウム含有金属基板上にアルミノシリケート-ゼオライト層を形成する方法およびそれによって得られる基板の使用

Also Published As

Publication number Publication date
WO2006048211A2 (de) 2006-05-11
US8053032B2 (en) 2011-11-08
KR20070084291A (ko) 2007-08-24
CN101057005A (zh) 2007-10-17
US20090090491A1 (en) 2009-04-09
EP2241652B1 (de) 2019-03-13
JP4939423B2 (ja) 2012-05-23
ES2348213T3 (es) 2010-12-01
EP2241652A2 (de) 2010-10-20
ES2730720T3 (es) 2019-11-12
DE102004052976A1 (de) 2006-05-04
EP2241652A3 (de) 2015-08-05
KR101225397B1 (ko) 2013-01-22
EP1761657A2 (de) 2007-03-14
DE502005009800D1 (de) 2010-08-05
ATE471998T1 (de) 2010-07-15
EP1761657B1 (de) 2010-06-23
CN101057005B (zh) 2010-06-16
WO2006048211A3 (de) 2006-10-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4939423B2 (ja) ゼオライト層で被覆された基板を生成する方法
Lassinantti et al. Faujasite-type films synthesized by seeding
Schoeman et al. The synthesis of discrete colloidal crystals of zeolite beta and their application in the preparation of thin microporous films
CN101080363A (zh) 制备含有硅β沸石的介电中间层膜的方法
US10933382B2 (en) Supported zeolite membranes
KR101460322B1 (ko) 초음파를 이용한 무기 입자의 선택적인 물리적 증착 방법 및 이로부터 제조된 기질 상의 씨드 균일층으로부터 성장된 카바자이트 제올라이트 분리막 및 이에 사용되는 판상의 실리카 카바자이트 제올라이트 입자 및 이를 제조하는 방법
JPH07505333A (ja) 小分子分離用の膜及びその製造方法
JP2010537941A (ja) 階層的で組織化された多孔性を有する結晶化ケイ素含有材料
KR101678709B1 (ko) 금속 기판 상에 알루미노실리케이트-제올라이트 층을 형성하는 방법, 이렇게 코팅된 기판 및 이의 용도
Valtchev et al. Influence of metal substrate properties on the kinetics of zeolite film formation
JP6040273B2 (ja) リン酸アルミニウムゼオライトの微孔性被膜層を有するアルミニウム含有支持体、該支持体の製造方法および該支持体の使用
CN1215351A (zh) 改进的膜
EP2470474B1 (en) Method of making of molecular sieve of MFS framework type with controllable average size
KR101637934B1 (ko) 다공성 알루미노 실리카의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 다공성 알루미노 실리카
EP2489636B1 (en) Method for producing ddr zeolite
Ban et al. Crystallization and crystal morphology of silicalite-1 prepared from silica gel using different amines as a base
CN117440929B (zh) 层状硅酸盐的制造方法以及其在二氧化硅纳米片的制造等中的应用
EP1544170A1 (en) Production method for zeolite shaped body and production for zeolite layered composite
JP7373290B2 (ja) 結晶軸配向ゼオライト膜およびその製造方法
Kalipcilar et al. Template-free synthesis of ZSM-5 type zeolite layers on porous alumina disks
JP2002003212A (ja) シリカ−アルミナ被覆鎖状シリカゾルおよびその製造方法
JP2021088482A (ja) 結晶軸配向ゼオライト膜およびその製造方法
KR101499905B1 (ko) 초음파를 이용한 무기 입자의 선택적인 물리적 증착 방법 및 이로부터 제조된 기질 상의 씨드 균일층으로부터 성장된 카바자이트 제올라이트 분리막 및 이에 사용되는 판상의 실리카 카바자이트 제올라이트 입자 및 이를 제조하는 방법
KR20180091060A (ko) 알루미늄-함유 금속 기판상에 알루미노실리케이트-제올라이트층을 형성하는 방법 및 그로부터 수득된 기판의 용도
JP3783051B2 (ja) 結晶性ミクロ多孔体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20090604

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20090605

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100531

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100602

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100823

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100830

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100928

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20101005

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20101102

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20101110

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110930

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111228

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20120105

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120202

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120224

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150302

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4939423

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250