JP2008506238A - 誘導駆動プラズマ光源 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (216)
- 光源であって、
プラズマ放電領域を有し、イオン性媒体を含む室と、
前記プラズマ放電領域の一部を囲む磁気コアと、
エネルギーの少なくとも1つのパルスを前記磁気コアに供給し、前記プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送り、前記プラズマは局所的高輝度ゾーンを有する、パルス電力システムとを備える光源。 - 前記プラズマは、前記プラズマ内の電流経路にそって電流密度を実質的に変化させる請求項1に記載の光源。
- 前記ゾーンは、高輝度光の点源である請求項1に記載の光源。
- 前記ゾーンは、前記プラズマがピンチ効果で収縮し、ネックを形成する領域である請求項1に記載の光源。
- 前記室内の特徴は、前記ゾーンを形成する請求項1に記載の光源。
- ガス圧力は、前記ゾーンを形成する請求項1に記載の光源。
- 前記プラズマの電流は、前記ゾーンを形成する請求項1に記載の光源。
- 前記特徴は、前記プラズマによる発光を実質的に局在化するように構成される請求項5に記載の光源。
- 前記特徴は、前記磁気コアに関して離れた場所に配置される請求項5に記載の光源。
- 前記特徴は、前記プラズマによる発光を局在化するためネック状領域を定める請求項5に記載の光源。
- 前記特徴は、ガス入口を含む請求項5に記載の光源。
- 前記特徴は、冷却機能を備える請求項5に記載の光源。
- 前記冷却機能は、水の加圧された過冷却対流沸騰を伴う請求項12に記載の光源。
- 前記磁気コアに供給されるエネルギーの前記少なくとも1つのパルスは、前記プラズマを形成する請求項1に記載の光源。
- 前記パルス電力システムは、毎秒約100パルスから毎秒約15,000パルスまでの範囲の周波数のエネルギーのそれぞれのパルスを供給する請求項1に記載の光源。
- エネルギーのそれぞれのパルスは、約10nsから約10μsまでの持続時間の間に、供給される請求項1に記載の光源。
- 前記パルス電力システムは、エネルギー蓄積装置を備える請求項1に記載の光源。
- 前記エネルギー蓄積装置は、少なくとも1つのキャパシタを備える請求項17に記載の光源。
- 前記パルス電力システムは、磁気パルス圧縮発生器を備える請求項1に記載の光源。
- 前記パルス電力システムは、エネルギーのそれぞれのパルスを前記磁気コアに選択的に送出するための磁気スイッチを備える請求項1に記載の光源。
- 前記パルス電力システムは、可飽和インダクタを備える請求項1に記載の光源。
- 前記磁気コアは、前記室内に配置されたチャネル領域内に少なくとも本質的に1つのZピンチを発生させるように構成される請求項1に記載の光源。
- 前記磁気コアは、前記室内に配置されたチャネル領域内に少なくとも本質的に1つのキャピラリ放電を発生させるように構成される請求項1に記載の光源。
- さらに、前記イオン性媒体を前記室内に導入するための少なくとも1つの口を備える請求項1に記載の光源。
- 前記イオン性媒体は、キセノン、リチウム、スズ、窒素、アルゴン、ヘリウム、フッ素、アンモニア、スタンナン、クリプトン、およびネオンからなる群から選択された少なくとも1つまたは複数のガスである請求項1に記載の光源。
- 前記イオン性媒体をあらかじめイオン化するためのイオン源を備える請求項1に記載の光源。
- 前記イオン源は、紫外線灯、RF源、スパークプラグ、およびDC放電源からなる群から選択された発生源である請求項26に記載の光源。
- 少なくとも部分的に前記磁気コアを取り囲むエンクロージャを備える請求項1に記載の光源。
- 前記エンクロージャは、複数の孔を定める請求項28に記載の光源。
- 複数のプラズマループは、前記磁気コアが前記プラズマに電力を送るときに前記複数の孔を通る請求項29に記載の光源。
- 前記エンクロージャは、2つの平行板を備える請求項29に記載の光源。
- 前記平行板は、導電性であり、前記コアの周りに一次巻線を形成する請求項31に記載の光源。
- 冷却剤は、前記局所的高輝度ゾーンに隣接する場所を冷却するため前記エンクロージャ内を貫流する請求項28に記載の光源。
- 前記エンクロージャは、銅、タングステン、アルミニウム、および銅タングステン合金からなる群から選択された物質を含む請求項28に記載の光源。
- 前記プラズマは、トランスの二次側を形成する請求項1に記載の光源。
- 前記特徴は、回転円盤内の少なくとも1つのアパーチャである請求項5に記載の光源。
- 薄ガス層は、前記円盤から冷却された表面に熱を伝達する請求項36に記載の光源。
- 前記光源は、前記光源がプラズマ放電を発生するときに約100nmよりも短い波長の光を発生するように構成される請求項1に記載の光源。
- 光源であって、
プラズマ放電領域を有し、イオン性媒体を含む室と、
前記プラズマ放電領域の一部を囲む第1の磁気コアを備えるトランスと、
電流によって前記第1の磁気コアとリンクされた第2の磁気コアと、
第1の信号を前記第2の磁気コアに供給する電源であって、前記第2の磁気コアは、前記第2の磁気コアが飽和したときに第2の信号を前記第1の磁気コアに供給し、前記第1の磁気コアは、前記第2の信号に対する応答として前記イオン性媒体から前記プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送る、電源とを備える光源。 - 前記第1の磁気コアの周りに一次巻線を形成し、前記第1および第2の磁気コアをリンクする前記電流を伝導する2つの平行板を備える請求項39に記載の光源。
- 前記第2の磁気コアから前記プラズマ放電領域の前記一部を囲む前記磁気コアに流れる誘導漏れ電流は、前記イオン性媒体をあらかじめイオン化する請求項39に記載の光源。
- 光源であって、
チャネル領域を有し、イオン性媒体を含む室と、
前記チャネル領域の一部を囲む磁気コアと、
エネルギーの少なくとも1つのパルスを前記磁気コアに供給し、前記イオン性媒体を励起し、前記チャネル領域内に少なくとも本質的な1つのZピンチを形成するためのパルス電力システムとを備える光源。 - 前記プラズマの電流密度は、約1KA/cm2よりも高い請求項42に記載の光源。
- 前記チャネル領域内の圧力は、約100mTorr未満である請求項42に記載の光源。
- 光源であって、
発光の実質的部分を放出する局所的高輝度ゾーンとともに発光プラズマを含む室と、
前記発光プラズマの一部を囲む磁気コアと、
エネルギーの少なくとも1つのパルスを前記磁気コアに供給し、前記プラズマに電力を送るためのパルス電力システムとを備える光源。 - 光源であって、
プラズマ放電領域を有し、イオン性媒体を含む室と、
前記プラズマ放電領域の一部を囲む磁気コアと、
エネルギーの少なくとも1つのパルスを前記磁気コアに供給し、前記プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送り、前記プラズマは局所的高輝度ゾーンを有する、手段とを備える光源。 - プラズマ源であって、
プラズマ放電領域を有し、イオン性媒体を含む室と、
前記プラズマ放電領域の一部を囲み、前記プラズマ内にZピッチを形成するのに十分な電流を誘導する磁気コアとを備えるプラズマ源。 - 光信号を発生する方法であって、
プラズマを発生することができるイオン性媒体を室内に導入する工程と、
磁気コアが前記プラズマに電力を送るように前記室内のプラズマ放電領域の一部を囲む前記磁気コアにエネルギーの少なくとも1つのパルスを印加し、前記プラズマは、局所的高輝度ゾーンを有する、工程とを含む方法。 - 前記プラズマは、前記プラズマ内の電流経路にそって電流密度を実質的に変化させる請求項48に記載の方法。
- 前記ゾーンは、高輝度光の点源である請求項48に記載の方法。
- 前記ゾーンは、前記プラズマがピンチ効果で収縮し、ネックを形成する領域である請求項48に記載の方法。
- 前記プラズマによる発光を局在化するためネック状領域を定める工程を含む請求項48に記載の方法。
- 前記パルス電力システムは、エネルギー蓄積装置を備える請求項48に記載の方法。
- 前記エネルギー蓄積装置は、少なくとも1つのキャパシタを備える請求項53に記載の方法。
- 前記パルス電力システムは、第2の磁気コアを備える請求項48に記載の方法。
- 前記第2の磁気コアからエネルギーのそれぞれのパルスを前記第1の磁気コアに放出し、前記プラズマに電力を送る工程を含む請求項55に記載の方法。
- 前記第2の磁気コアから前記プラズマ放電領域の前記一部を囲む前記磁気コアに流れる誘導漏れ電流を使用して前記イオン性媒体をあらかじめイオン化する工程を含む請求項55に記載の方法。
- エネルギーのそれぞれのパルスを、エネルギーの前記パルスを前記磁気コアに印加するのに先立って圧縮する工程を含む請求項48に記載の方法。
- 前記室内に配置されたチャネル領域内に少なくとも本質的に1つのZピンチを発生させる工程を含む請求項48に記載の方法。
- 前記室内に配置されたチャネル領域内に少なくとも本質的に1つのキャピラリ放電を発生させる工程を含む請求項48に記載の方法。
- 少なくとも1つの口を介して前記イオン性媒体を前記室内に導入する工程を含む請求項48に記載の方法。
- キセノン、リチウム、スズ、窒素、アルゴン、ヘリウム、フッ素、アンモニア、スタンナン、クリプトン、およびネオンからなる群から選択された少なくとも1つまたは複数のガスを含むイオン性媒体を供給する工程を含む請求項48に記載の方法。
- イオン源で前記イオン性媒体をあらかじめイオン化する工程を含む請求項48に記載の方法。
- エンクロージャの2つの平行板で前記コアの周りに一次巻線を形成する工程を含む請求項48に記載の方法。
- 約100nmよりも短い波長の光を発生する工程を含む請求項48に記載の方法。
- 半導体製造のためのリソグラフィシステムであって、
少なくとも1つの光収集光学系と、
前記少なくとも1つの光収集光学系と光で連絡する少なくとも1つの集光器光学系と、
前記少なくとも1つの光収集光学系により収集するために光を発生することができる光源であって、
i.プラズマ放電領域を有し、イオン性媒体を含む室と、
ii.前記プラズマ放電領域の一部を囲む磁気コアと、
iii.エネルギーの少なくとも1つのパルスを前記磁気コアに供給し、前記プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送り、前記プラズマは局所的高輝度ゾーンを有する、パルス電力システムとを備える、光源とを備えるリソグラフィシステム。 - 前記プラズマにより放射される光は、前記少なくとも1つの光収集光学系により収集され、前記少なくとも1つの集光器光学系により集光され、少なくとも部分的にリソグラフィマスクに通される請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記プラズマは、前記プラズマ内の電流経路にそって電流密度を実質的に変化させる請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ゾーンは、高輝度光の点源である請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ゾーンは、前記プラズマがピンチ効果で収縮し、ネックを形成する領域である請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記室内の特徴は、前記ゾーンを形成する請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- ガス圧力は、前記ゾーンを形成する請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記プラズマの電流は、前記ゾーンを形成する請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記特徴は、前記プラズマによる発光を実質的に局在化するように構成される請求項71に記載のリソグラフィシステム。
- 前記特徴は、前記磁気コアに関して離れた場所に配置される請求項71に記載のリソグラフィシステム。
- 前記特徴は、前記プラズマによる発光を局在化するためネック状領域を定める請求項71に記載のリソグラフィシステム。
- 前記特徴は、ガス入口を含む請求項71に記載のリソグラフィシステム。
- 前記特徴は、冷却機能を備える請求項71に記載のリソグラフィシステム。
- 前記冷却機能は、水の加圧された過冷却対流沸騰を伴う請求項78に記載のリソグラフィシステム。
- 前記磁気コアに供給されるエネルギーの前記少なくとも1つのパルスは、前記プラズマを形成する請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記パルス電力システムは、毎秒約100パルスから毎秒約15,000パルスまでの範囲の周波数のエネルギーのそれぞれのパルスを供給する請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- エネルギーのそれぞれのパルスは、約10nsから約10μsまでの持続時間の間に、供給される請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記パルス電力システムは、エネルギー蓄積装置を備える請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記エネルギー蓄積装置は、少なくとも1つのキャパシタを備える請求項83に記載のリソグラフィシステム。
- 前記パルス電力システムは、第2の磁気コアを備える請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記第2の磁気コアは、エネルギーのそれぞれのパルスを前記第1の磁気コアに放出し、前記プラズマに電力を送る請求項85に記載のリソグラフィシステム。
- 前記第2の磁気コアから前記プラズマ放電領域の前記一部を囲む前記磁気コアに流れる誘導漏れ電流は、前記イオン性媒体をあらかじめイオン化する請求項85に記載のリソグラフィシステム。
- 前記パルス電力システムは、磁気圧縮パルス発生器を備える請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記パルス電力システムは、エネルギーの前記パルスを前記磁気コアに選択的に送出するための磁気スイッチを備える請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記パルス電力システムは、可飽和インダクタを備える請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記磁気コアは、前記室内に配置されたチャネル領域内に少なくとも本質的に1つのZピンチを発生させるように構成される請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記磁気コアは、前記室内に配置されたチャネル領域内に少なくとも本質的に1つのキャピラリ放電を発生させるように構成される請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- さらに、前記イオン性媒体を前記室内に導入するための少なくとも1つの口を備える請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記イオン性媒体は、キセノン、リチウム、スズ、窒素、アルゴン、ヘリウム、フッ素、アンモニア、スタンナン、クリプトン、およびネオンからなる群から選択された少なくとも1つまたは複数のガスである請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記イオン性媒体をあらかじめイオン化するためのイオン源を備える請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記イオン源は、紫外線灯、RF源、スパークプラグ、およびDC放電源からなる群から選択された発生源である請求項95に記載のリソグラフィシステム。
- 少なくとも部分的に前記磁気コアを取り囲むエンクロージャを備える請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記エンクロージャは、複数の孔を定める請求項97に記載のリソグラフィシステム。
- 複数のプラズマループは、前記磁気コアが前記プラズマに電力を送るときに前記複数の孔を通る請求項98に記載のリソグラフィシステム。
- 前記エンクロージャは、2つの平行板を備える請求項97に記載のリソグラフィシステム。
- 前記平行板は、導電性であり、前記コアの周りに一次巻線を形成する請求項100に記載のリソグラフィシステム。
- 冷却剤は、前記局所的高輝度ゾーンに隣接する場所を冷却するため前記エンクロージャ内を貫流する請求項97に記載のリソグラフィシステム。
- 前記エンクロージャは、銅、タングステン、アルミニウム、および銅タングステン合金からなる群から選択された物質を含む請求項97に記載のリソグラフィシステム。
- 前記プラズマは、トランスの二次側を形成する請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- 前記特徴は、回転円盤内の少なくとも1つのアパーチャである請求項71に記載のリソグラフィシステム。
- 薄ガス層は、前記円盤から冷却された表面に熱を伝達する請求項105に記載のリソグラフィシステム。
- 前記光源は、前記光源がプラズマ放電を発生するときに約100nmよりも短い波長の光を発生するように構成される請求項66に記載のリソグラフィシステム。
- リソグラフィシステム内の半導体ウェハを照射する方法であって、
プラズマを発生することができるイオン性媒体を室内に導入する工程と、
磁気コアが前記プラズマに電力を送るように前記室内のプラズマ放電領域の一部を囲む前記磁気コアにエネルギーの少なくとも1つのパルスを印加し、前記プラズマは、局所的高輝度ゾーンを有する、工程と、
前記プラズマにより放射された光を収集する工程と、
前記収集された光を集光する工程と、
前記集光された光の少なくとも一部をマスクに通し、半導体ウェハの表面上に送る工程とを含む方法。 - リソグラフィシステム内の半導体ウェハを照射する方法であって、
プラズマを発生することができるイオン性媒体を室内に導入する工程と、
磁気コアが前記プラズマに電力を送るように前記室内のプラズマ放電領域の一部を囲む前記磁気コアにエネルギーの少なくとも1つのパルスを印加し、前記プラズマは、局所的高輝度ゾーンを有する、工程と、
前記プラズマにより放射された光を収集する工程と、
前記収集された光を集光する工程と、
前記集光された光の少なくとも一部をマスクから反射し、半導体ウェハの表面上に送る工程とを含む方法。 - 半導体製造のためのリソグラフィシステムであって、
少なくとも1つの光収集光学系と、
前記少なくとも1つの収集光学系と光で連絡する少なくとも1つの集光器光学系と、
前記少なくとも1つの光収集光学系により収集するために光を発生することができる光源であって、
i.プラズマ放電領域を有し、イオン性媒体を含む室と、
ii.前記プラズマ放電領域の一部を囲む磁気コアと、
iii.エネルギーの少なくとも1つのパルスを前記磁気コアに供給し、前記プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送り、前記プラズマは局所的高輝度ゾーンを有する、手段とを備える、光源とを備えるリソグラフィシステム。 - 顕微鏡システムであって、
光を収集するための第1の光学素子と、
試料の像を検出器上に投射するための第2の光学素子であって、前記検出器は前記第1および第2の光学素子と光で連絡する、第2の光学素子と、
前記第1の光学素子と光で連絡する光源であって、
i.プラズマ放電領域を有し、イオン性媒体を含む室と、
ii.前記プラズマ放電領域の一部を囲む磁気コアと、
iii.エネルギーの少なくとも1つのパルスを前記磁気コアに供給し、前記プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送り、前記プラズマは局所的高輝度の場所を有する、パルス電力システムとを備える、光源とを備える顕微鏡システム。 - 前記第1の光学素子は、前記光源により放射される光を収集して前記試料を照射し、前記第2の光学素子は、前記試料の像を前記検出器上に投射する請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記プラズマは、前記プラズマ内の電流経路にそって電流密度を実質的に変化させる請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記ゾーンは、高輝度光の点源である請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記ゾーンは、前記プラズマがピンチ効果で収縮し、ネックを形成する領域である請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記室内の特徴は、前記ゾーンを形成する請求項111に記載の顕微鏡システム。
- ガス圧力は、前記ゾーンを形成する請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記プラズマの電流は、前記ゾーンを形成する請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記特徴は、前記プラズマによる発光を実質的に局在化するように構成される請求項116に記載の顕微鏡システム。
- 前記特徴は、前記磁気コアに関して離れた場所に配置される請求項116に記載の顕微鏡システム。
- 前記特徴は、前記プラズマによる発光を局在化するためネック状領域を定める請求項116に記載の顕微鏡システム。
- 前記特徴は、ガス入口を含む請求項116に記載の顕微鏡システム。
- 前記特徴は、冷却機能を備える請求項116に記載の顕微鏡システム。
- 前記磁気コアに供給されるエネルギーの前記少なくとも1つのパルスは、前記プラズマを形成する請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記パルス電力システムは、毎秒約100パルスから毎秒約15,000パルスまでの範囲の周波数のエネルギーのそれぞれのパルスを供給する請求項111に記載の顕微鏡システム。
- エネルギーのそれぞれのパルスは、約10nsから約10μsまでの持続時間の間に、供給される請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記パルス電力システムは、エネルギー蓄積装置を備える請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記エネルギー蓄積装置は、少なくとも1つのキャパシタを備える請求項127に記載の顕微鏡システム。
- 前記パルス電力システムは、第2の磁気コアを備える請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記第2の磁気コアは、エネルギーのそれぞれのパルスを前記第1の磁気コアに放出し、前記プラズマに電力を送る請求項129に記載の顕微鏡システム。
- 前記第2の磁気コアから前記プラズマ放電領域の前記一部を囲む前記磁気コアに流れる誘導漏れ電流は、前記イオン性媒体をあらかじめイオン化する請求項129に記載の顕微鏡システム。
- 前記パルス電力システムは、磁気圧縮パルス発生器を備える請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記パルス電力システムは、エネルギーの前記パルスを前記磁気コアに選択的に送出するための磁気スイッチを備える請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記パルス電力システムは、可飽和インダクタを備える請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記磁気コアは、前記室内に配置されたチャネル領域内に少なくとも本質的に1つのZピンチを発生させるように構成される請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記磁気コアは、前記室内に配置されたチャネル領域内に少なくとも本質的に1つのキャピラリ放電を発生させるように構成される請求項111に記載の顕微鏡システム。
- さらに、前記イオン性媒体を前記室内に導入するための少なくとも1つの口を備える請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記イオン性媒体は、キセノン、リチウム、スズ、窒素、アルゴン、ヘリウム、フッ素、アンモニア、スタンナン、クリプトン、およびネオンからなる群から選択された少なくとも1つまたは複数のガスである請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記イオン性媒体をあらかじめイオン化するためのイオン源を備える請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記イオン源は、紫外線灯、RF源、スパークプラグ、およびDC放電源からなる群から選択された発生源である請求項139に記載の顕微鏡システム。
- 少なくとも部分的に前記磁気コアを取り囲むエンクロージャを備える請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記エンクロージャは、複数の孔を定める請求項141に記載の顕微鏡システム。
- 複数のプラズマループは、前記磁気コアが前記プラズマに電力を送るときに前記複数の孔を通る請求項142に記載の顕微鏡システム。
- 前記エンクロージャは、2つの平行板を備える請求項141に記載の顕微鏡システム。
- 前記平行板は、導電性であり、前記コアの周りに一次巻線を形成する請求項144に記載の顕微鏡システム。
- 冷却剤は、前記局所的高輝度ゾーンに隣接する場所を冷却するため前記エンクロージャ内を貫流する請求項141に記載の顕微鏡システム。
- 前記エンクロージャは、銅、タングステン、アルミニウム、および銅タングステン合金からなる群から選択された物質を含む請求項141に記載の顕微鏡システム。
- 前記プラズマは、トランスの二次側を形成する請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 前記特徴は、回転円盤内の少なくとも1つのアパーチャである請求項116に記載の顕微鏡システム。
- 薄ガス層は、前記円盤から冷却された表面に熱を伝達する請求項149に記載の顕微鏡システム。
- 前記光源は、前記光源がプラズマ放電を発生するときに約100nmよりも短い波長の光を発生するように構成される請求項111に記載の顕微鏡システム。
- 顕微鏡法であって、
プラズマを発生することができるイオン性媒体を室内に導入する工程と、
磁気コアが前記プラズマに電力を送るように前記室内のプラズマ放電領域の一部を囲む前記磁気コアにエネルギーの少なくとも1つのパルスを印加し、前記プラズマは、局所的高輝度ゾーンを有する、工程と、
前記プラズマにより放射された光を第1の光学素子で収集する工程と、
前記収集された光を試料に投射して通す工程と、
前記試料を通して放射された前記光を検出器に投射する工程とを含む顕微鏡法。 - 顕微鏡システムであって、
レンズと、
前記レンズと光で連絡している検出器と、
前記レンズと光で連絡する光源であって、
i.プラズマ放電領域を有し、イオン性媒体を含む室と、
ii.前記プラズマ放電領域の一部を囲む磁気コアと、
iii.エネルギーの少なくとも1つのパルスを前記磁気コアに供給し、前記プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送り、前記プラズマは局所的高輝度ゾーンを有する、手段とを備える、光源とを備える顕微鏡システム。 - 誘導駆動プラズマ光源用の挿入物であって、
少なくとも1つの内部通路を定め、第1の開放端と第2の開放端とを備える本体と、
プラズマ放電領域内で誘導駆動プラズマ光源と結合するように適合された外面とを備える挿入物。 - 前記少なくとも1つの内部通路は、前記プラズマ内に局所的高輝度ゾーンを形成する領域を定める請求項154に記載の挿入物。
- 消耗品である請求項154に記載の挿入物。
- 冷却構造物と熱で連絡する請求項154に記載の挿入物。
- 前記外面は、前記プラズマ光源の室の内側のリセプタクルのねじ山により前記プラズマ源に結合される請求項154に記載の挿入物。
- 前記プラズマ光源の室内のリセプタクルに滑りばめされ、前記プラズマ放電領域内のプラズマによる加熱のため締まる請求項154に記載の挿入物。
- 前記挿入物の前記少なくとも1つの内部通路の少なくとも1つの表面は、プラズマスパッタ速度の遅い物質を含む請求項154に記載の挿入物。
- 前記物質は、カーボン、チタン、タングステン、ダイヤモンド、黒鉛、炭化ケイ素、ケイ素、ルテニウム、および耐熱材料からなる群から選択される請求項160に記載の挿入物。
- 前記挿入物の前記少なくとも1つの内部通路の少なくとも1つの表面は、プラズマスパッタ速度の遅い、熱伝導率の高い物質を含む請求項154に記載の挿入物。
- 前記物質は、高配向熱分解黒鉛または熱分解黒鉛である請求項162に記載の挿入物。
- 前記挿入物の前記少なくとも1つの内部通路の少なくとも1つの表面は、EUV放射線の吸収率の低い物質を含む請求項154に記載の挿入物。
- 前記物質は、ルテニウムおよびケイ素からなる群から選択される請求項164に記載の挿入物。
- 前記少なくとも1つの内部通路の形状は、前記高輝度ゾーンのサイズおよび形状を制御するために使用される請求項155に記載の挿入物。
- 前記少なくとも1つの内部通路は、前記第1の開放端と前記第2の開放端との中程の直線を中心に非対称的である幾何学的形状を有する内面を持つ請求項166に記載の挿入物。
- 前記少なくとも1つの内部通路は、前記内部通路の端から端までの最小寸法よりも実質的に小さい曲率半径により定められる幾何学的形状を持つ内面を有する請求項166に記載の挿入物。
- 前記少なくとも1つの内部通路は、前記内部通路の端から端までの最小寸法の約25%から約100%までの範囲の曲率半径により定められる幾何学的形状を持つ内面を有する請求項166に記載の挿入物。
- 前記少なくとも1つの内部通路は、前記少なくとも1つの内部通路の縮小された寸法を定める内面を有する請求項166に記載の挿入物。
- 前記本体は、2つまたはそれ以上の本体により定められる請求項154に記載の挿入物。
- 誘導駆動プラズマ光源用の挿入物であって、
少なくとも1つの内部通路を定め、第1の開放端と第2の開放端とを備える本体と、
プラズマ放電領域内で誘導駆動プラズマ光源と結合するための手段とを備える誘導駆動プラズマ光源用の挿入物。 - 前記本体内に少なくとも1つのガス入口孔を備える請求項154に記載の挿入物。
- 前記本体を通過する少なくとも1つの冷却チャネルを備える請求項154に記載の挿入物。
- ロボットアームを使用して交換することができる請求項154に記載の挿入物。
- 光源であって、
プラズマ放電領域を有し、イオン性媒体を含む室と、
前記プラズマ放電領域の一部を囲む磁気コアと、
エネルギーを前記磁気コアに供給し、前記プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送り、前記プラズマは局所的高輝度ゾーンを備える、電力システムと、
間接的または直接的プラズマ放出物を減らすため前記光源に関して配置されているフィルタとを備える光源。 - 前記フィルタは、前記高輝度ゾーンから発せられる放射線の方向に実質的に平行である壁、および前記壁と壁の間のチャネルを備える請求項176に記載の光源。
- 前記放出物に曝される前記フィルタの表面は、プラズマスパッタ速度の低い物質を含む請求項176に記載の光源。
- 前記物質は、カーボン、チタン、タングステン、ダイヤモンド、黒鉛、炭化ケイ素、ケイ素、ルテニウム、および耐熱材料からなる群から選択される請求項178に記載の光源。
- 前記フィルタは、プラズマスパッタ速度の低い、熱伝導率の高い物質を含む請求項176に記載の光源。
- 前記物質は、高配向熱分解黒鉛(HOPG)または熱分解黒鉛である請求項180に記載の光源。
- 前記フィルタは、前記高輝度ゾーンから発せられる放射線に平行に進行しない放出物との衝突を最大にするように構成される請求項176に記載の光源。
- 前記フィルタは、前記高輝度ゾーンから発せられる放射線に平行に進行する放出物の低減を最小にするように構成される請求項176に記載の光源。
- 前記フィルタは、冷却チャネルを備える請求項176に記載の光源。
- ガスのカーテンは、前記フィルタと放射線以外の放出物との間の衝突を大きくするように前記フィルタの付近に保持される請求項176に記載の光源。
- 光信号を発生する方法であって、
プラズマを発生することができるイオン性媒体を室内に導入する工程と、
磁気コアが前記プラズマに電力を送るように前記室内のプラズマ放電領域の一部を囲む前記磁気コアにエネルギーを印加し、前記プラズマは、局所的高輝度ゾーンを有する、工程と、
前記プラズマの前記局所的高輝度ゾーンから発せられる放出物をフィルタ処理する工程とを含む方法。 - 前記フィルタ処理する工程は、前記高輝度ゾーンから発せられる放射線の方向に実質的に平行である壁、および前記壁と壁の間のチャネルを配置する工程を含む請求項186に記載の方法。
- 前記放出物に曝される前記フィルタの表面は、プラズマスパッタ速度の低い物質を含む請求項186に記載の方法。
- 前記物質は、カーボン、チタン、タングステン、ダイヤモンド、黒鉛、炭化ケイ素、ケイ素、ルテニウム、および耐熱材料からなる群から選択される請求項188に記載の方法。
- 前記フィルタは、プラズマスパッタ速度の低い、熱伝導率の高い物質を含む請求項186に記載の方法。
- 前記物質は、高配向熱分解黒鉛(HOPG)または熱分解黒鉛であり、光源は、
プラズマ放電領域を有し、イオン性媒体を含む室と、
前記プラズマ放電領域の一部を囲む磁気コアと、
エネルギーを前記磁気コアに供給し、前記プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送り、前記プラズマは局所的高輝度ゾーンを備える、電力システムと、
前記高輝度ゾーンから放出される放射線の方向に実質的に平行に進行する放出物の低減を最小にするための手段と、
前記高輝度ゾーンから放出される放射線の方向に実質的に平行でない方向に進行する放出物の低減を最大にするための手段とを備える請求項190に記載の方法。 - 誘導駆動プラズマからの熱流束およびイオン流束を大きな表面領域上に拡散させるためのシステムであって、
誘導駆動プラズマ源内のプラズマの一領域内に配置された、外面を有する、少なくとも1つの物体と、
前記物体と熱で連絡している冷却チャネルとを備え、
前記物体の少なくとも前記外面は、前記プラズマに関して移動するシステム。 - 前記少なくとも1つの物体の前記外面は、犠牲層を備える請求項193に記載のシステム。
- 前記犠牲層は、前記外面上に連続的にコーティングされる請求項193に記載のシステム。
- 前記犠牲層は、EUV放射線を放出する物質を含む請求項193に記載のシステム。
- 前記物質は、リチウムまたはスズである請求項196に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つの物体は、密集して並ぶ2本の棒である請求項193に記載のシステム。
- 前記棒の間の空間は、前記プラズマ内に局所的高輝度ゾーンを形成する一領域を定める請求項198に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つの物体の局所幾何学的形状は、局所的高輝度ゾーンを形成する一領域を定める請求項193に記載のシステム。
- 誘導生成プラズマからの熱流束およびイオン流束を大きな表面領域上に拡散させるための方法であって、
誘導駆動プラズマを発生する工程と、
外面を有する物体を前記誘導駆動プラズマの一領域内に配置する工程と、
前記物体と熱で連絡する冷却チャネルを前記物体に備える工程と、
前記物体の少なくとも前記外面を、前記プラズマに関して移動する工程とを含む方法。 - 前記プラズマは、前記物体の前記外面から犠牲層を腐食する請求項201に記載の方法。
- 前記物体の前記外面を前記犠牲層で連続的にコーティングする工程を含む請求項202に記載の方法。
- 前記犠牲層は、EUV放射線を放出する物質を含む請求項203に記載の方法。
- 前記物質は、リチウムまたはスズである請求項204に記載の方法。
- 前記プラズマ内に局所的高輝度ゾーンを形成するために前記プラズマ内に前記物体を配置する工程を含む請求項201に記載の方法。
- 前記プラズマ内に局所的高輝度ゾーンを形成する一領域を定めるために前記第1の物体に関して第2の物体を配置する工程を含む請求項206に記載の方法。
- 光源であって、
プラズマ放電領域を有し、イオン性媒体を含む室と、
前記プラズマ放電領域の一部を囲む磁気コアと、
エネルギーの少なくとも1つのパルスを前記磁気コアに供給し、前記プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送り、前記プラズマは局所的高輝度ゾーンを有する、パルス電力システムと、
前記プラズマの形状を修正するために前記室内に配置された磁石とを備える光源。 - 前記磁石は、前記局所的高輝度ゾーンを形成する請求項208に記載の光源。
- 前記磁石は、永久磁石または電磁石である請求項208に記載の光源。
- 前記磁石は、前記高輝度ゾーンに隣接して配置される請求項208に記載の光源。
- プラズマEUV光源を動作させる方法であって、
プラズマにより室内にEUV光を発生させる工程と、
前記プラズマ内に高輝度の局所的領域を定める消耗品を備える工程と、
選択された基準に基づく時間の経過後に、前記室を大気条件に曝すことなく無人操縦で前記消耗品を交換する工程とを含む方法。 - 前記選択された基準は、
所定の時間、前記消耗品の測定された劣化、または前記EUV光源を動作させる際のプロセス制御変数の測定された劣化のうちの1つまたは複数である請求項212に記載の方法。 - 前記プラズマ光源は、誘導駆動プラズマ光源である請求項212に記載の方法。
- 前記消耗品の交換時に前記室内の真空状態を維持する工程を含む請求項212に記載の方法。
- 前記消耗品は、前記室内に配置される挿入物である請求項212に記載の方法。
- 前記消耗品は、ロボットアームにより交換される請求項212に記載の方法。
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