JP2008502800A - 点火ユニットのための固定装置及び炭素析出装置 - Google Patents
点火ユニットのための固定装置及び炭素析出装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008502800A JP2008502800A JP2007515915A JP2007515915A JP2008502800A JP 2008502800 A JP2008502800 A JP 2008502800A JP 2007515915 A JP2007515915 A JP 2007515915A JP 2007515915 A JP2007515915 A JP 2007515915A JP 2008502800 A JP2008502800 A JP 2008502800A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ignition
- ignition unit
- holder
- fixing device
- holders
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0605—Carbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32055—Arc discharge
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
本発明による、点火ユニットのための固定装置及び炭素析出装置は、点火ユニットの簡単な交換が可能であって、しかもこの際に、新たに組み込まれた点火ユニットの、組み込み時に得られた傾斜を調整する必要がない、という利点を有している。本発明による固定装置によって点火ユニットを組み込むことによって、コーティング装置のターゲットカソードに対する点火ユニットの傾斜が自動的に得られる。しかも、固定装置を簡単に操作することによって、複数の点火ユニットをより迅速に交換することができる。さらにまた、例えば固定装置の整備又はコントロールのための付加的な費用は事実上必要ない。
本発明の実施例を図面及び以下の説明を用いて詳しく説明する。
図2は、組み込まれた点火ユニット及びターゲットカソードを備えた固定装置の横断面図、
図3は、第1の点火ユニットの斜視図、
図4は、第2の点火ユニットの斜視図、
図5は、炭素析出装置の主要な構成部分を示す図、
図6は、冷却水循環路、ベース電極及び複数の点火ユニットを備えたターゲットカソードの平面図である。
図1に横断面で示された、特に炭素析出装置の点火ユニットのための固定装置82は、第1及び第2のホルダ85,90を有している。2つのホルダ85,90は、図2に示されているように、固定手段95によって保持されている。2つのホルダ85,90の長さ寸法はそれぞれ、その厚さ寸法よりも大きい。図1に示されているように、2つのホルダ85,90の長手方向に沿ってそれぞれ長手方向軸線105,107が延びている。標準的な実施例では、第1のホルダ85の全長は、第2のホルダ90の全長よりも大きい。
Claims (12)
- 殊に炭素析出装置の点火ユニット(20)のための固定装置において、
前記点火ユニット(20)が2つの金属製の電極(25,30)を有しており、これら2つの電極(25,30)間の中間室内に絶縁セラミック(35)が配置されており、
前記点火ユニット(20)が、第1のホルダ(85)と第2のホルダ(90)との間に配置されており、
前記2つのホルダ(85,90)が少なくとも1つの固定手段(95)によって結合されており、
第1のホルダ(85)は、この第1のホルダ(85)の長手方向軸線(105)に対して0゜〜45゜の間の第1の角度(110)で傾斜する平面(100)を有していて、
点火ユニット(20)の、点火が行われる端面側(55)が、前記平面(100)に対して垂直に配置されていることを特徴とする、点火ユニットのための固定装置。 - 前記平面(100)が、第1のホルダ(85)内に形成された第1の切欠(102)の壁部の一部であって、前記切欠(102)内に点火ユニット(20)が少なくとも部分的に挿入されている、請求項1記載の固定装置。
- 第2のホルダ(90)が第2の切欠(92)を有していて、該第2の切欠(92)内に点火ユニット(20)が少なくとも部分的に挿入されている、請求項1又は2記載の固定装置。
- 第1のホルダ(85)と第2のホルダ(90)とが、前記固定手段(95)を取り付けるための孔(104,106)をそれぞれ1つ有している、請求項1から3までのいずれか1項記載の固定装置。
- 第1のホルダ(85)の孔(104)と第2のホルダ(90)の孔(106)とが互いに同軸的に整列している、請求項4記載の固定装置。
- 前記固定手段(95)がねじ(115)である、請求項1から5までのいずれか1項記載の固定装置。
- 2つのホルダ(85,90)が導電性の材料より成っている、請求項1から6までのいずれか1項記載の固定装置。
- 前記固定手段(95)が絶縁体(112)によって少なくとも1つの前記ホルダ(85,90)に対して電気的に分離されている、請求項1から7までのいずれか1項記載の固定装置。
- 絶縁体(112)がセラミック製の絶縁スリーブ(114)である、請求項8記載の固定装置。
- 殊に四面体構造の並列されたアモルファス炭素層(ta−C)を析出するための炭素析出装置であって、炭素より成るターゲットカソード(10)と、少なくとも2つの点火ユニット(20)と固定装置(82)とを有しており、この場合、点火ユニット(20)が固定装置(82)によってターゲットカソード(10)の縁部領域に固定されていて、点火が行われる端面側(55)がターゲットカソード(10)側に向いている形式のものにおいて、
固定装置が第1及び第2のホルダ(85,90)を有していて、これら2つのホルダ(85,90)が少なくとも1つの固定手段(95)によって結合されており、第1のホルダ(85)が装置の支持体(130)に堅固に結合されていて、第2のホルダ(90)と共に、点火ユニット(20)を2つのホルダ(85,90)間で傾いて配置しており、それによって、点火ユニット(20)の端面側(55)がターゲットカソード(10)に対して所定の角度(135)を成すようになっていることを特徴とする、炭素析出装置。 - 前記所定の角度(135)が45゜〜90゜の間である、請求項10記載の炭素析出装置。
- 2つのホルダ(85,90)のうちの一方が、点火ユニット(20)の接触しようとする電極(25)と共に、1つの共通の点火カソード(120)を形成している、請求項10又は11記載の炭素析出装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004029525A DE102004029525B4 (de) | 2004-06-18 | 2004-06-18 | Befestigungseinheit für Zündeinheiten und Vorrichtung zur Kohlenstoffabscheidung |
PCT/EP2005/051854 WO2005123977A1 (de) | 2004-06-18 | 2005-04-26 | Befestigungseinheit für zündeinheiten und vorrichtung zur kohlenstoffabscheidung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008502800A true JP2008502800A (ja) | 2008-01-31 |
JP4664972B2 JP4664972B2 (ja) | 2011-04-06 |
Family
ID=34969279
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007515915A Expired - Fee Related JP4664972B2 (ja) | 2004-06-18 | 2005-04-26 | 点火ユニットのための固定装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080251017A1 (ja) |
EP (1) | EP1763592B1 (ja) |
JP (1) | JP4664972B2 (ja) |
DE (2) | DE102004029525B4 (ja) |
WO (1) | WO2005123977A1 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000502929A (ja) * | 1996-01-12 | 2000-03-14 | テトラ コンサルト リミテッド | テトラカーボン |
DE10155120A1 (de) * | 2001-11-09 | 2003-05-28 | Ernst Klinkenberg | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Substrats durch eine verteilt initiierte gepulste kathodische Bogenerosion einer Opferelektrode |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3516598A1 (de) * | 1985-05-08 | 1986-11-13 | INTERATOM GmbH, 5060 Bergisch Gladbach | Vorrichtung zum bewegen einer zuendelektrode in einer plasmabeschichtungskammer |
DE3881256D1 (de) * | 1987-03-06 | 1993-07-01 | Balzers Hochvakuum | Verfahren und vorrichtungen zum vakuumbeschichten mittels einer elektrischen bogenentladung. |
JP2718731B2 (ja) * | 1988-12-21 | 1998-02-25 | 株式会社神戸製鋼所 | 真空アーク蒸着装置及び真空アーク蒸着方法 |
EP0757615B1 (en) * | 1994-04-25 | 2004-03-31 | The Gillette Company | Process of coating a layer of amorphous diamond on blades |
GB9722648D0 (en) * | 1997-10-24 | 1997-12-24 | Univ Nanyang | ARC monitoring |
JP3607531B2 (ja) * | 1999-05-28 | 2005-01-05 | シャープ株式会社 | 帯電装置 |
RU2153782C1 (ru) * | 1999-06-02 | 2000-07-27 | Закрытое акционерное общество "Патинор Коутингс Лимитед" | Импульсный источник углеродной плазмы |
KR20020037995A (ko) * | 2000-11-16 | 2002-05-23 | 구자홍 | 플라즈마 중합 처리장치의 전극 구조 |
-
2004
- 2004-06-18 DE DE102004029525A patent/DE102004029525B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-04-26 DE DE502005010938T patent/DE502005010938D1/de active Active
- 2005-04-26 US US11/628,581 patent/US20080251017A1/en not_active Abandoned
- 2005-04-26 JP JP2007515915A patent/JP4664972B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-04-26 EP EP05749696A patent/EP1763592B1/de active Active
- 2005-04-26 WO PCT/EP2005/051854 patent/WO2005123977A1/de active Application Filing
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000502929A (ja) * | 1996-01-12 | 2000-03-14 | テトラ コンサルト リミテッド | テトラカーボン |
DE10155120A1 (de) * | 2001-11-09 | 2003-05-28 | Ernst Klinkenberg | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Substrats durch eine verteilt initiierte gepulste kathodische Bogenerosion einer Opferelektrode |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102004029525A1 (de) | 2006-01-12 |
DE502005010938D1 (de) | 2011-03-17 |
DE102004029525B4 (de) | 2006-12-07 |
WO2005123977A1 (de) | 2005-12-29 |
EP1763592A1 (de) | 2007-03-21 |
JP4664972B2 (ja) | 2011-04-06 |
US20080251017A1 (en) | 2008-10-16 |
EP1763592B1 (de) | 2011-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6076112B2 (ja) | イオンボンバードメント装置及びこの装置を用いた基材の表面のクリーニング方法 | |
JPH10509833A (ja) | プラズマ処理用線形アーク放電発生装置 | |
US6110540A (en) | Plasma apparatus and method | |
TW200830390A (en) | Method and apparatus for manufacturing cleaned substrates or clean substrates which are further processed | |
US6936145B2 (en) | Coating method and apparatus | |
RU2479885C2 (ru) | Способ изготовления обработанной поверхности и вакуумные источники плазмы | |
JP4664972B2 (ja) | 点火ユニットのための固定装置 | |
RU2153782C1 (ru) | Импульсный источник углеродной плазмы | |
JP4691097B2 (ja) | 炭素析出のための装置 | |
US20090057144A1 (en) | Arc Evaporation Source and Vacuum Deposition System | |
US20050121321A1 (en) | Ignition device | |
US6302056B1 (en) | Device for coating substrates with a material vapor in negative pressure or vacuum | |
JPH04315754A (ja) | イオンビ−ム発生装置 | |
CA2833048C (en) | Carbon spark evaporation | |
EP2038911A2 (en) | Device and method for thin film deposition using a vacuum arc in an enclosed cathode-anode assembly | |
JP5048538B2 (ja) | 同軸型真空アーク蒸着源及び真空蒸着装置 | |
US20240062995A1 (en) | Hollow cathode system for generating a plasma and method for operating such a hollow cathode system | |
JP4133296B2 (ja) | 蒸着源及び蒸着装置 | |
JP6917309B2 (ja) | 双極性アークコーティング法 | |
JP2002206162A (ja) | 真空アーク蒸発源 | |
KR200235003Y1 (ko) | 이온질화장치의 아크방지 및 열차단장치 | |
JPH04354863A (ja) | 真空アーク蒸発源 | |
JP4436003B2 (ja) | 真空成膜装置 | |
WO2003057939A2 (en) | Cathode for vacuum arc evaporators | |
DE29505888U1 (de) | Vorrichtung zum Zünden eines Vakuumlichtbogens |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100108 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100407 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100414 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100507 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100514 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100528 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100707 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101108 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20101116 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101210 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110107 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140114 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |