JP2008501982A - 表面増強ラマン分光(sers)用基板表面の製造方法及びシステム、及びそれを用いた装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、“表面増強ラマン分光用基板表面の製造方法及びシステム”と題され、2004年6月7日に出願された、シリアル番号 60/557,753の仮出願に対して、37 C.F.R.§1.19(e)による優先権を主張する。その完全な内容は、ここで言及することで、あたかもここですべてが述べられたかのように、全体中に明確に組み込まれる。
本発明は化学及び生物学的検出及び識別、さらに詳細には、表面増強ラマン分光を用いて化学物質や生体材料を低濃度で迅速に検出及び識別するための方法及びシステムに関する。
1977年に表面増強ラマン分光が発見されて以来、分析技術としての表面増強ラマン分光(SERS)は、貧弱な効率の基板に悩まされてきており、化学分析の信頼性のある方法として科学界に受け入れられることはなかった。1997年にSERSに関して単一分子での感度が発見され、その後にSERSにおける興味の増大が生じたにも関わらず、商業的な生産に適した有用な基板の開発において殆ど進歩がなかった。ここで開示されクレームされた発明の理念において具体化された技術革新の一つの面は、理論的及び実験的な面を伴った基板設計へのシステマティックなアプローチの実施である。このユニークなアプローチまたは方法は、基板の製造プロセスを、製造された基板の増強係数の性能に関する製造工程におけるパラメータの影響を定量化することで、最適化する。同時に、基板設計がどのように増強メカニズムに影響するかを分析するために理論的なアップローチが適用される。このプロセスは、所定の使用、即ち、特に所望する波長に使う基板を製造する可能性を提供する。これらの基板は、調理台のSERS器具から、携帯形化学検出器や安い化学/生物学的軍用センサまで、幅広い範囲の用途がある。
cereus)、バチルス サブチルス(Bacillus subtilis)及び人間の腸のコロナビールスについての、単一胞子/ビールス信号増強を示す測定されたラマンスペクトルを示す図である。
cereus) の単一胞子、バチルス サブチルス(Bacillus subtilis) の単一胞子及び、単一の人間の腸のコロナビールス(文献92)から集めたスペクトルを示す。これらのサンプルは、水中で懸濁され、分析前に基板上にドロップキャストされた。スペクトルはデジタル的にフィルターされ、蛍光の背景は除去された。スペクトルは、区別及び識別に必須な、生物学的材料のラマンスペクトルに含まれた高レベルの情報を示している。1000cpsまでのピーク高さを達成し、信号は総和で100秒間だった。632.8nmで2.5mWの低い入射レーザ出力が使用された。スペクトルの対ノイズ信号比(SNR)の値は、“フィンガープリント”領域の10から、主ピークにおける39を越えるまでに渡った。
SERS基板の製造
SERS基板設計
J. Appl. Phys., 92, 5264(2002)を参照)。我々が評価のために選択した三つのDOE要素(または、配置パラメータ)は、基板温度(TS)、蒸着速度(Rd)及びフィルム厚さ(Tf)であり、それらの範囲は、それぞれ31−120°C、0.3−1.2Å/s、及び10−30Åである。DOEは15実行のうち3回を、パラメータをその中央値、TS=75.5°C、Rd=0.75Å/s、及びTf=30Åにセットして繰り返し行う。DOEに規定された金フィルムを製造するための15の配置の正確な順序は、表Aに示される。各フィルムは、直径18mm、厚さ0.15mmの円形のホウケイ酸塩のガラスカバースリップ(Fisher Scientificより)上に直径11.4mmを越えて蒸着された。表Aには、図6Aに示した吸光スペクトルから求められる各フィルムの測定されたSPRW値を示す。各スペクトルにおいて、SPRW値は最大吸光に対応する波長に割り当てられている。表Aの計算されたSPRW値は、以下に述べるようにDOEの統計的分析から生成される経験式から得られた。
SERS基板の製造
molecule1-1 sr-1)、Nscは、SERS表面上の単位領域当たりの散乱体数(molecule cm-2)、ADは分光計によりモニタされるサンプル領域(cm2)、ΩDは、サンプルにおける分光計の収集立体角(solid angle)(steradians)、Tcolは、収集光学部品の伝導性(単位なし)、Qは、検出器の量子効率(e- per photon)、tは、観察時間(秒)である。式3において、括弧内の最初の項である、PD、β、及びNscはラマン散乱フォトン生成に関連しており、残りの項は、これらフォトンの検出を記述したものである。
molecule1-1 sr-1)、Nscは、SERS表面上の単位領域当たりの散乱体数(molecule cm-2)である。入射レーザパワーP0は、システムに関しては、70μWであり、632.8nmにおける各フォトンのエネルギは、EP=hc/□、ここで、hはプランク定数(6.626×10−34Js)、cは光速(3.0×108m/s、及び□は、レーザ波長(632.8×10−9m)である。入射レーザ放射がラマン散乱を20以上の帯域で生じさせると仮定する。従って、それぞれの与えたれた帯域で利用できるパワー密度は全入射パワーの5%である。
subtilis)の胞子表面は、約27のタンパク質からなる(文献96)。従って、その散乱は弱く、アミノ酸のラマン断面の典型的な値、βは、β=10−30cm2sr−1molecule−1である。上記からNs=3により占められる領域は、A〃 sp=NsA´sp=3(7.4×10−9cm2)=2.2×10−8cm2となる。単一のアミノ酸の領域がAaa=200Å(又は、2.0×10−14cm2)とすると、3胞子にの領域に含まれるアミノ酸の数は、Naa=A〃 sp/Aaa=2.2×10−8cm2/2.0×10−14cm2=1.1×106となる。ここで、さらに、アミノ酸の1.1×106の表面が100%SERS表面と接触しているものと仮定する。該表面におけるレーザ光線の直径ALは、散乱体の表面密度NSCを計算するのに使用される。これにより、式10となる。
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- 所望の部分的な表面プラスモン共鳴(LSPR)波長を有する金属化基板を製造する方法であって、該方法は、以下のステップを有する、
基板上に、少なくとも一つの金属を蒸着し、金属化基板を用意するステップ、
前記蒸着ステップの一つ以上の蒸着パラメータを制御して、金属化された基板のLSPRを、所望の波長に調整するステップ。 - 請求項1の方法において、
前記一つ以上の蒸着パラメータは、前記蒸着ステップ中の基板温度、蒸着速度、及び前記蒸着ステップ中に蒸着される金属の量からなるグループから選択された、少なくとも一つのパラメータを含む。 - 請求項1の方法において、
前記蒸着パラメータを制御するステップは、前記蒸着ステップ中の基板の温度、蒸着速度、及び前記蒸着ステップ中に蒸着される金属の量、の蒸着パラメータのそれぞれを制御する。 - 請求項1の方法において、
前記金属は、銀、金及び銅からなるグループから選択される。 - 請求項1の方法において、
該方法は、前記蒸着ステップを実行するために、熱蒸発器を利用するステップを更に有する。 - 請求項1の方法において、
該方法は、更に、前記蒸着ステップを実行する際に、
熱蒸発、スプラッタ蒸着、エレクトロビームリソグラフィ、レーザアブレーション及びケミカルベーパー蒸着、
のいずれかを利用するステップを有する。 - 請求項1の方法において、
該方法は、更に、前記所望の波長を決定するステップを有する。 - 請求項7の方法において、
前記所望の波長は、特定の励起光源の最大吸光を提供する波長である。 - 請求項1の方法において、
該方法は、更に、前記所望の波長を有する金属のLSPRとなる、一つ以上の蒸着パラメータのそれぞれについて、少なくとも一つの適切な値を決定するステップを有する。 - 請求項9の方法において、
前記基板は、該基板上に前記少なくとも一つの金属を蒸着する前に、その上に前もって設けられたマスクを有する。 - 請求項10の方法において、
前記基板に前もって設けられたマスクは、前記少なくとも一つの金属を前記基板上に蒸着する際に、エッジ効果が生じることを防止する。 - 表面増強分光工程に使用する増強表面の製造方法であって、前記増強表面は、所望の部分的な表面プラスモン共鳴(LSPR)波長を有するものであり、
前記方法は、以下のステップを有する、
前記表面増強分光工程に使用する励起光源の波長を決定するステップ、
前記励起光源に対して最適な増強を提供するLSPR波長を持った増強表面を製造するために、基板上に金属を蒸着する際に使用する一つ以上の蒸着パラメータの適切な値を決定するステップ、
前記一つ以上の蒸着パラメータについて決定された値に基づいて、基板上に金属を蒸着し、前記励起光源に対して最適な増強を提供するLSPR波長を持った増強表面を製造するステップ。 - 請求項12の方法において、
前記一つ以上の蒸着パラメータは、前記蒸着ステップ中の基板温度、蒸着速度、及び前記蒸着ステップ中に蒸着される金属の量からなるグループから選択された、少なくとも一つのパラメータを含む。 - 請求項12の方法において、
前記一つ以上の蒸着パラメータの適当な値を決定するステップは、前記蒸着ステップ中の基板温度、蒸着速度、及び前記蒸着ステップ中に蒸着される金属の量からなる蒸着パラメータの、それぞれの適切な値を決定することを含む。 - 請求項12の方法において、
前記金属は、銀、金及び銅からなるグループから選択される。 - 請求項12の方法において、
該方法は、前記蒸着ステップを実行するために、熱蒸発器を利用するステップを更に有する。 - 請求項12の方法において、
該方法は、更に、前記蒸着ステップを実行する際に、
熱蒸発、スプラッタ蒸着、エレクトロビームリソグラフィ、レーザアブレーション及びケミカルベーパー蒸着、
のいずれかを利用するステップを有する。 - 請求項12の方法において、
前記励起光源は、レーザである。 - 請求項12の方法において、
前記最適な増強を提供するLSPR波長は、前記励起光源の最大吸光を生じさせる波長である。 - 請求項12の方法において、
前記基板は、該基板上に前記少なくとも一つの金属を蒸着する前に、その上に前もって設けられたマスクを有する。 - 請求項20の方法において、
前記基板に前もって設けられたマスクは、前記少なくとも一つの金属を前記基板上に蒸着する際に、エッジ効果が生じることを防止する。 - 請求項12の方法において、
前記表面増強分光工程は、表面増強ラマン分光を含む。 - 請求項1から22のいずれか1項記載の方法により製造された、所望の部分的な表面プラスモン共鳴(LSPR)波長を有する金属基板。
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