JP2008311395A - 加熱処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】昇降部材3を駆動して、ホットプレート7が下降位置から上昇すると、先ず支持ピン12上の被処理基板Wがホットプレート7に受け渡され、更にホットプレート7が上昇すると、受け部材17のOリング18が上蓋8の下面に当接し、上蓋8は支持板11から若干浮き上がる。この時点で上蓋8の重みはOリング18にかかり、ホットプレート7と上蓋8との間に気密な処理空間Sが画成される。この状態から加熱ガス供給部材14から加熱されたガスを処理空間S内に一側から送り込む。この送り込まれたガスは溶剤などを含んで他側のトラップ部15に至り、ここで、液化した溶剤を分離回収され、残りのガスは排気ダクト22を介して外部に放出される。
【選択図】図2
Description
昇華物は、処理室内の低温の部分に析出するため、特に処理室内の上方に析出し易い。このように上方に析出すると被処理基板上に堆積するおそれがある。
Claims (6)
- 複数の処理チャンバーを枠状フレーム内に上下方向に積層した加熱処理装置において、前記処理チャンバー内には被処理基板が載置されるホットプレートと、このホットプレートとの間で処理空間を形成する上蓋が配置され、前記ホットプレートは昇降部材によって昇降可能とされ、前記上蓋は前記ホットプレートが上昇した際にホットプレート側に移載可能となるように処理チャンバー内に設けられた支持部材に下方から支持され、また前記ホットプレートの一側には前記処理空間に加熱ガスを送り込む加熱ガス供給部材が設けられ、前記ホットプレートの他側には前記処理空間に供給された加熱ガスを吸引して溶剤を回収するトラップ部が設けられていることを特徴とする加熱処理装置。
- 請求項1に記載の基板の加熱処理装置において、前記トラップ部は、処理チャンバー内に設けられ、前記加熱ガス供給部材と共に昇降動することを特徴とする加熱処理装置。
- 請求項2に記載の基板の加熱処理装置において、処理チャンバー内に設けられた前記トラップ部に連結する第2のトラップ部が枠状フレーム外に設けられていることを特徴とする加熱処理装置。
- 請求項1に記載の基板の加熱処理装置において、前記トラップ部は、枠状フレーム外にのみ設けられていることを特徴とする加熱処理装置。
- 請求項1に記載の基板の加熱処理装置において、前記枠状フレームまたは処理チャンバーに排気ダクトが取り付けられ、この排気ダクトに前記トラップ部のガスの排出部が上下方向にスライド可能に係合していることを特徴とする加熱処理装置。
- 請求項1に記載の基板の加熱処理装置において、前記昇降部材は高さ方向において少なくともその一部が前記処理チャンバーと重なることを特徴とする加熱処理装置。
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2007
- 2007-06-14 JP JP2007157127A patent/JP4912227B2/ja active Active
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