JP2008307888A - 熱可塑性フイルム、熱可塑性フイルムの製造方法、熱可塑性フイルムの製造装置、並びに、偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルム及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】表面の品質を向上させると共に、例えば液晶表示素子の位相差膜等に使用した場合に、縦すじがなく、液晶の表示むらも低減させる。
【解決手段】第１ニップロール３７と第２ニップロール３９を用いて、０．０１を超え、０．３未満の縦横比で未延伸フイルムＦａを縦延伸する際に、第１ニップロール３７と第２ニップロール３９の直径をＲとしたとき、ニップロール３７及び３９間を搬送される熱可塑性フイルムＦａ’が、いずれかのニップロールと接触する際のラップ角度が１°以上、６０°以下にして行う。また、いずれかのニップロールと熱可塑性フイルムＦａ’との接触距離が０．０１Ｒ以上、０.５Ｒ以下にする。
【選択図】図３

Description

本発明は、溶融した熱可塑性樹脂をキャスティングロールとタッチロールとによって押し付けて押出し成形して得られる熱可塑性フイルム、熱可塑性フイルムの製造方法及び熱可塑性フイルムの製造装置に関する。また、本発明は、光学特性に熱可塑性フイルムを用いた偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルム及び液晶表示装置に関する。

従来、熱可塑性フイルムを延伸し、面内のレターデーションＲｅ（Ｒｅ=｜Ｎｘ―Ｎｙ｜×ｄ：Ｎｘ、Ｎｙはそれぞれ遅相軸、進相軸方向の屈折率、ｄはフイルム厚み）、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ｒｔｈ=｛（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｝×ｄ：Ｎｘ、Ｎｙ，Ｎｚはそれぞれ遅相軸、進相軸方向、厚み方向の屈折率、ｄはフイルム厚み）を発現させ、液晶表示素子の位相差膜として使用し、視野角拡大を図ることが実施されている。

このような技術として、特許文献１〜３が知られている。特許文献１には、縦横比（Ｌ／Ｗ）が０．３以上、２以下の短スパン間に設置した二対のニップロールでセルロースエステルを縦延伸する方法が記載されている。特許文献２及び３には、縦横比（Ｌ／Ｗ）が０．０１を超え、０．３未満の条件でセルロースアシレートシート及びノルボルネンを縦延伸し、Ｒｅ、Ｒｔｈの経時変化を改良する方法が記載されている。

特開２００３−３１５５５１号公報 特開２００５−３３０４１１号公報 特開２００５−３３０４１２号公報

ところで、フイルムは延伸により厚みが減少するが、断面方向に着眼すると、厚みの減少は均一に起こっておらず、厚み方向内部（内層）より表面（表層）の方が厚みの減少が発生し易い。内層が厚みを減少しようとしても、両側の表層の厚みの減少と綱引きとなり、十分な厚みの減少が生じないからである。一方、表層は、一方の片面が内層と接触しているが、他方の片面が空気層であり、内層に比べて厚みが減少し易い。この結果、内層よりも表層のほうが延伸の効果を受け易い。

そして、表層に凹凸があると、表層が延伸される効果に不均一が生じ、引いては延伸むらに起因する厚みむらが発生する。さらに凹凸に併せた延伸むらは、局部的に強く配向した所が生じる。このような高配向部分は緩和し易く、Ｒｅ、Ｒｔｈの変動、光弾性の分布（場所によるばらつき）を引き起こす。

表面の凹凸は必ずしも小さければよいわけではない。これが小さすぎると、表面が平滑になりすぎ、未延伸フイルム（原反）を横延伸部まで搬送する途中でロール等との間で軋みが発生し、横延伸直前の表面凹凸は却って大きくなってしまうためである。

特許文献１〜３等に示す方法は、上述した不都合点を十分に解決しておらず、延伸したフイルムを例えば液晶表示素子の位相差膜として使用すると、縦すじが発生しやすく、面状不良による液晶の表示むらが生じるという問題がある。

本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、表面の品質を向上させると共に、例えば液晶表示素子の位相差膜等に使用した場合に、縦すじがなく、液晶の表示むらも低減することができる熱可塑性フイルム、熱可塑性フイルムの製造方法及び熱可塑性フイルムの製造装置を提供することを目的とする。

さらに、本発明においては、前記熱可塑性フイルムを用いた偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルム及び液晶表示装置を提供することを目的とする。

第１の本発明に係る熱可塑性フイルムの製造方法は、第１ニップロールと第２ニップロールを用いて、０．０１を超え、０．３未満の縦横比で熱可塑性フイルムを縦延伸する際に、前記第１ニップロールと前記第２ニップロールの直径をＲとしたとき、ニップロール間を搬送される前記熱可塑性フイルムが、いずれかのニップロールと接触のラップ角度が１°以上、６０°以下にして行うことを特徴とする。ラップ角度が１°以上、５０°以下が好ましく、さらに好ましくは１°以上、４５°以下である。

これにより、延伸後の熱可塑性フイルムの表面の品質を向上させることができ、例えば液晶表示素子の位相差膜等に使用した場合に、縦すじがなく、フイルム表面の欠陥を低減し、液晶の表示むらも低減することができる。

そして、第１の本発明において、前記第１ニップロールと前記第２ニップロールのうち、いずれかのニップロールと前記熱可塑性フイルムとの接触距離が０．０１Ｒ以上、０．５Ｒ以下であることを特徴とする。より好ましくは、０．０５Ｒ以上、０．４５Ｒ以下、さらに好ましくは０．１Ｒ以上、０．４Ｒ以下である。この場合、熱可塑性フイルムとニップロールとの接触面積が増え、延伸時のフイルム体積収縮が均一化し、また延伸圧力が均一にかけられることから、延伸後の熱可塑性フイルムの平面性が改良されると共に、熱可塑性フイルムの縦すじ、突起物の欠陥を大幅に低減することができる。

また、前記第１ニップロールと前記第２ニップロール間を搬送される前記熱可塑性フイルムの水平方向とのなす角度が０．１°以上、６０°以下であることが好ましい。より好ましくは、３°以上、５０°以下、さらに好ましくは５°以上、４５°以下である。

また、第１の本発明において、前記第１ニップロールと前記第２ニップロールのうち、最後部のニップロールの回転数に０．０１％〜０．１％の変動を与えることが好ましい。つまり、最終部のニップロールを構成する２つのロールの回転数の間に０．０１％〜０．１％の変動を与える。

また、第１の本発明において、前記縦延伸した後の前記熱可塑性フイルムの下記式で特定されるネックイン量が０．１％以上、５％以下であってもよい。
ネックイン量（Ｎｉｎ）＝｛（Ｗ０−Ｗ１）／Ｗ０｝×１００（％）

ここで、式中、Ｗ０は縦延伸前の熱可塑性フイルムの幅、Ｗ１は縦延伸後の熱可塑性フイルムの幅を示す。

また、第１の本発明において、前記第１ニップロール及び前記第２ニップロールの幅方向の温度分布（Ｔｓ−Ｔｃ）が０．１℃以上、５℃以下であることが好ましい。ここで、Ｔｓは、熱可塑性フイルムの全幅の２０％以内の両端平均温度、Ｔｃは、熱可塑性フイルムの全幅の６０％以内の中央部平均温度を示す。

また、第１の本発明において、前記第１ニップロール及び前記第２ニップロールの押し込む圧力が０．５ＭＰａ以上、１５ＭＰａ以下であることが好ましい。

また、第１の本発明において、前記縦延伸の後に、横方向に１．０倍〜３．０倍で横延伸を行うことが好ましい。この場合、前記横延伸が予熱ゾーン、延伸ゾーン及び緩和固定ゾーンを経て行う際に、各ゾーンの温度分布が
予熱ゾーン＞延伸ゾーン＞熱固定ゾーン
となるように横延伸することが好ましい。

熱固定後に、（ガラス転移温度Ｔｇ−２０）℃以上、（Ｔｇ＋２０）℃以下で熱緩和処理することが好ましい。

また、第１の本発明において、前記縦延伸前の前記熱可塑性フイルムをタッチロール法により製膜するようにしてもよい。

また、第１の本発明において、前記熱可塑性フイルムは、セルロースアシレートから成ることが好ましい。この場合、前記セルロースアシレートは、プロピオネート基、ブチレート基、ペンタノイル基、置換あるいは無置換の芳香族アシル基の少なくとも１種を含むことが好ましい。さらに、前記セルロースアシレートが、下記（１）及び（２）式、あるいは、（３）及び（４）式を満たすことが好ましい。
（１）式：２．５≦Ａ＋Ｂ＜３．０
（２）式：０．１≦Ｂ＜３．０
（式中、Ａは、アセテート基の置換度を示し、Ｂは、プロピオネート基、ブチレート基、ペンタノイル基の置換度の総和を示す。）
（３）式：２．５≦Ａ＋Ｃ≦３．０
（４）式：０．１≦Ｃ＜２
（式中、Ａは、アセテート基の置換度を示し、Ｃは置換もしくは無置換の芳香族アシル基を示す。）

また、第１の本発明において、前記熱可塑性フイルムは、シクロオレフィン系樹脂、ラクトン環含有重合体樹脂、ポリカーボネート系樹脂から成ることが好ましい。

さらに、第１の本発明の熱可塑性フイルムはニップロール表面への密着し易いため、フイルムの比抵抗が５×１０⁸〜５×１０¹³オーム・ｃｍであることが好ましく、より好ましくは１×１０⁹〜１×１０¹³オーム・ｃｍ、さらに好ましくは５×１０⁹〜５×１０¹²オーム・ｃｍである。これにより、熱可塑性フイルムはニップロールと密着し易くなり、縦延伸時のフイルムの体積収縮を均一化になり、縦ジスや凹凸状の欠陥物を低減する効果が得られる。また、本発明の熱可塑性フイルムはニップロール表面への密着し易いため、Ｔｇ−１０℃の温度における熱可塑性樹脂フイルムの弾性率が２００ＭＰａ〜１０００ＭＰａであることが好ましい（Ｔｇは、熱可塑性樹脂のガラス転移温度である）。より好ましくはＴｇ−１０℃の温度における熱可塑性樹脂フイルムの弾性率が２５０ＭＰａ〜８００ＭＰａであり、３００ＭＰａ〜７００ＭＰａである。これにより、熱可塑性樹脂フイルムとニップロールと接触延伸する際に、より均一に延伸することができ、縦すじや凹凸状の欠陥物を低減する相乗効果が得られる。

次に、第２の本発明に係る熱可塑性フイルムの製造装置は、第１ニップロールと第２ニップロールを用いて、０．０１を超え、０．３未満の縦横比で熱可塑性フイルムを縦延伸する際に、前記第１ニップロールと前記第２ニップロールの直径をＲとしたとき、ニップロール間を搬送される前記熱可塑性フイルムが、いずれかのニップロールと接触のラップ角度が１°以上、６０°以下にして行うことを特徴とする。好ましいラップ角度が１°以上、５０°以下、さらに好ましくは１°以上、４５°以下の熱可塑性の製造装置である。

これにより、延伸後の熱可塑性フイルムの表面の品質を向上させることができ、例えば液晶表示素子の位相差膜等に使用した場合に、縦すじがなく、液晶の表示むらも低減することができる。

そして、第２の本発明において、請求項１記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、前記第１ニップロールと前記第２ニップロールのうち、いずれかのニップロールと前記熱可塑性フイルムとの接触距離が０．０１Ｒ以上、０.７５Ｒ以下であることが好ましい。

また、第２の本発明において、前記第１ニップロールと前記第２ニップロールのうち、いずれかのニップロールと前記熱可塑性フイルムとの接触距離が０．１Ｒ以上、１０Ｒ以下であることが好ましい。

また、第２の本発明において、前記第１ニップロールと前記第２ニップロールのうち、最後部のニップロールの回転数に０．０１％〜０．１％の変動を与える手段を有することが好ましい。

また、第２の本発明において、前記第１ニップロール及び前記第２ニップロールの幅方向の温度分布（Ｔｓ−Ｔｃ）が０．１℃以上、５℃以下に制御する手段を有するようにしてもよい。ここで、Ｔｓは、熱可塑性フイルムの全幅の２０％以内の両端平均温度を示し、Ｔｃは、熱可塑性フイルムの全幅の６０％以内の中央部平均温度を示す。

また、第２の本発明において、前記第１ニップロール及び前記第２ニップロールの押し込む圧力が０．５ＭＰａ以上、１５ＭＰａ以下であることが好ましい。

また、第２の本発明において、前記縦延伸の後に、横方向に１．０倍〜３．０倍で横延伸を行う手段を有するようにしてもよい。この場合、前記横延伸を行う手段は、前記熱可塑性フイルムの搬送方向に沿って順番に予熱ゾーン、延伸ゾーン及び緩和固定ゾーンが配置され、各ゾーンの温度分布が
予熱ゾーン＞延伸ゾーン＞熱固定ゾーン
となるように制御することが好ましい。

次に、第３の本発明に係る熱可塑性フイルムは、上述した第１の本発明に係る熱可塑性フイルムの製造方法で作製され、表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上、１．０μｍ以下であることを特徴とする。

次に、第４の本発明に係る熱可塑性フイルムは、上述した第１の本発明に係る熱可塑性フイルムの製造方法で作製され、表面突起高さが０．５μｍ以上、８．０μｍ以下の微小異物が０．１個／１００ｃｍ²以上、５０個／１００ｃｍ²以下であることを特徴とする。

次に、第５の本発明に係る偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルムは、第３又は第４の本発明に係る熱可塑性フイルムを用いたことを特徴とする。

次に、第６の本発明に係る液晶表示装置は、上述した第３又は第４の本発明に係る熱可塑性フイルム、第５の本発明に係る偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルムの少なくとも１つを用いたことを特徴とする。

以上説明したように、本発明に係る熱可塑性フイルム、熱可塑性フイルムの製造方法及び熱可塑性フイルムの製造装置によれば、表面の品質を向上させると共に、例えば液晶表示素子の位相差膜等に使用した場合に、縦すじがなく、液晶の表示むらも低減することができる。

また、本発明によれば、偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルム及び液晶表示装置を提供することができる。

以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明は、そのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。

以下に本発明について順を追って説明する。

１．熱可塑性樹脂
本発明の熱可塑性フイルムは、セルロースアシレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィン樹脂、ラクトン環含有重合体樹脂を含有する熱可塑性フイルムが好ましい例として挙げられる。該フイルムを形成する熱可塑性樹脂としては、セルロースアシレート樹脂、シクロオレフィン樹脂が好ましい。

１−１．セルロースアシレート樹脂
１−１−１．プロピオネート基、ブチレート基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基を含むセルロースアシレート樹脂

（置換度）
先ず、本発明で用いられるセルロースアシレートについて説明する。本発明で用いるセルロースアシレートは下記式（Ｓ−１）〜（Ｓ−２）を満足する。
式（Ｓ−１）：２．５≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（Ｓ−２）：１．２５≦Ｙ≦３．０

式（Ｓ−１）〜（Ｓ−２）中、Ｘはセルロースの水酸基に対するアセチル基の置換度を表し、Ｙはセルロースの水酸基に対する炭素数３〜７のアシル基の置換度の総和を表す。本明細書でいう「置換度」とは、セルロースの２位、３位及び６位のぞれぞれの水酸基の水素原子が置換されている割合の合計を意味する。２位、３位及び６位の全ての水酸基の水素原子がアシル基で置換された場合は置換度が３となる。セルロースアシレートの置換基Ｙで表される炭素数３〜２２のアシル基は、脂肪族アシル基でも芳香族アシル基のいずれであってもよい。本発明のセルロースアシレートのアシル基が脂肪族アシル基である場合、炭素数は３〜７であることが好ましく、炭素数は３〜６であることがさらに好ましく、炭素数は３〜５であることが特に好ましい。また、これらのアシル基は複数種が１分子中に存在していてもよい。好ましいアシル基の例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基等を挙げることができる。これらの中でも、さらに好ましいものは、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基である。もっとも好ましいものは、アセチル基、プロピオニル基である。

本発明で用いるセルロースアシレートは、以下の式を満足することがより好ましい。
２．６≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
２．０≦Ｙ≦２．９５

本発明で用いるセルロースアシレートは、以下の式を満足することがさらに好ましい。
２．７≦Ｘ＋Ｙ≦２．９５
２．３≦Ｙ≦２．９

式（Ｓ−１）〜（Ｓ−２）を満足するセルロースアシレートを用いることによって、融解温度を低下させ、融解性を改善することができる。このため、式（Ｓ−１）〜（Ｓ−２）を満足するセルロースアシレートを用いれば、より均一に製膜することができる。

式（Ｓ−１）〜（Ｓ−２）を満足するセルロースアシレートの合成方法としては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の７〜１２頁の記載も適用することができる。なお、ここでいう添加量はセルロースアシレートに対する質量％である。

（原料）
セルロースアシレートを合成する際のセルロース原料としては、広葉樹パルプ、針葉樹パルプ、綿花リンター由来のものが好ましく用いられる。

（活性化）
セルロース原料はアシル化に先立って、活性化剤と接触させる処理（活性化）を行っておくことが好ましい。活性化剤として好ましくは、酢酸、プロピオン酸、又は酪酸であり、特に好ましくは酢酸である。活性化剤の添加量は好ましくは５％〜１００００％であり、より好ましくは１０％〜２０００％、さらに好ましくは３０％〜１０００％である。添加方法は噴霧、滴下、浸漬等の方法から選択できる。活性化時間は２０分〜７２時間が好ましく、特に好ましくは２０分〜１２時間である。活性化温度は０℃〜９０℃が好ましく、２０℃〜６０℃が特に好ましい。さらに活性化剤に硫酸等のアシル化の触媒を０．１質量％〜１０質量％加えることもできる。

（アシル化）
セルロースとカルボン酸の酸無水物とをブレンステッド酸又はルイス酸（「理化学辞典」第五版（２０００年）参照）を触媒として反応させることで、セルロースの水酸基をアシル化することが好ましい。

セルロース混合アシレートを得る方法は、アシル化剤として２種のカルボン酸無水物を混合又は逐次添加により反応させる方法、２種のカルボン酸の混合酸無水物（例えば、酢酸・プロピオン酸混合酸無水物）を用いる方法、カルボン酸と別のカルボン酸の酸無水物（例えば、酢酸とプロピオン酸無水物）を原料として反応系内で混合酸無水物（例えば、酢酸・プロピオン酸混合酸無水物）を形成させてセルロースと反応させる方法、置換度が３に満たないセルロースアシレートを一旦合成し、酸無水物や酸ハライドを用いて、残存する水酸基をさらにアシル化する方法等を用いることができる。

６位置換度の大きいセルロースアシレートの合成については、特開平１１−５８５１号、特開２００２−２１２３３８号、特開２００２−３３８６０１号等の各公報に記載がある。

（１）酸無水物
カルボン酸の酸無水物として、好ましくはカルボン酸としての炭素数が２〜７のものを用いることができる。具体的には、無水酢酸、プロピオン酸無水物、酪酸無水物である。酸無水物はセルロースの水酸基に対して１．１〜５０当量添加することが好ましく、１．２〜３０当量添加することがより好ましく、１．５〜１０当量添加することが特に好ましい。

（２）触媒
アシル化触媒には、ブレンステッド酸又はルイス酸を使用することが好ましく、硫酸又は過塩素酸がより好ましく、好ましい添加量は０．１〜３０質量％であり、より好ましくは１〜１５質量％であり、特に好ましくは３〜１２質量％である。

（３）溶媒
アシル化溶媒としては、好ましくはカルボン酸であり、さらに好ましくは炭素数２〜７のカルボン酸であり、特に好ましくは酢酸、プロピオン酸又は酪酸である。これらの溶媒は混合して用いてもよい。

（４）アシル化条件
アシル化の反応熱による温度上昇を制御するために、アシル化剤は予め冷却しておくことが好ましい。アシル化温度は−５０℃〜５０℃が好ましく、より好ましくは−３０℃〜４０℃、特に好ましく−２０℃〜３５℃である。反応の最低温度は−５０℃以上が好ましく、−３０℃以上がより好ましく、−２０℃以上が特に好ましい。アシル化時間は０．５時間〜２４時間が好ましく、１時間〜１２時間がより好ましく、１．５時間〜１０時間が特に好ましい。

（５）反応停止剤
アシル化反応の後に、反応停止剤を加えることが好ましい。反応停止剤は酸無水物を分解するものであればよく、水、アルコール（炭素数１〜３のもの）、カルボン酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸等）が挙げられ、中でも水とカルボン酸（酢酸）との混合物がさらに好ましい。水とカルボン酸との組成は、水が好ましくは５質量％〜８０質量％、さらに好ましくは１０質量％〜６０質量％、特に好ましくは１５質量％〜５０質量％である。

（６）中和剤
アシル化反応停止後に中和剤を添加してもよい。中和剤の好ましい例としては、アンモニウム、有機４級アンモニウム、アルカリ金属、２族の金属、３〜１２族金属、又は１３〜１５族元素の、炭酸塩、炭酸水素塩、有機酸塩、水酸化物又は酸化物等を挙げることができる。特に好ましくは、ナトリウム、カリウム、マグネシウム又はカルシウムの、炭酸塩、炭酸水素塩、酢酸塩又は水酸化物である。

（部分加水分解）
このようにして得られたセルロースアシレートは、全置換度がほぼ３に近いものであるが、所望の置換度のものを得る目的で、少量の触媒（一般には、残存する硫酸等のアシル化触媒）と水との存在下で、２０〜９０℃に数分〜数日間保つことによりエステル結合を部分的に加水分解し、セルロースアシレートのアシル置換度を所望の程度まで減少させる。この後、残存触媒を前記の中和剤を用いて、部分加水分解を停止させる。

（ろ過）
セルロースアシレート中の未反応物、難溶解性塩、その他の異物等を除去又は削減する目的として、アシル化工程から再沈殿工程の間のいずれかにおいて、セルロースアシレートを含む反応溶液をろ過することが好ましい。ろ過に用いるフィルタの保留粒子径は、好ましくは０．１μｍ以上５０μｍ以下であり、さらに好ましくは、０．５μｍ以上４０μｍ以下であり、特に好ましくは、１μｍ以上３０μｍ以下である。フィルタの保留粒子径が０．１μｍより小さいと、ろ過圧の上昇が著しく、実質的に工業的な生産が困難である。また、保留粒子径が４０μｍより大きいと、異物の除去が十分にできない場合がある。また、濾過は２回以上繰り返してもよい。

フィルタの材質は溶媒によって悪影響を受けないものであれば特に限定されないが、好ましい例としては、セルロース系フィルタ、金属フィルタ、金属焼結フィルタ、セラミック焼結フィルタ、テフロン（登録商標）フィルタ（ＰＴＦＥフィルタ）、ポリエーテルサルホンフィルタ、ポリプロピレンフィルタ、ポリエチレンフィルタ、ガラス繊維性フィルタ等を挙げることができ、これらを組み合わせて使用してもよい。中でもステンレス製の金属フィルタ、金属焼結フィルタが好ましい。

フィルタの材質として、電荷的捕捉機能を有するフィルタもまた、好ましく用いることができる。電荷的捕捉機能を有するフィルタとは、電気的に荷電異物を捕捉除去する機能を有するフィルタであり、通常、濾材に電荷を付与したものが用いられる。このようなフィルタの例としては、特表平４−５０４３７９号公報、特開２０００−２１２２２６号公報等に記載されたものを選択することができる。

また、濾過助剤として、セライト、層状粘土鉱物（好ましくは、タルク、マイカ、カオリナイト等）等をセルロースアシレート溶液に混合し、これを濾過するいわゆるケーク濾過を行う方法も好ましく用いることができる。

ろ過圧や取り扱い性の制御の目的から、ろ過に先立って適切な溶媒で希釈することも好ましい。

（再沈殿）
セルロースアシレート溶液を、水もしくはカルボン酸（例えば、酢酸、プロピオン酸等）水溶液と混合し再沈殿させる。再沈殿は連続式、バッチ式のいずれでもよい。

（洗浄）
再沈殿後、洗浄処理することが好ましい。洗浄は水又は温水を用い、ｐＨ、イオン濃度、電気伝導度、元素分析等で洗浄終了を確認することができる。

（安定化）
洗浄後のセルロースアシレートは、安定化のために、弱アルカリ（Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ等の炭酸塩、炭酸水素塩、水酸化物、酸化物）を添加するのが好ましく、特にＣａ、Ｍｇが好ましい。また、その添加量は、残留した硫酸触媒に対して、０．３〜５当量であることが好ましく、より好ましくは０．４〜４当量、さらに好ましくは０．５〜３当量である。

（乾燥）
５０〜１６０℃でセルロースアシレートの含水率を２質量％以下にまで乾燥することが好ましい。

本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの質量平均重合度は１００〜７００であり、好ましくは１５０〜６００、さらに好ましくは２００〜５００である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）に記載されるように、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）による分子量分布測定等の方法により測定できる。さらに、平均重合度の測定方法については、特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。

本発明で用いられるセルロースアシレートは、質量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．５〜５．５のものが用いられ、好ましくは１．５〜５．０であり、さらに好ましくは２．０〜４．５であり、特に好ましくは２．０〜４．５である。

本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの数平均重合度は１００〜２６０、好ましくは１００〜２３０、さらに好ましくは１１０〜２００である。数平均重合度は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いた方法で測定される。

本実施の形態においては、セルロースアシレートのＧＰＣによる重量平均重合度／数平均重合度が１．６〜３．６であることが好ましく、１．７〜３．３であることがさらに好ましく、１．８〜３．２であることが特に好ましい。

これらのセルロースアシレートは１種類のみを用いてもよく、２種以上混合してもよい。また、セルロースアシレート以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フイルムにしたときの透過率が８０％以上、さらに好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９２％以上である。

１−１−２．置換又は無置換の芳香族アシル基を少なくとも１種を含むセルロースアシレート樹脂
本発明で用いられるセルロースアシレート樹脂としては、置換又は無置換の芳香族アシル基を少なくとも１種を含み、下記（Ｓ−３）式〜（Ｓ−４）式を満たすセルロースアシレート樹脂も好ましい。
（Ｓ−３）式：２．５≦Ａ＋Ｃ≦３．０
（Ｓ−４）式：０．１≦Ｃ＜２

上記（Ｓ−３）式〜（Ｓ−４）式は、より好ましくは、
２．６≦Ａ＋Ｃ≦３．０
０．１≦Ｃ＜１．５
さらに好ましくは、
２．７≦Ａ＋Ｃ≦３．０
０．１≦Ｃ＜１．０
である。なお、上記式中、Ａはアセテート基の置換度を示し、Ｃは置換又は無置換の芳香族アシル基を示す。

ここで、置換又は無置換の芳香族アシル基としては下記一般式（Ｉ）で表される芳香族アシル基があげられる。

先ず、一般式（Ｉ）について説明する。Ｘは置換基で、置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、アラルキル基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールオキシスルホニル基、−Ｓ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＯＲ、−ＰＨ−Ｒ、−Ｐ(−Ｒ)₂、−ＰＨ−Ｏ−Ｒ、−Ｐ（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−Ｐ（−Ｏ−Ｒ）₂、−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｒ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）₂、−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ、−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）₂、−Ｏ−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｒ、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）₂−Ｏ−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）₂、−ＮＨ−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｒ、−ＮＨ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−ＮＨ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）₂、−ＳｉＨ₂−Ｒ、−ＳｉＨ（−Ｒ）₂、−Ｓｉ（−Ｒ）₃、−Ｏ−ＳｉＨ₂−Ｒ、−Ｏ−ＳｉＨ（−Ｒ）₂及び−Ｏ−Ｓｉ（−Ｒ）₃が含まれる。上記Ｒは脂肪族基、芳香族基又はヘテロ環基である。置換基Ｘの数ｎは、１〜５個であることが好ましく、１〜４個であることがより好ましく、１〜３個であることがさらに好ましく、１又は２個であることが最も好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基及びウレイド基が好ましく、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基及びカルボンアミド基がより好ましく、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基及びアリールオキシ基がさらに好ましく、ハロゲン原子、アルキル基及びアルコキシ基が最も好ましい。

上記ハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が含まれる。

上記アルキル基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましく、１〜６であることがさらに好ましく、１〜４であることが最も好ましい。アルキル基が置換基を有する場合は、該置換基の炭素原子数も含めた数が、前記炭素原子数であることが好ましい（以下、他の基についても同じ）。アルキル基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基及び２−エチルヘキシル基が含まれる。

上記アルコキシ基は、環状構造又は分岐を有していてもよい。アルコキシ基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましく、１〜６であることがさらに好ましく、１〜４であることが最も好ましい。アルコキシ基は、さらに別のアルコキシ基で置換されていてもよい。アルコキシ基の例には、メトキシ基、エトキシ基、２−メトキシエトキシ基、２−メトキシ−２−エトキシエトキシ基、ブチルオキシ基、ヘキシルオキシ基及びオクチルオキシ基が含まれる。

上記アリール基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがより好ましい。アリール基の例には、フェニル基及びナフチル基が含まれる。上記アリールオキシ基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがさらに好ましい。

上記アリールオキシ基の例には、フェノキシ基及びナフトキシ基が含まれる。上記アシル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。

上記アシル基の例には、ホルミル基、アセチル基及びベンゾイル基が含まれる。

上記カルボンアミド基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましい。カルボンアミド基の例には、アセトアミド基及びベンズアミド基が含まれる。上記スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。

上記スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基及びｐ−トルエンスルホンアミド基が含まれる。

上記ウレイド基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。ウレイド基の例には、（無置換）ウレイド基が含まれる。

上記アラルキル基の炭素原子数は、７〜２０であることが好ましく、７〜１２であることがさらに好ましい。アラルキル基の例には、ベンジル基、フェネチル基及びナフチルメチル基が含まれる。上記アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがさらに好ましい。

上記アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基が含まれる。上記アリールオキシカルボニル基の炭素原子数は、７〜２０であることが好ましく、７〜１２であることがより好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニル基が含まれる。上記アラルキルオキシカルボニル基の炭素原子数は、８〜２０であることが好ましく、８〜１２であることがより好ましい。アラルキルオキシカルボニル基の例には、ベンジルオキシカルボニル基が含まれる。上記カルバモイル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましい。カルバモイル基の例には、（無置換）カルバモイル基及びＮ−メチルカルバモイル基が含まれる。上記スルファモイル基の炭素原子数は、２０以下であることが好ましく、１２以下であることがより好ましい。スルファモイル基の例には、（無置換）スルファモイル基及びＮ−メチルスルファモイル基が含まれる。

上記アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがさらに好ましい。アシルオキシ基の例には、アセトキシ基及びベンゾイルオキシ基が含まれる。

上記アルケニル基の炭素原子数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがさらに好ましい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基及びイソプロペニル基が含まれる。上記アルキニル基の炭素原子数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましい。

上記アルキニル基の例には、チエニル基が含まれる。上記アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがさらに好ましい。上記アリールスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがさらに好ましい。

上記アルキルオキシスルホニル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましい。

上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがより好ましい。

上記アルキルスルホニルオキシ基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましい。上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることがより好ましい。

このような化合物は、セルロースやセルロースアシレートの水酸基への芳香族アシル基の置換によって得られ、一般的には芳香族カルボン酸クラロイドあるいは芳香族カルボン酸から誘導される対称酸無水物及び混合酸無水物を用いる方法等が挙げられる。特に好ましいのは芳香族カルボン酸から誘導した酸無水物を用いる方法（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ、Ｖｏｌ．２９、３９８１−３９９０（１９８４）記載）が挙げられる。上記の方法として本発明の置換又は無置換の芳香族アシル基を含むセルロース化合物の製造方法としては、（１）セルロース脂肪酸モノエステル又はジエステルを一旦製造したのち、残りの水酸基に前記一般式（Ｉ）で表される芳香族アシル基を導入する方法、（２）セルロースに直接に、脂肪族カルボン酸と芳香族カルボン酸の混合酸無水物を反応させる方法等が挙げられる。前記（１）の方法では、セルロース脂肪酸エステル又はジエステルの製造方法自体は周知の方法や，上記（１）のプロピオネート基、ブチレート基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基を含むセルロースアシレート樹脂の製造方法等を採用でき、これにさらに芳香族アシル基を導入する後段の反応は、該芳香族アシル基の種類によって適宜定めることができるが、反応温度は、好ましくは０〜１００℃、より好ましくは２０〜５０℃で、反応時間は、好ましくは３０分以上、より好ましくは３０〜３００分で行われる。また、前記（２）の混合酸無水物を用いる方法も、反応条件は混合酸無水物の種類によって適宜定めることができるが、反応温度は、好ましくは０〜１００℃、より好ましくは２０〜５０℃、反応時間は、好ましくは３０〜３００分、より好ましくは６０〜２００分である。上記のいずれの反応も、反応を無溶媒又は溶媒中のいずれで行ってもよいが、好ましくは溶媒を用いて行われる。溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、ジオキサン等を用いることができる。

以下に一般式（Ｉ）で表わされる芳香族アシル基の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

これらの置換基の中でも、１〜９、１８〜１９、２７〜２８の置換基が好ましく、より好ましく１〜３の置換基であり、最も好ましいのが１の置換基である。

１−１−３．セルロースアシレート樹脂用添加剤
（安定剤添加剤）
本発明において、フイルム構成材料中に、安定剤の少なくとも一種を前記セルロースアシレートの加熱溶融前又は加熱溶融時に添加することが好ましい。これらは、フイルム構成材料の酸化防止、分解して発生した酸の捕捉、光又は熱によるラジカル種基因の分解反応を抑制又は禁止する等、解明できていない分解反応を含めて、着色や分子量低下に代表される変質や材料の分解による揮発成分の生成を抑制するために有用である。その時、製膜するための溶融温度においても安定化剤自身が分解せずに機能することが求められる。これらの安定化剤は次に挙げられる効果に用いるがこれらに限定されるものではない。

安定剤の代表的な素材としては、フェノール系安定剤、亜リン酸系安定剤（フォスファイト系）、チオエーテル系安定剤、アミン系安定剤、エポキシ系安定剤、ラクトン系安定剤、アミン系安定剤、金属不活性化剤（スズ系安定剤）等が挙げられる。これらは、特開平３−１９９２０１号公報、特開平５−１９０７０７３号公報、特開平５−１９４７８９号公報、特開平５−２７１４７１号公報、特開平６−１０７８５４号公報等に記載があり、本発明ではフェノール系や亜リン酸系安定剤の少なくとも一つを用いることが好ましい。

安定剤は、それぞれ単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択される。好ましくは、セルロース樹脂の質量に対して安定化剤の添加量は０．００１質量％以上５質量％以下が好ましく、より好ましくは０．００５質量％以上３質量％以下であり、さらに好ましくは０．０１質量％以上０．８質量％以下である。

（フェノール系安定剤）
本発明において、フイルム構成材料の熱溶融時における安定化のために用いる化合物として有用なヒンダードフェノール系安定剤は既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第１２〜１４欄に記載されているもの等の、２，６−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。

中でも、特に分子量５００以上のフェノール系安定剤を添加することが好ましい態様である。好ましいフェノール系安定剤としては、ヒンダードフェノール系安定剤が挙げられる。特に、ヒドロキシフェニル基に隣接する部位に置換基を有することが好ましく、その場合の置換基としては炭素数１〜２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。本発明で用いることができるフェノール系安定剤はこれらに限定されるものではない。

これらの素材は、市販品として容易に入手可能であり、下記のメーカーから販売されている。チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社から、Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１３、Ｉｒｇａｎｏｘ２４５、Ｉｒｇａｎｏｘ１１３５、Ｉｒｇａｎｏｘ１３３０、Ｉｒｇａｎｏｘ２５９、Ｉｒｇａｎｏｘ５６５、Ｉｒｇａｎｏｘ１０３５、Ｉｒｇａｎｏｘ１０９８、Ｉｒｇａｎｏｘ１４２５ＷＬ、として入手することができる。また、旭電化工業株式会社から、アデカスタブＡＯ−５０、アデカスタブＡＯ−６０、アデカスタブＡＯ−２０、アデカスタブＡＯ−７０、アデカスタブＡＯ−８０として入手できる。さらに、住友化学株式会社から、スミライザーＢＰ−７６、スミライザーＢＰ−１０１、スミライザーＧＡ−８０、として入手できる。また、シプロ化成株式会社からシーノックス３２６Ｍ、シーノックス３３６Ｂ、としても入手することが可能である。

（亜リン酸系安定剤）
上記の亜リン酸系安定剤としては、特開２００４−１８２９７９号公報の［００２３］〜［００３９］に記載の化合物をより好ましく用いることができる。亜リン酸エステル系安定剤の具体例としては、特開昭５１−７０３１６号公報、特開平１０−３０６１７５号公報、特開昭５７−７８４３１号公報、特開昭５４−１５７１５９号公報、特開昭５５−１３７６５号公報に記載の化合物を挙げることができる。さらに、その他の安定剤としては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の１７頁〜２２頁に詳細に記載されている素材を好ましく用いることができる。

本発明の亜リン酸エステル系安定剤は、高温での安定性を保つために高分子量であることが有用であり、分子量５００以上であり、より好ましくは分子量５５０以上であり、特には分子量６００以上が好ましい。さらに、少なくとも一置換基は芳香族性エステル基であることが好ましい。また、亜リン酸エステル系安定剤は、トリエステルであることが好ましく、リン酸、モノエステルやジエステルの不純物の混入がないことが望ましい。これらの不純物が存在する場合は、その含有量が５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは３質量％以下であり、特には２質量％以下である。これらは、特開２００４−１８２９７９号公報の［００２３］〜［００３９］に記載の化合物等を挙げることが、さらに特開昭５１−７０３１６号公報、特開平１０−３０６１７５号公報、特開昭５７−７８４３１号公報、特開昭５４−１５７１５９号公報、特開昭５５−１３７６５号公報に記載の化合物も挙げることができる。本発明で用いることができる亜リン酸エステル系安定剤はこれらに限定されるものではない。

これらは、旭電化工業株式会社からアデカスタブ１１７８、同２１１２、同ＰＥＰ−８、同ＰＥＰ−２４Ｇ、ＰＥＰ−３６Ｇ、同ＨＰ−１０として、またクラリアント社からＳａｎｄｏｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱとして市販されており、入手可能である。さらに、フェノールと亜リン酸エステルを同一分子内に有する安定剤も好ましく用いられる。これらの化合物については、さらに特開平１０−２７３４９４号公報に詳細に記載されており、その化合物例を示すが本発明で用いることができる安定化剤はこれらに限定されるものではない。代表的な市販品として、住友化学株式会社から、スミライザーＧＰを挙げることができる。

（チオエーテル系安定剤）
安定剤としてさらに使用されるチオエーテル系安定剤について記述する。本発明においてセルロースアシレートに添加することができるチオエーテル系安定剤も分子量５００以上が好ましく、公知の任意のチオエーテル系安定剤を用いることができる。本発明で用いることができる好ましいチオエーテル系安定剤はこれらに限定されるものではない。

これらは、住友化学株式会社からスミライザーＴＰＬ、同ＴＰＭ、同ＴＰＳ、同ＴＤＰとして市販されている。旭電化工業株式会社から、アデカスタブＡＯ−４１２Ｓとしても入手可能である。

（エポキシ系安定剤）
エポキシ系安定剤は、酸捕捉剤として作用し、米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されている酸捕捉剤としてのエポキシ化合物を含んでなるのが好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８〜４０モルのエチレンオキシド等の縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテル等、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（すなわち、４，４'−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル（特に、２〜２２個の炭素原子を有する脂肪酸と、４〜２個の炭素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）等）、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリド等（例えば、エポキシ化大豆油等の組成物によって代表され、例示され得る、エポキシ化植物油及び他の不飽和天然油（これらは時としてエポキシ化天然グリセリド又は不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に１２〜２２個の炭素原子を含有している））が含まれる。特に好ましいのは、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物 ＥＰＯＮ ８１５ｃ、及びエポキシ化エーテルオリゴマー縮合生成物である。

本発明のエポキシ系安定剤としては、脂肪族、芳香族、脂環族、芳香族脂肪族又はヘテロ環式構造を有し、側鎖としてエポキシ基を有する化合物も有用である。エポキシ基は好ましくは、グリシジル基としてエーテル又はエステル結合により分子の残基に結合するか、あるいはヘテロ環式アミン、アミド又はイミドのＮ−グリシジル誘導体である。これらのタイプのエポキシ化合物は広く公知であり、市販品として容易に入手可能である。これらの素材は特開平１１−１８９７０６号の［００９６］〜［０１１２］に詳細に記載されている。

以上の中でもより好ましくは、ＥＴ−４） エポキシ化リノール酸オクチル、ＥＴ−６） エポキシ化リシノール酸オクチル、ＥＴ−７） エポキシ化大豆油脂肪酸オクチル、ＥＴ−８） エポキシ化大豆油、ＥＴ−９） エポキシ化アマニ油であり、特に好ましくはＥＴ−８） エポキシ化大豆油、ＥＴ−９） エポキシ化アマニ油である。これらのエポキシ系素材は、アデカスタブ Ｏ−１３０Ｐ、アデカスタブ Ｏ−１８０Ａ（旭電化工業株式会社）から、市販品として入手できる。

（スズ系安定剤）
上記スズ系安定剤としては、公知の任意のスズ系安定剤を用いることができる。好ましいスズ系安定剤の具体例としては、オクチル錫マレエートポリマー、モノステアリル錫トリス（イソオクチルチオグリコレート）、ジブチル錫ジラウレートが挙げられる。

（酸捕捉剤）
セルロースアシレートは高温下では酸によっても分解が促進されるため、本発明の光学フイルムにおいては酸捕捉剤を含有することが好ましい。

本発明において有用な酸捕捉剤としては、酸と反応して酸を不活性化する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されているエポキシ基を有する化合物が好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８〜４０モルのエチレンオキシド等の縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテル等、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（すなわち、４，４′−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル（特に、２〜２２この炭素原子の脂肪酸の４〜２個程度の炭素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）等）、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリド等（例えば、エポキシ化大豆油等）の組成物によって代表され例示され得るエポキシ化植物油及び他の不飽和天然油（これらはときとしてエポキシ化天然グリセリド又は不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に１２〜２２個の炭素原子を含有している）が含まれる。また、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物として、ＥＰＯＮ ８１５Ｃも好ましく用いることができる。

さらに上記以外に用いることが可能な酸捕捉剤としては、オキセタン化合物やオキサゾリン化合物、あるいはアルカリ土類金属の有機酸塩やアセチルアセトナート錯体、特開平５−１９４７８８号公報の段落［００６８］〜［０１０５］に記載されているものが含まれる。

なお、酸捕捉剤は酸掃去剤、酸捕獲剤、酸キャッチャ等と称されることもあるが、本発明においてはこれらの呼称による差異なく用いることができる。

本発明に用いられるフイルム形成材料中の酸捕捉剤は、少なくとも上記の１種以上選択でき、添加する量は、セルロースアシレートの質量に対して、光安定化剤の添加量は０．００１質量％以上５質量％以下が好ましく、より好ましくは０．００５質量％以上３質量％以下であり、さらに好ましくは０．０１質量％以上２質量％以下である。

（紫外線吸収剤）
本発明のセルロースアシレートには、１種又は２種以上の紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。前記紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長３８０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられる。特に好ましい紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロースアシレートに対する不要な着色が少ないことから好ましい。これらは、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０４１７３号の各公報に記載がある。その添加量は、調製する溶融物（メルト）の０．０１〜２質量％であることが好ましく、０．０１〜１．５質量％であることがさらに好ましい。

また、本発明に有用な高分子紫外線吸収剤としては、特開平６−１４８４３０号公報に記載されている高分子紫外線吸収剤や、紫外線吸収剤モノマーを含むポリマーは制限なく使用できる。紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーの重量平均分子量が２０００以上３００００以下であることが好ましく、より好ましくは５０００以上２００００以下である。

紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマーの含有量が１〜７０質量％であることが好ましく、より好ましくは、５〜６０質量％である。

本発明に用いることのできる市販品としての紫外線吸収剤モノマーとして、１−（２−ベンゾトリアゾール）−２−ヒドロキシ−５−（２−ビニルオキシカルボニルエチル）ベンゼン、大塚化学社製の反応型紫外線吸収剤ＲＵＶＡ−９３の１−（２−ベンゾトリアゾール）−２−ヒドロキシ−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）ベンゼン又はこの類似化合物がある。これらを単独又は共重合したポリマー又はコポリマーも好ましく用いられるが、これらに限定されない。例えば、市販品の高分子紫外線吸収剤として、大塚化学（株）製のＰＵＶＡ−３０Ｍも好ましく用いられる。紫外線吸収剤は２種以上用いてもよい。

これらの紫外線吸収剤として、以下の市販品も利用できる。ベンゾトリアゾール系としてはＴＩＮＵＢＩＮ Ｐ（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＴＩＮＵＢＩＮ ２３４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＴＩＮＵＢＩＮ ３２０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＴＩＮＵＢＩＮ ３２６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＴＩＮＵＢＩＮ ３２７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＴＩＮＵＢＩＮ ３２８（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、スミソーブ３４０（住友化学社製）、アデカスタブＬＡ−３１（旭電化工業社製）等がある。また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、シーソーブ１００（シプロ化成社製）、シーソーブ１０１（シプロ化成社製）、シーソーブ１０１Ｓ（シプロ化成社製）、シーソーブ１０２（シプロ化成社製）、シーソーブ１０３（シプロ化成社製）、アデカスタブＬＡ−５１（旭電化工業社製）、ケミソープ１１１（ケミプロ化成社製）、ＵＶＩＮＵＬ Ｄ−４９（ＢＡＳＦ社製）等を挙げられる。また、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤としては、ＴＩＮＵＢＩＮ ３１２（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）やＴＩＮＵＢＩＮ ３１５（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）がある。さらにサリチル酸系紫外線吸収剤としては、シーソーブ２０１（シプロ化成社製）やシーソーブ２０２（シプロ化成社製）が上市されており、シアノアクリレート系紫外線吸収剤としてはシーソーブ５０１（シプロ化成社製）、ＵＶＩＮＵＬ Ｎ−５３９（ＢＡＳＦ社製）がある。これらの中でも、特にアデカスタブＬＡ−３１が好ましい。

本発明に用いられる紫外線吸収剤及び紫外線吸収性ポリマーの使用量は、化合物の種類、使用条件等により一様ではないが、紫外線吸収剤である場合には、光学フイルム１ｍ²当たり０．２〜３．０ｇが好ましく、０．４〜２．０がさらに好ましく、０．５〜１．５が特に好ましい。また、紫外線吸収ポリマーである場合には、光学フイルム１ｍ²当たり０．６〜９．０ｇが好ましく、１．２〜６．０がさらに好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。

（ヒンダードアミン光安定剤）
光安定剤としては、ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）化合物が挙げられ、これは既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，６１９，９５６号明細書の第５〜１１欄及び米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第３〜５欄に記載されているように、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン化合物、又はそれらの酸付加塩もしくはそれらと金属化合物との錯体が含まれる。これらは、旭電化からアデカスタブＬＡ−５７、同ＬＡ−５２、同ＬＡ−６７、同ＬＡ−６２、同ＬＡ−７７として、またチバ・スペシャリティーケミカルズ社からＴＩＮＵＶＩＮ ７６５、同１４４として市販されている。

これらのヒンダードアミン系耐光安定剤は、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、またこれらヒンダードアミン系耐光安定剤と可塑剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤と併用しても、添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、本発明に係る重合体１００質量部に対して好ましくは０．０１〜２０質量部、より好ましくは０．０２〜１５質量部、特に好ましくは０．０５〜１０質量部である。これらを添加する時期は、溶融物（メルト）作製工程の何れの段階であってもよく、また、溶融物作製工程（メルト調製工程）の最後に添加剤を添加する工程を加えてもよい。

（可塑剤）
本発明の光学フイルムに可塑剤として知られる化合物を添加することは、機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水分透過率低減等のフイルムの改質の観点において好ましい。また本発明で行う溶融流延法においては、用いるセルロースアシレート単独のガラス転移温度よりも、可塑剤の添加によりフイルム構成材料の溶融温度を低下させる目的、又は同じ加熱温度においてセルロースアシレートよりも可塑剤を含むフイルム構成材料の粘度が低下できる目的を含んでいる。

本発明に用いる可塑剤としては、例えばリン酸エステル誘導体、カルボン酸エステル誘導体が好ましく用いられる。また、特開２００３−１２８５９号に記載の重量平均分子量が５００以上１００００以下であるエチレン性不飽和モノマーを重合して得られるポリマー、アクリル系ポリマー、芳香環を側鎖に有するアクリル系ポリマー又はシクロヘキシル基を側鎖に有するアクリル系ポリマー等も好ましく用いられる。

可塑剤は液体であっても固体であってもよく、組成物の制約上無色であることが好ましい。熱的にはより高温において安定であることが好ましく、分解開始温度が１５０℃以上、さらに２００℃以上が好ましい。添加量は光学物性・機械物性に悪影響がなければよく、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され、本発明に係る重合体１００質量部に対して好ましくは０．００１〜５０質量部、より好ましくは０．０１〜３０質量部である。特に０．１〜１５質量％が好ましい。以下、本発明に用いられる可塑剤について、その具体例を挙げるがこれらに限定されるものではない。

（リン酸エステル系の可塑剤）
具体的には、リン酸シクロアルキルエステル、リン酸アリールエステルが挙げられる。これらの置換基は、同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。また、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また、置換基同士が共有結合で結合していてもよい。また、エチレンビス（ジメチルホスフェート）、ブチレンビス（ジエチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアルキルホスフェート）、エチレンビス（ジフェニルホスフェート）、プロピレンビス（ジナフチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアリールホスフェート）、フェニレンビス（ジブチルホスフェート）、ビフェニレンビス（ジオクチルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアルキルホスフェート）、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）、ナフチレンビス（ジトルイルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアリールホスフェート）等のリン酸エステルが挙げられる。これらの置換基は、同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。また、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また、置換基同士が共有結合で結合していてもよい。

さらに、リン酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にペンダントされていてもよく、また、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。上記化合物の中では、リン酸アリールエステル、アリーレンビス（ジアリールホスフェート）が好ましく、具体的にはトリフェニルホスフェート、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）が好ましい。また、特表平６−５０１０４０号公報の請求項３〜７に記載のリン酸エステル系可塑剤を用いることも好ましい。さらに、リン酸エステル系可塑剤としては、特開２００２−３６３４２３号公報の［００２７］〜［００３４］、特開２００２−２６５８００号公報の［００２７］〜［００３４］、特開２００３−１５５２９２号公報の［００１４］〜［００４０］等に記載の揮発性し難いリン酸エステル化合物を好ましい例として挙げることができる。

リン酸エステル系可塑剤の具体例を以下に挙げるが、本発明で用いることができるリン酸エステル系可塑剤はこれらに限定されるものではない。これらの化合物は、旭電化工業株式会社から、アデカスタブＦＰ−５００、アデカスタブＦＰ−６００、アデカスタブＦＰ−７００、アデカスタブＦＰ−２１００、アデカスタブＰＦＲ等として市販され、入手することができる。また、味の素化学株式会社から、レオフォースＢＡＰＰとして入手することができる。

カルボン酸エステルとしては、例えば、フタル酸エステル類、クエン酸エステル類、アジピン酸エステル類、芳香族多価カルボン酸エステル類、肪族多価カルボン酸エステル類、ジグリセリンテトラアセテート等の多価アルコールの脂肪酸エステル類等を挙げることができる。またその他、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、等を単独あるいは併用するのが好ましい。

本発明ではさらに糖類系可塑剤個の好ましく、単糖あるいは２〜１０個の単糖単位を含む炭水化物の誘導体であるが、これらの単糖又は多糖は、分子中の置換可能な基（例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基等）が置換されていることを特徴とする。置換基の例としては、エーテル基、エステル基、アミド基、イミド基等を挙げることができる。

単糖又は２〜１０個の単糖単位を含む炭水化物の例としては、例えば、エリトロース、トレオース、リボース、アラビノース、キシロース、リキソース、アロース、アルトロース、グルコース、フルクトース、マンノース、グロース、イドース、ガラクトース、タロース、トレハロース、イソトレハロース、ネオトレハロース、トレハロサミン、コウジビオース、ニゲロース、マルトース、マルチトール、イソマルトース、ソホロース、ラミナリビオース、セロビオース、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、δ−シクロデキストリン、キシリトール、ソルビトール等を挙げることができる。

ポリマー可塑剤も好ましく利用され、具体的には脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリＮ−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポリスチレン、ポリ４−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。数平均分子量は、１，０００〜５００，０００程度が好ましく、特に好ましくは、５，０００〜２００，０００である。１，０００以下では揮発性に問題が生じ、５００，０００を超えると可塑化能力が低下し、セルロースアシレート誘導体組成物の機械的性質に悪影響を及ぼす。これらポリマー可塑剤は１種の繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数の繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを２種以上併用して用いてもよく、他の可塑剤、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤、滑り剤及びマット剤等を含有させてもよい。

これらの化合物の添加量は、可塑剤がフイルムを構成する樹脂に対して、０．５〜５０質量％の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜３０質量％の範囲、さらに好ましくは１〜１５質量％の範囲にある。これらの化合物の添加量は、上記目的の観点から調整することができる。

（微粒子）
本発明では、セルロースアシレートに微粒子を混合してもよい。微粒子としては、無機化合物の微粒子や有機化合物の微粒子が挙げられ、いずれでもよい。本発明におけるセルロースアシレートに含まれる微粒子の平均一次粒子サイズは、ヘイズを低く抑えるという観点から５ｎｍ〜３μｍであることが好ましく、５ｎｍ〜２．５μｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜２．０μｍであることがさらに好ましい。ここで、微粒子の平均一次粒子サイズは、セルロースアシレートフイルムを透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜１００万倍）で観察し、粒子１００個の一次粒子サイズの平均値を求めることにより決定する。微粒子の添加量は、セルロースアシレートに対して０．００５〜１．０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．８質量％であり、さらに好ましくは０．０２〜０．４質量％である。

また、本発明の製造方法により最終的に得られたセルロースアシレートフイルム中での微粒子の平均二次粒子サイズは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０２〜３μｍであることがより好ましく、０．０２〜１μｍであることが特に好ましい。ここで、前記微粒子の平均二次粒子サイズは、セルロースアシレートフイルムを透過型電子顕微鏡（倍率１０万〜１００万倍）で観察し、粒子１００個の二次粒子サイズの平均値を求めることにより決定する。前記無機化合物としては、ＳｉＯ₂、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₂、Ｖ₂Ｏ₅、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が挙げられる。好ましくは、ＳｉＯ₂、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₂及びＶ₂Ｏ₅の少なくとも１種であり、さらに好ましくはＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃及びＺｒＯ₂の少なくとも１種である。

前記ＳｉＯ₂の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル（株）製）等の市販品を使用することができる。また、前記ＺｒＯ₂の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、日本アエロジル（株）製）等の市販品を使用することができる。またシーホスターＫＥ−Ｅ１０、同Ｅ３０、同Ｅ４０、同Ｅ５０、同Ｅ７０、同Ｅ１５０、同Ｗ１０、同Ｗ３０、同Ｗ５０、同Ｐ１０、同Ｐ３０、同Ｐ５０、同Ｐ１００、同Ｐ１５０、同Ｐ２５０（日本触媒）等も使用することができる。さらに、シリカマイクロビーズＰ−４００、７００（触媒化成工業株式会社製品）も使用することができる。また、ＳＯ−Ｇ１、ＳＯ−Ｇ２、ＳＯ−Ｇ３、ＳＯ−Ｇ４、ＳＯ−Ｇ５、ＳＯ−Ｇ６、ＳＯ−Ｅ１、ＳＯ−Ｅ２、ＳＯ−Ｅ３、ＳＯ−Ｅ４、ＳＯ−Ｅ５、ＳＯ−Ｅ６、ＳＯ−Ｃ１、ＳＯ−Ｃ２、ＳＯ−Ｃ３、ＳＯ−Ｃ４、ＳＯ−Ｃ５、ＳＯ−Ｃ６、（株式会社アドマテックス製）も使用することができる。さらに、シリカ粒子８０５０、同８０７０、同８１００、同８１５０（株式会社モリテックス 製、水分散物を粉体化）も使用することができる。

なお、本発明では、予めセルロースアシレートに所望量よりも高濃度の安定剤を有する微粒子含有マスターペレットを作製しておいてもよい。これにより、微粒子の分散性のよいセルロースアシレートペレットが作製可能となり、優れた面状と表面の滑り性（キシミ防止）を備えたセルロースアシレートフイルムをハンドリング性よく製造することが可能になる。

この時、別途微粒子を含まないセルロースアシレートのマスターペレット（セルロースアシレートマスターペレット）を作製しておくことが必要である。その場合、微粒子含有マスターペレットには、同時に上記の安定剤を含有させておくことが好ましい。また、微粒子含有マスターペレット中の微粒子の添加量は特に制限されないが、好ましくはセルロースアシレートフイルム中の微粒子最終濃度の２〜５０倍が好ましく、より好ましくは２〜３０倍であり、さらに好ましくは３〜２５倍であり、特に好ましくは４〜２０倍である。セルロースアシレートマスターペレットと微粒子含有マスターペレットの混合には、前記した混合機を利用することができる。なお、微粒子含有マスターペレットを作製する段階で、微粒子以外の添加剤（安定剤、可塑剤、その他の添加剤等）を一緒に添加してもよく、その場合も微粒子以外の添加剤の濃度は、好ましくはセルロースアシレートフイルム中の所望添加剤最終濃度の２〜５０倍が好ましく、より好ましくは２〜３０倍であり、さらに好ましくは３〜２５倍であり、特に好ましくは４〜２０倍である。

（光学調整剤）
本発明におけるセルロースアシレートには、光学調整剤を添加することができる。光学調整剤としてはレターデーション調整剤を挙げることができ、例えば、特開２００１−１６６１４４号、特開２００３−３４４６５５号、特開２００３−２４８１１７号、特開２００３−６６２３０号各公報記載のものを使用することができる。光学調整剤を添加することによって、面内のレターデーション（Ｒｅ）、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を制御することができる。好ましい添加量は０〜１０質量％であり、より好ましくは０〜８質量％、さらに好ましくは０〜６質量％である。

１−２．シクロオレフィン樹脂
本発明は、本発明における熱可塑性樹脂として、シクロオレフィン樹脂を用いることも好ましい。シクロオレフィン樹脂として、後述するシクロオレフィン樹脂−Ａ、及びシクロオレフィン樹脂−Ｂのいずれも好ましく用いることができる。

１−２−１．シクロオレフィン樹脂−Ａ
本発明で使用するシクロオレフィン系樹脂（シクロオレフィン樹脂−Ａ）としては、例えば、（１）ノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体を、必要に応じてマレイン酸付加、シクロペンタジエン付加のごときポリマー変性を行なった後に、水素添加した樹脂、（２）ノルボルネン系モノマーを付加型重合させた樹脂、（３）ノルボルネン系モノマーとエチレンやα−オレフィン等のオレフィン系モノマーと付加型共重合させた樹脂等が挙げることができる。重合方法及び水素添加方法は、常法により行なうことができる。

前記ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、及びそのアルキル及び／又はアルキリデン置換体、例えば、５−メチル−２−ノルボルネン、５−ジメチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン等、これらのハロゲン等の極性基置換体；ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエン等；ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキル及び／又はアルキリデン置換体、及びハロゲン等の極性基置換体、例えば、６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチリデン−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−クロロ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−シアノ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−ピリジル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−メトキシカルボニル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン等；シクロペンタジエンとテトラヒドロインデン等との付加物；シクロペンタジエンの３〜４量体、例えば、４，９：５，８−ジメタノ−３ａ，４，４ａ，５，８，８ａ，９，９ａ−オクタヒドロ−１Ｈ−ベンゾインデン、４，１１：５，１０：６，９−トリメタノ−３ａ，４，４ａ，５，５ａ，６，９，９ａ，１０，１０ａ，１１，１１ａ−ドデカヒドロ−１Ｈ−シクロペンタアントラセン；等が挙げられる。

１−２−２．シクロオレフィン系樹脂−Ｂ
また、シクロオレフィン系樹脂として、下記一般式（１）〜（４）で表わされるものを挙げることができ、これらのうち、下記一般式（１）で表されるものが特に好ましい。

一般式（１）〜（４）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、水素原子又は１価の有機基を示し、これらのうち少なくとも１つは極性基である。

これらのシクロオレフィン樹脂の重量平均分子量としては、通常５，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは８，０００〜２００，０００である。

本発明におけるシクロオレフィン樹脂としては、例えば、特開昭６０−１６８７０８号公報、特開昭６２−２５２４０６号公報、特開昭６２−２５２４０７号公報、特開平２−１３３４１３号公報、特開昭６３−１４５３２４号公報、特開昭６３−２６４６２６号公報、特開平１−２４０５１７号公報、特公昭５７−８８１５号公報等に記載されている樹脂等を挙げることができる。

これらの樹脂の中でも、ノルボルネン系モノマーの開環重合体を水素添加して得られる水添重合体が特に好ましい。

これらのシクロオレフィン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は１２０℃以上であることが好ましく、さらに好ましくは１４０℃以上であり、飽和吸水率は１質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは０．８質量％以下とされる。前記一般式（１）〜（４）で表わされるシクロオレフィン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）及び飽和吸水率は、置換基Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの種類を選択することにより制御することができる。

本発明におけるシクロオレフィン樹脂としては、下記一般式（５）で表わされる少なくとも１種のテトラシクロドデセン誘導体を単独で、あるいは、当該テトラシクロドデセン誘導体と、これと共重合体可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重合して得られる重合体を水素添加して得られる水添重合体を用いてもよい。

式中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、水素原子又は１価の有機基を示し、これらのうち少なくとも１つは極性基である。

前記一般式（５）で表わされるテトラシクロドデセン誘導体において、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤのうち少なくとも１つが極性基であることにより、他の材料との密着性、耐熱性等に優れた偏光フイルムを得ることができる。さらに、この極性基が−（ＣＨ₂）_nＣＯＯＲ（ここで、Ｒは炭素数１〜２０の炭化水素基、ｎは０〜１０の整数を示す。）で表わされる基であることが、最終的に得られる水添重合体（偏光フイルムの基材）が高いガラス転移温度を有するものとなるので好ましい。特に、この−（ＣＨ₂）_nＣＯＯＲで表わされる極性置換基は、一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体の１分子あたりに１個含有されることが吸水率を低下させる点から好ましい。前記極性置換基において、Ｒで示される炭化水素基の炭素数が多くなるほど得られる水添重合体の吸湿性が小さくなる点では好ましいが、得られる水添重合体のガラス転移温度とのバランスの点から、当該炭化水素基は、炭素数１〜４の鎖状アルキル基又は炭素数５以上の（多）環状アルキル基であることが好ましく、特にメチル基、エチル基、シクロヘキシル基であることが好ましい。

さらに、−（ＣＨ₂）_nＣＯＯＲで表わされる基が結合した炭素原子に、炭素数１〜１０の炭化水素基が置換基として結合されている一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体は、得られる水添重合体の吸湿性が低いものとなるので好ましい。特に、この置換基がメチル基又はエチル基である一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体は、その合成が容易な点で好ましい。具体的には、８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ〔４，４，０，１２．５，１７．１０〕ドデカ−３−エンが好ましい。これらのテトラシクロドデセン誘導体、及びこれと共重合可能な不飽和環状化合物の混合物は、例えば特開平４−７７５２０号公報第４頁右上欄１２行〜第６頁右下欄第６行に記載された方法によってメタセシス重合、水素添加することができる。

これらのシクロオレフィン系樹脂は、クロロホルム中、３０℃で測定される固有粘度（ηｉｎｈ）が、０．１〜１．５ｄｌ／ｇであることが好ましく、さらに好ましくは０．４〜１．２ｄｌ／ｇである。また、水添重合体の水素添加率としては、６０ＭＨｚ、¹Ｈ−ＮＭＲで測定した値が５０％以上とされ、好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９８％以上である。水素添加率が高いほど、得られる飽和ノルボルネンフイルムは、熱や光に対する安定性が優れたものとなる。該水添重合体中に含まれるゲル含有量が５質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下である。

さらに、下記構造のシクロオレフィン樹脂を本発明のフイルムに使用することができる。本発明では、シクロオレフィン樹脂として、［Ａ−１］：炭素原子数が２〜２０のα−オレフィンと下記式（Ｉ）で表される環状オレフィンとのランダム共重合体の水素添加物、［Ａ−２］：下記式（Ｉ）で表される環状オレフィンの開環重合体又は共重合体の水素添加物等を挙げることができる。

これらのシクロオレフィン樹脂は、ＤＳＣで測定したガラス転移温度(Ｔｇ)が、７０℃以上であることが好ましく、さらに好ましくは７０〜２５０℃であり、特に１２０〜１８０℃が好ましい。

また、これらのシクロオレフィン樹脂は、非晶性又は低結晶性であり、Ｘ線回折法によって測定される結晶化度が、通常２０％以下であり、好ましくは１０％以下、さらに好ましくは２％以下である。

また、本発明のシクロオレフィンは、１３５℃のデカリン中で測定される極限粘度［η］が、通常０．０１〜２０ｄｌ／ｇであり、好ましくは０．０３〜１０ｄｌ／ｇ、さらに好ましくは０．０５〜５ｄｌ／ｇであり、ＡＳＴＭ Ｄ１２３８に準じ２６０℃荷重２．１６ｋｇで測定した溶融流れ指数（ＭＦＲ）は、通常０．１〜２００ｇ／１０分であり、好ましくは１〜１００ｇ／１０分、さらに好ましく５〜５０ｇ／１０分である。

さらに、シクロオレフィン樹脂の軟化点は、サーマルメカニカルアナライザー(ＴＭＡ)で測定した軟化点として、通常３０℃以上であり、好ましくは７０℃以上、さらに好ましくは８０〜２６０℃である。

上記式（Ｉ）で表わされるシクロオレフィン樹脂の構造の詳細について述べる。

上記式（Ｉ）中、ｎは０又は１であり、ｍは０又は１以上の整数であり、ｑは０又は１である。なお、ｑが１の場合には、Ｒ^a及びＲ^bは、それぞれ独立に、下記に示す原子又は炭化水素基であり、ｑが０の場合には、それぞれの結合手が結合して５員環を形成する。

Ｒ¹〜Ｒ¹⁸並びにＲ^a及びＲ^bは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子又は炭化水素基である。ここでハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。

また、炭化水素基としては、それぞれ独立に、通常、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜１５のシクロアルキル基、芳香族炭化水素基が挙げられる。より具体的には、アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、アミル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基及びオクタデシル基が挙げられ、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル基が挙げられ、芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。これらの炭化水素基は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。さらに上記式（Ｉ）において、Ｒ¹⁵〜Ｒ¹⁸がそれぞれ結合して（互いに共同して）単環又は多環を形成していてもよく、しかも、このようにして形成された単環又は多環は二重結合を有していてもよい。

上記式（Ｉ）で示される環状オレフィンを、より具体的に次に例示する。一例として、

で示されるビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン（＝ノルボルネン）（上記一般式中において、１〜７の数字は炭素の位置番号を示す。）及び該化合物に炭化水素基が置換した誘導体が挙げられる。

この置換炭化水素基として、５−メチル、５，６−ジメチル、１−メチル、５−エチル、５−ｎ−ブチル、５−イソブチル、７−メチル、５−フェニル、５−メチル−５−フェニル、５−ベンジル、５−トリル、５−（エチルフェニル）、５−（イソプロピルフェニル）、５−（ビフェニル）、５−（β−ナフチル）、５−（α−ナフチル）、５−（アントラセニル）、５，６−ジフェニル等を例示することができる。

さらに他の誘導体として、シクロペンタジエン−アセナフチレン付加物、１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレン、１，４−メタノ−１，４，４ａ，５，１０，１０ａ−ヘキサヒドロアントラセン等のビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン誘導体を例示することができる。

この他、トリシクロ［４．３．０．１^2,5］−３−デセン、２−メチルトリシクロ［４．３．０．１^2,5］−３−デセン、５−メチルトリシクロ［４．３．０．１^2,5］−３−デセン等のトリシクロ［４．３．０．１^2,5］−３−デセン誘導体、トリシクロ［４．４．０．１^2,5］−３−ウンデセン、１０−メチルトリシクロ［４．４．０．１^2,5］−３−ウンデセン等のトリシクロ［４．４．０．１^2,5］−３−ウンデセン誘導体、

で示されるテトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10］−３−ドデセン、及びこれに炭化水素基が置換した誘導体が挙げられる。

その炭化水素基として、８−メチル、８−エチル、８−プロピル、８−ブチル、８−イソブチル、８−ヘキシル、８−シクロヘキシル、８−ステアリル、５，１０−ジメチル、２，１０−ジメチル、８，９−ジメチル、８−エチル−９−メチル、１１，１２−ジメチル、２，７，９−トリメチル、２，７−ジメチル−９−エチル、９−イソブチル−２，７−ジメチル、９，１１，１２−トリメチル、９−エチル−１１，１２−ジメチル、９−イソブチル−１１，１２−ジメチル、５，８，９，１０−テトラメチル、８−エチリデン、８−エチリデン−９−メチル、８−エチリデン−９−エチル、８−エチリデン−９−イソプロピル、８−エチリデン−９−ブチル、８−ｎ−プロピリデン、８−ｎ−プロピリデン−９−メチル、８−ｎ−プロピリデン−９−エチル、８−ｎ−プロピリデン−９−イソプロピル、８−ｎ−プロピリデン−９−ブチル、８−イソプロピリデン、８−イソプロピリデン−９−メチル、８−イソプロピリデン−９−エチル、８−イソプロピリデン−９−イソプロピル、８−イソプロピリデン−９−ブチル、８−クロロ、８−ブロモ、８−フルオロ、８，９−ジクロロ、８−フェニル、８−メチル−８−フェニル、８−ベンジル、８−トリル、８−（エチルフェニル）、８−（イソプロピルフェニル）、８，９−ジフェニル、８−（ビフェニル）、８−（β−ナフチル）、８−（α−ナフチル）、８−（アントラセニル）、５，６−ジフェニル等を例示することができる。

さらには、（シクロペンタジエン−アセナフチレン付加物）とシクロペンタジエンとの付加物等のテトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10］−３−ドデセン誘導体、ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6．０^2,7．０^9,13］−４−ペンタデセン及びその誘導体、ペンタシクロ［７．４．０．１^2,5．１^9,12．０^8,13］−３−ペンタデセン及びその誘導体、ペンタシクロ［８．４．０．１^2,5．１^9,12．０^8,13］−３−ヘキサデセン及びその誘導体、ペンタシクロ［６．６．１．１^3,6．０^2,7．０^9,14］−４−ヘキサデセン及びその誘導体、ヘキサシクロ［６．６．１．１^3,6．１^10,13．０^2,7．０^9,14］−４−ヘプタデセン及びその誘導体、ヘプタシクロ［８．７．０．１^2,9．１^4,7．１^11,17．０^3,8．０^12,16］−５−エイコセン及びその誘導体、ヘプタシクロ［８．７．０．１^3,6．１^10,17．１^12,15．０^2,7．０^11,16］−４−エイコセン及びその誘導体、ヘプタシクロ［８．８．０．１^2,9．１^4,7．１^11,18．０^3,8．０^12,17］−５−ヘンエイコセン及びその誘導体、オクタシクロ［８．８．０．１^2,9．１^4,7．１^11,18．１^13,16．０^3,8．０^12,17］−５−ドコセン及びその誘導体、ノナシクロ［１０．９．１．１^4,7．１^13,20．１^15,18．０^2,10．０^3,8．０^12,21．０^14,19］−５−ペンタコセン及びその誘導体等が挙げられる。

これらのシクロオレフィン樹脂の具体例は、上記した通りであるが、より具体的なこれらの化合物の構造については、特開平７-１４５２１３号公報明細書の段落［００３２］〜［００５４］に示されている。

また、これらのシクロオレフィン樹脂の合成法については、特開２００１−１１４８３６号公報明細書の段落［００３９］〜［００６８］を参考に実施することができる。

また、本発明のシクロオレフィン樹脂として下記のものも使用可能である。

下式Ｉ，ＩＩ，ＩＩ'，ＩＩＩ，ＩＶ，Ｖ又はＶＩ

（式中、Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵，Ｒ⁶，Ｒ⁷及びＲ⁸は、同じか又は異なっていて、水素、例えば線状又は枝分れＣ₁〜Ｃ₈−アルキル基、Ｃ₆〜Ｃ₁₈−アリール基、Ｃ₇〜Ｃ₂₀−アルキレンアリール基、環式又は非環式Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルケニル基のようなＣ₁〜Ｃ₂₀−炭化水素基であり、もしくは飽和、不飽和又は芳香族の環を形成し、また同じ基Ｒ¹〜Ｒ⁸は、異なる式Ｉ〜ＶＩにおいて異なっていてもよく、また、ｎは、０〜５である。）で表される少なくとも一種類の環式オレフィンの重合単位、及び、シクロオレフィンコポリマーの全構造を基準として、０〜９９モル％の、下式ＶＩＩ

（式中、Ｒ⁹，Ｒ¹⁰，Ｒ¹¹及びＲ¹²は、同じか又は異なっていて、水素、例えばＣ₁〜Ｃ₈−アルキル基又はＣ₆〜Ｃ₁₈−アリール基のような線状又は枝分れ、飽和又は不飽和のＣ₁〜Ｃ₂₀−炭化水素基である。）で表される一種類以上の非環式オレフィンから誘導される重合単位を含むポリマーから成る組から選択される少なくとも一種類のシクロオレフィンコポリマーであってもよい。

また、シクロオレフィンポリマーは、式Ｉ〜ＶＩを有するモノマーの少なくとも一種類を開環重合し、次に得られた生成物を水素化することによって得ることもできる。

また、さらに、シクロオレフィンコポリマーの全構造を基準として０〜４５モル％の、下式ＶＩＩＩ

（式中、ｎは２〜１０の数である。）
で表される一種類以上の単環式オレフィンから誘導される重合単位を含むことができる。

環式、特に多環式オレフィンから誘導される重合単位の割合は、シクロオレフィンコポリマーの全構造を基準として、好ましくは３〜７５モル％である。非環式オレフィンから誘導される重合単位の割合は、シクロオレフィンコポリマーの全構造を基準として、好ましくは５〜８０モル％である。

シクロオレフィンコポリマーは、好ましくは、一種類以上の多環式オレフィン、特に式Ｉ又は式ＩＩＩで表される多環式オレフィンから誘導される重合単位、及び、式ＶＩＩで表される一種類以上の非環式オレフィン、特に２〜２０個の炭素原子を有するα-オレフィンから誘導される重合単位から成っている。好ましくは、特に、式Ｉ又は式ＩＩＩで表される多環式オレフィンから誘導される重合単位、及び式ＶＩＩで表される非環式オレフィンから誘導される重合単位から成るシクロオレフィンコポリマーである。好ましくは、さらに、式Ｉ又は式ＩＩＩで表される多環式モノオレフィンから誘導される重合単位、式ＶＩＩで表される非環式モノオレフィンから誘導される重合単位、及び少なくとも二つの二重結合を含む環式又は非環式オレフィン（ポリエン）、例えばノルボルナジエンのような特に環式、好ましくは多環式のジエン、特に好ましくは例えばＣ₂〜Ｃ₂₀−アルケニル基を運ぶビニルノルボルネンのような多環式アルケンから誘導される重合単位から成るターポリマーである。

本発明に従うシクロオレフィンポリマーは、好ましくはノルボルネン構造をベースとするオレフィン、特に好ましくはノルボルネン、テトラシクロドデセン、所望ならば、ビニルノルボルネン又はノルボルナジエンを含む。また、好ましくは、例えば２〜２０個の炭素原子を有するα−オレフィン、特に好ましくはエチレン又はプロピレンのような末端二重結合を有する非環式オレフィンから誘導される重合単位を含むシクロオレフィンコポリマーである。特に好ましくは、ノルボルネン・エチレンコポリマー及びテトラシクロドデセン・エチレンコポリマーである。

ターポリマーの中では、特に好ましくは、ノルボルネン・ビニルノルボルネン・エチレンターポリマー、ノルボルネン・ノルボルナジエン・エチレンターポリマー、テトラシクロドデセン・ビニルノルボルネン・エチレンターポリマー、及びテトラシクロドデセン・ビニルテトラシクロドデセン・エチレンターポリマーである。ポリエン、好ましくはビニルノルボルネン又はノルボルナジエンから誘導される重合単位の割合は、シクロオレフィンコポリマーの全構造を基準として、０．１〜５０モル％、特に好ましくは０．１〜２０モル％であり、式ＶＩＩで表される非環式モノオレフィンの割合は、０〜９９モル％、好ましくは５〜８０モル％である。上記ターポリマーでは、シクロオレフィンコポリマーの全構造を基準として、０．１〜９９モル％、好ましくは３〜７５モル％である。

好ましくは、本発明に従うシクロオレフィンコポリマーは、式Ｉで表される多環式オレフィンから誘導することができる重合単位及び式ＶＩＩで表される非環式オレフィンから誘導することができる重合単位を含む少なくとも一種類のシクロオレフィンコポリマーを含む。

このようなシクロオレフィンコポリマーは特開平１０−１６８２０１の段落［００１９］〜［００２０］に従い合成することができる。

１−２−３．シクロオレフィン系樹脂用添加剤
本発明におけるシクロオレフィン系樹脂には、安定剤の少なくとも一種を前記シクロオレフィン系樹脂の加熱溶融前又は加熱溶融時に添加することが好ましい。これらは、フイルム構成材料の酸化防止、分解して発生した酸の捕捉、光又は熱によるラジカル種基因の分解反応を抑制又は禁止する等、解明できていない分解反応を含めて、着色や分子量低下に代表される変質や材料の分解による揮発成分の生成を抑制するために有用である。その時、製膜するための溶融温度においても安定化剤自身が分解せずに機能することが求められる。これらの安定化剤は次に挙げられる効果に用いるがこれらに限定されるものではない。

安定剤の代表的な素材としては、フェノール系安定剤、亜リン酸系安定剤（フォスファイト系）、チオエーテル系安定剤、アミン系安定剤、エポキシ系安定剤、ラクトン系安定剤、アミン系安定剤、金属不活性化剤（スズ系安定剤）等が挙げられる。これらは、特開平３−１９９２０１号公報、特開平５−１９０７０７３号公報、特開平５−１９４７８９号公報、特開平５−２７１４７１号公報、特開平６−１０７８５４号公報等に記載があり、本発明ではフェノール系や亜リン酸系安定剤の少なくとも一つを用いることが好ましい。

安定剤は、それぞれ単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択される。好ましくは、シクロオレフィン系樹脂の質量に対して安定化剤の添加量は０．００１質量％以上５質量％以下が好ましく、より好ましくは０．００５質量％以上３質量％以下であり、さらに好ましくは０．０１質量％以上０．８質量％以下である。

本発明で用いることができるフェノール系安定剤はヒンダードフェノール系安定剤が好ましい。例えば、米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第１２〜１４欄に記載されているもの等の、２，６−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。中でも、特に分子量５００以上のフェノール系安定剤を添加することが好ましい態様である。特に、ヒドロキシフェニル基に隣接する部位に置換基を有することが好ましく、その場合の置換基としては炭素数１〜２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。本発明で用いることができるフェノール系安定剤はこれらに限定されるものではない。これらの素材は、市販品として容易に入手可能であり、下記のメーカーから販売されている。チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社から、Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１３、Ｉｒｇａｎｏｘ２４５、Ｉｒｇａｎｏｘ１１３５、Ｉｒｇａｎｏｘ１３３０、Ｉｒｇａｎｏｘ２５９、Ｉｒｇａｎｏｘ５６５、Ｉｒｇａｎｏｘ１０３５、Ｉｒｇａｎｏｘ１０９８、Ｉｒｇａｎｏｘ１４２５ＷＬ、として入手することができる。また、旭電化工業株式会社から、アデカスタブＡＯ−５０、アデカスタブＡＯ−６０、アデカスタブＡＯ−２０、アデカスタブＡＯ−７０、アデカスタブＡＯ−８０として入手できる。さらに、住友化学株式会社から、スミライザーＢＰ−７６、スミライザーＢＰ−１０１、スミライザーＧＡ−８０、として入手できる。また、シプロ化成株式会社からシーノックス３２６Ｍ、シーノックス３３６Ｂ、としても入手することが可能である。

さらに、シクロオレフィン系樹脂には、所望により、亜リン酸系安定剤、チオエーテル系安定剤、エポキシ系安定剤、酸捕捉剤、ヒンダードアミン光安定剤等の老化防止剤、耐電防止剤、紫外線吸収剤、微粒子等の各種添加剤を添加してもよい。これらの添加剤は前述セルロースアシレート樹脂用の亜リン酸系安定剤、チオエーテル系安定剤、エポキシ系安定剤、酸捕捉剤、ヒンダードアミン光安定剤、紫外線吸収剤、微粒子と同様なものを用いることができる。これらの添加剤の添加量は、シクロオレフィン系樹脂の質量に対して０．００１質量％以上３質量％以下が好ましく、より好ましくは０．００５質量％以上２質量％以下であり、さらに好ましくは０．０１質量％以上１．０質量％以下である。

１−３．ラクトン環含有重合体
下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有するものを指す。

一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。

一般式（１）のラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０重量％、より好ましくは１０〜７０重量％、さらに好ましくは１０〜５０重量％である。

一般式（１）で表されるラクトン環構造以外に、（メタ）アクリル酸エステル、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸、下記一般式（２ａ）で表される単量体から選ばれる少なくとも１種を重合して構築される重合体構造単位（繰り返し構造単位）が好ましい。

一般式（２ａ）中、Ｒ⁴は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ⁵基、又は−Ｃ−Ｏ−Ｒ⁶基を表し、Ａｃ基はアセチル基を表し、Ｒ⁵及びＲ⁶は水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。

例えば、国際公開第２００６／０２５４４５号パンフレット、特開２００７−７０６０７号公報、特開２００７−６３５４１号公報、特開２００６−１７１４６４号公報、特開２００５−１６２８３５号公報記載のものを用いることができる。

ラクトン環含有重合体樹脂用の添加剤は前述セルロースアシレート樹脂またはシクロオレフィン系樹脂用の各種添加剤（安定剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン光安定剤、微粒子、光学調整剤など各種添加剤）を用いることが出来る。これらの添加剤の添加量は、ラクトン環含有重合体樹脂の質量に対して０．００１質量％以上１０質量％以下が好ましく、より好ましくは０．００５質量％以上８質量％以下であり、さらに好ましくは０．０１質量％以上５．０質量％以下である。

１−４．ポリカーボネート系樹脂
ジヒドロキシ成分とカーボネート前駆体とを界面重合法又は溶融重合法で反応させて得られるものであり、例えば、特開２００６−２７７９１４号公報に記載のものや特開２００６−１０６３８６号公報、特開２００６−２８４７０３号公報記載のものが好ましく用いることができる。ポリカーボネート系樹脂用の添加剤は前述セルロースアシレート樹脂用の添加剤（安定剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン光安定剤、微粒子、光学調整剤など各種添加剤）を用いることができる。

２．熱可塑性フイルムの製造方法
２−１．溶融製膜
以下に、本発明の熱可塑性フイルムの製造方法について、詳細に記述する。なお、本発明の熱可塑性フイルムは、これらの方法により製造されたものに限定されるものではない。

２−１−１．ペレット化
上記熱可塑性樹脂と添加物は溶融製膜に先立ち混合しペレット化するのが好ましい。

ペレット化前に熱可塑性樹脂及び添加物は事前に乾燥を行うことが好ましい。ベント式押出機を用いることで、これを代用することもできる。

ペレット化は上記熱可塑性樹脂と添加物を２軸あるいは１軸混練押出機を用い、セルロースアシレート樹脂の場合１５０℃〜２５０℃で溶融後、シクロオレフィン系樹脂の場合１５０℃〜２８０℃で溶融後、ヌードル状に押出したものを水中で固化し裁断することで作成することができる。水中に直接押出ながらカットするアンダーウオーターカット法でペレット化を行ってよい。

好ましいペレットの大きさは断面積が１ｍｍ²〜３００mm²、長さが１ｍｍ〜３０ｍｍであり、より好ましくは断面積が２ｍｍ²〜１００ｍｍ²、長さが１．５ｍｍ〜１０ｍｍである。

押出機の回転数は１０ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍが好ましく、より好ましくは３０ｒｐｍ〜５００ｒｐｍ以下である。ペレット化における押出滞留時間は１０秒〜３０分、好ましくは３０秒〜３分である。

押出機の回転数は１０ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍが好ましく、より好ましくは３０ｒｐｍ〜５００ｒｐｍ以下である。ペレット化における押出滞留時間は１０秒〜３０分、好ましくは３０秒〜３分である。

２−１−２．乾燥
溶融製膜に先立ちペレット中の水分を乾燥して含水率を０．１質量％以下、より好ましくは０．０１質量％以下にすることが好ましい。ペレット状の樹脂乾燥は通常用いられる何れの乾燥方法も用いることができる。例えば除湿エアーを循環する乾燥機、熱風乾燥機、真空乾燥機、超音波乾燥機、高周波乾燥機、赤外線乾燥機等が上げられる。このための乾燥温度は４０〜１８０℃が好ましく、さらに好ましくは６０〜１６０℃、特に好ましくは８０〜１４０℃である。乾燥風量は多いほど乾燥効率は上がるが、水分除去効率と経済性を考慮すると１時間あたりに樹脂１００ｋｇを乾燥させるのに必要な風量としては好ましくは１０〜２００ｍ³／時間で有り、特に好ましくは５０〜１２５ｍ³／時間である。乾燥風の露点は好ましくは−６０℃〜０℃で有り、乾燥効率と経済性を考慮するとより好ましくは−４０℃〜−２０℃である。

２−１−３．溶融押出し
乾燥した熱可塑性樹脂を押出機の供給口からシリンダ内に供給する。押出機のスクリュー圧縮比は１．５〜４．５が好ましく、より好ましくは２．５〜４．０である。Ｌ（スクリュー長）／Ｄ（スクリュー径）は２０〜７０が好ましく、より好ましくは２４〜５０である。セルロースアシレート樹脂の押出温度は１９０〜２４０℃が好ましく、特に好ましくは１９５〜２３０℃である。また，シクロオレフィン系樹脂の押出温度は、２１０℃〜２８０℃が好ましく、より好ましくは、２２０℃〜２６０℃、特に好ましくは２４０℃〜２６０℃である。また、押出機のバレルは３〜２０に分割したヒータで加熱し溶融することが好ましい。

スクリューは、フルフライト、マドック、ダルメージ等何れのタイプを用いることが可能であるが、均一な可塑化と、滞留部分の発生防止及びせん断発熱による熱劣化を考慮し、適宜組み合わせて適正なスクリュー設計を行うことが必要である。

樹脂の酸化防止のために、押出機内を不活性（窒素等）気流中、あるいはベント付き押出機を用い真空排気しながら実施するのがより好ましい。

２−１−４．濾過
ギアポンプ保護の点から、押し出し機出口にブレーカープレート式の濾過を行うことが好ましい。用いるフィルタのサイズは２０〜６００メッシュが好ましく、さらに好ましくは４０〜４００メッシュ、特に好ましくは５０〜３００メッシュである。

高精度濾過のために、ギアポンプの後段にリーフ型ディスクフィルタ型の濾過装置を設けることが好ましい。濾過は、単段で行っても、多段で行ってもよい。濾材の濾過精度は３μｍｍ〜１５μｍｍが好ましく、さらに好ましくは３μｍｍ〜１０μｍｍである。濾材はステンレス鋼，スチールを用いることが好ましく、中でもステンレス鋼が望ましい。濾材は線材を編んだもの、金属焼結濾材が使用でき、特に後者が好ましい。

２−１−５．ギアポンプ
厚み精度向上（吐出量の変動減少）のために、押出機とダイスの間にギアポンプを設置するのが好ましい。これにより、ダイ部分の樹脂圧変動巾を±１％以内にできる。

ギアポンプによる定量供給性能を向上させるために、スクリューの回転数を変化させて、ギアポンプ前の圧力を一定に制御する方法も好ましい。３枚以上のギアを用いた高精度ギアポンプも有効である。ギアポンプ内の滞留部分が樹脂劣化の原因となるため、滞留の少ない構造が好ましい。また、軸受け部分に滞留して熱劣化した樹脂を軸のクリアランスから放出することにより、熱劣化ポリマーの混入を防止することも有効である。

押出機とギアポンプ、ギアポンプとダイ等をつなぐアダプタの温度変動を小さくすることが押出圧力安定のために好ましい。このためにアルミ鋳込みヒータを用いることがより好ましい。

２−１−６．ダイ
ダイス内の溶融樹脂の滞留が少ない設計であれば、一般的に用いられるＴダイ、フィッシュテールダイ、ハンガーコートダイの何れのタイプでも構わない。又、Ｔダイの直前に樹脂温度の均一性アップのためのスタティックミキサを入れることも問題ない。Ｔダイ出口部分のクリアランスは一般的にフイルム厚みの１．０〜２０．０倍がよく、さらに好ましくは３．０〜１５倍である。特に好ましくは５．０〜１０倍である。

ダイのクリアランスは４０〜５０ｍｍ間隔で調整可能であることが好ましく、より好ましくは２５ｍｍ間隔以下である。また、下流のフイルム厚みを計測してダイの厚み調整にフィードバックさせる方法も厚み変動の低減に有効である。

機能層を外層に設けるため、多層製膜装置を用いて２種以上の構造を有するフイルムの製造も可能である。

樹脂が供給口から押出機に入ってからダイスから出るまでの樹脂の好ましい滞留時間は２分以上６０分以下であり、好ましくは２分３０秒以上３０分以下である。

２−１−７．キャスティングロール
ダイよりシート上に押し出された溶融樹脂をキャスティングロール上で冷却固化し、フイルムを得る。この時、静電印加法、エアナイフ法、エアーチャンバ法、バキュームノズル法、タッチロール法等の方法を用い密着を上げることが好ましい。タッチロール法ではキャスティングロールにタッチロールを押し当てて製膜する。またエッジピニング（フイルムの両端部のみを密着させる方法）も好ましい。

キャスティングロールは１〜８本、より好ましくは２〜５本用い、徐冷する方法が好ましい。ロール直径は５０ｍｍ〜５０００ｍｍが好ましく、さらに好ましくは１５０ｍｍ〜１０００ｍｍである。複数本あるロールの間隔は、面間で０．３ｍｍ〜３００ｍｍが好ましく、さらに好ましくは３ｍｍ〜３０ｍｍである。キャスティングロールは６０℃〜１６０℃が好ましく、さらに好ましくは８０℃〜１４０℃である。

この後、キャスティングロールから剥ぎ取り、ニップロールを経た後巻き取る。このようにして得た未延伸フイルムの厚みは３０μｍ〜４００μｍが好ましく、より好ましくは５０μｍ〜２００μｍである。

また、いわゆるタッチロール法を用いる場合、タッチロール表面は、ゴム、テフロン（登録商標）等の樹脂でもよく、金属ロールでもよい。さらに、金属ロールの厚みを薄くすることでタッチしたときの圧力によりロール表面が若干くぼみ、圧着面積が広くなりフレキシブルロールと呼ばれる様なロールを用いることも可能である。この厚みは０．１ｍｍ以上７ｍｍ以下が好ましく、より好ましくは０．２ｍｍ以上５．５ｍｍ以下、さらに好ましくは０．２ｍｍ以上４ｍｍ以下である。タッチロール温度は６０℃〜１６０℃が好ましく、より好ましくは８０℃〜１４０℃である。タッチロールの抑え圧は０．１〜１０ＭＰａが好ましく、より好ましくは０．２〜８ＭＰａ、さらに好ましくは０．３〜５ＭＰａである。ここでいう押さえ圧とは、タッチロールを押付ける力を、タッチロールとキャスティングロールの接触面積で割った値を指す。タッチロールを用いた製膜法は、例えば特開平１１−３１４２６３号公報、特開２００２−３６３３２号公報、特開平１１−２３５７４７号公報、国際公開第９７／２８９５０号パンフレット、特開２００４−２１６７１７号公報、特開２００３−１４５６０９号公報に記載のものを利用できる。

静電印加を行うことでも本発明を実施することができる。静電印加は、メルトに静電気を与え、これによりキャスティングロールとの密着を改良するものである。静電印加はメルト全面に付与してもよく、両端あるいは片端に付与してもよい。具体的には、例えば、特開平７−５２２３２号公報、特開平８−１１１３４７号公報、特開平１０−３１５３０６号公報、特開平１０−３２３８８１号公報等に記載の方法を使用することができる。

本発明では、両端に静電印加するエッジピニンング法を用いる方法が、全幅に渡り静電印加する方法より好ましい。静電印加する幅は一端あたり全幅の１％〜２０％が好ましく、より好ましくは２％〜１５％、さらに好ましくは３％〜１２％である。すなわち、全面に渡って静電印加を行うと幅全面に渡り急冷され、大きな熱収縮応力が発生するため、縦すじが発生し易いが、両端のみをを静電印加する方法では、必要な端部のみを効率的に冷却するため熱収縮応力も小さく、縦すじが発生し難くより好ましい。幅静電印加はメルトが接触する直上１ｃｍ〜３０ｃｍのところに３ｋＶ〜２０ｋＶ、より好ましくは４ｋＶ〜１５ｋＶ、さらに好ましくは５ｋＶ〜１２ｋＶの電圧を電極に加えることが好ましい。電極は針状のものを使用することができ、この本数を増やすことで静電印加の幅を調整できる。このようなエッジピニングの方法は例えば特開２００３−９４５０９号公報、特開２００４−９１６１９号公報、特開２００３−１６０８１９号公報、特開２００５−１４５２２号公報等に記載の方法を用いることができる。

２−１−８．巻取り
巻取り前に両端をトリミングすることが好ましい。トリミングされた部分はフイルム用原料として再利用してもよい。トリミングカッターはロータリーカッター、シャー刃、ナイフ等何れを用いても構わない。材質についても、炭素鋼、ステンレス鋼、セラミックを用いることができる。

好ましい巻取り張力は１ｋｇ／ｍ幅〜５０ｋｇ／ｍ幅、より好ましくは３ｋｇ／ｍ幅〜２０ｋｇ／ｍ幅である。巻取り張力は、一定の巻取り張力で巻き取ってもよいが、巻取り径に応じてテーパーをつけ巻取ることがより好ましい。

また、ニップロール間のドロー比率を調整し、ライン途中でフイルムに規定以上の張力がかからないようにすることが必要である。

巻取り前に、少なくとも片面にラミフイルムを付けてもよい。また、両端あるいは片端にローレットを付与することも好ましい。

２−１−９．回収
製膜した未延伸フイルムや延伸フイルムを製品サイズに合わせるためのトリミング工程や、製膜条件調整時には屑フイルムが発生する。発生量は投入原料の５〜３０％程度に達するため、屑フイルムを粉砕し、新原料と混合あるいは単独で再利用することは、コスト面及び環境面から極めて重要である。

（フイルムの粉砕）
発生した屑フイルムは、製膜時のオンライン上で、連続した短冊状のままピンチロール又は送風機で粉砕機へ送って細片状に粉砕する方法が好ましく、一旦巻取り機で巻き取った後、にオフラインの粉砕機で粉砕する方法でも構わない。フイルム端部の熱劣化が激しいフイルムの場合には、フイルムの端部のみをスリットして除去して用いてもよい。

粉砕機、固定刃と回転刃との接触により粉砕（切断・せん断）するものやシュレッダーの様な短冊状に細切り状に切断するもの、あるいはカッターミルのようなせん断力を利用する粉砕機（細断機）やブロワーカッターやハンマーミル等を利用できる。粉砕刃は、平刃、くし刃、ロータリー刃等を用いることができる。

粉砕するフイルムのサイズは、通常０．１〜３０ｍｍであり、好ましくは０．５〜１５ｍｍ、さらに好ましくは１〜１０ｍｍ程度である。粉砕サイズが大き過ぎると配管に詰まり易く、一方、粉砕サイズが小さ過ぎても、配管内部に付着し易く好ましくない。粉砕サイズは、通過させるメッシュの穴径で調整することができる。

また、一次破砕機ではやや大きいサイズに粉砕し、二次粉砕機で目標サイズに粉砕するような、多段粉砕も有効である。さらに粉砕時に剪断発熱し粉砕フイルムがブロッキングすることを防止するため、発熱し難い構造、冷却機能を有する粉砕機の利用が有効である。

粉砕時に金属部同士が接触し金属粉が発生するのを防止するため、磁力を有した金属除去装置により取り除くことが有効である。また、フイルム屑に付着したゴミを洗浄、乾燥で除去してもよい。

粉砕フイルムは、加圧あるいは減圧よる気体搬送が好ましく、コンベアやロータリーフィーダによる輸送等でもよい。また、粉砕フイルムはかさ比重が小さいため、圧縮機を用いたり、単軸あるいは二軸押出機を用いたリペレット化を行なっても問題ない。

（粉砕原料の乾燥）
粉砕フイルムは、吸湿を防止した粉砕機を用いて、インラインで直ちに原料に戻す場合は乾燥が不要だが、通常は所定の水分率にするため乾燥が必要であり、熱風乾燥機、ドライエアー乾燥機、真空乾燥機、超音波乾燥機、赤外線乾燥機等を使用できる。

（粉砕原料輸送・供給）
粉砕、乾燥処理したフイルムは気送配管により原料タンクに供給され、バージン原料と混合し、ホッパーへ供給してもよい。また、粉砕フイルムとバージン原料を別々に計量し、押出機機に供給してもよい。粉砕フイルム原料とバージン原料の混合割合は重量比で１：９９〜７０：３０が好ましく、さらに好ましくは５：９５〜５０：５０である。これにより、粉砕フイルムとバージン原料の嵩密度が異なっても押出機への供給安定性が良好で好ましい。但し、リペレット化した場合は、フイルム物性に問題がなければ、上記範囲である必要はなく、任意の配合比率で混合することが可能である。

２−３．延伸工程
溶融製膜、溶液製膜した熱可塑性フイルムは横延伸されるが、これと合わせて縦延伸、緩和処理をおこなってもよい。これらは例えば以下の組合せで実施できる。
（ａ）横延伸
（ｂ）横延伸→緩和処理
（ｃ）縦延伸→横延伸
（ｄ）縦延伸→横延伸→緩和処理
（ｅ）縦延伸→緩和処理→横延伸→緩和処理
（ｆ）横延伸→縦延伸→緩和処理
（ｇ）横延伸→緩和処理→縦延伸→緩和処理
（ｈ）縦延伸→横延伸→縦延伸
（ｉ）縦延伸→横延伸→縦延伸→緩和処理

これらの中でより好ましいのが、（ａ）〜（ｄ）であり、さらに好ましいのが（ｂ）、（ｄ）である。

２−３−１．縦延伸
縦延伸は２対のニップロールを設置し、この間を加熱しながら出口側のニップロールの周速を入口側のニップロールの周速より速くすることで達成できる。この際、ニップロール間の間隔（Ｌ）と延伸前のフイルム幅（Ｗ）を変えることで厚み方向のレターデーションの発現性を変えることができる。Ｌ／Ｗ（縦横比と称する）が２を超え５０以下（長スパン延伸）ではＲｔｈを小さくでき、縦横比が０．０１以上０．３以下（短スパン延伸）ではＲｔｈを大きくできる。本発明では長スパン延伸、短スパン延伸、これらの間の領域（中間延伸＝Ｌ／Ｗが０．３を超え２以下）どれを使用してもよいが、配向角を小さくできる長スパン延伸、短スパン延伸が好ましい。さらに高Ｒｔｈを狙う場合は短スパン延伸、低Ｒｔｈを狙う場合は長スパン延伸と区別して使用することがより好ましい。

好ましい縦延伸倍率は１．０１倍〜３倍が好ましく、１．０３倍〜２．２倍がより好ましく、さらに好ましくは１．０５倍〜１．５倍である。ここでいう延伸倍率とは、以下の式を用いて求めたものである。
延伸倍率＝（延伸後の長さ）／（延伸前の長さ）

２−３−１−ａ．長スパン延伸
延伸に伴いフイルムは伸張されるが、この時フイルムは体積変化を小さくしようと厚み、幅を減少させる。このときニップロールとフイルム間の摩擦により幅方向の収縮が制限される。このためニップロール間隔を大きくすると幅方向収縮しやすくなり厚み減少を抑制できる。厚み減少が大きいとフイルムが厚み方向に圧縮されたことと同じ効果があり、フイルム面内に分子配向が進みＲｔｈが大きくなり易い。縦横比が大きく厚み減少が少ないとこの逆でＲｔｈは発現し難く低いＲｔｈを実現できる。

さらに縦横比が長いと幅方向の均一性を向上することができる。これは以下の理由による。

（ａ）縦延伸に伴いフイルムは幅方向に収縮しようとする。幅方向中央部では、その両側も幅方向に収縮しようとするため、綱引き状態となり自由に収縮できない。

（ｂ）一方フイルム幅方向端部は片側としか綱引き状態とならず、比較的自由に収縮できる。

（ｃ）この両端と中央部の延伸に伴う収縮挙動の差が幅方向の延伸むらとなる。

このような両端と中央部の不均一性により、幅方向のレターデーションむら、軸ずれ（遅相軸の配向角分布）が発生する。これに対し、長スパン延伸は長い２本のニップロール間でゆっくり延伸されるため、延伸中にこれらの不均一性の均一化（分子配向が均一になる）が進行する。これに対し、通常の縦延伸（縦横比＝０．３を超え２未満）では、このような均一化は発生しない。

縦横比は２を越え５０以下が好ましく、より好ましくは３〜４０、さらに好ましくは４〜２０である。好ましい延伸温度は（Ｔｇ−５）〜（Ｔｇ＋１００）℃、より好ましくは（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋５０）℃、さらに好ましくは（Ｔｇ＋５）〜（Ｔｇ＋３０）℃である。好ましい延伸倍率は１．０５〜３倍であり、より好ましくは１．０５〜１．７倍、さらに好ましくは１．０５〜１．４倍である。このような長スパン延伸は３対以上ニップロールで多段延伸延伸してもよく、多段のうち最も長い縦横比が上記範囲に入っていればよい。

このような長スパン延伸は所定の距離離した２対のニップロールの間でフイルムを加熱して延伸すればよく、加熱方法はヒータ加熱法（赤外線ヒータ、ハロゲンヒータ、パネルヒータ等をフイルム上や下に設置し輻射熱で加熱）でもよく、ゾーン加熱法（熱風等を吹き込み所定の温度に調温したゾーン内で加熱）でもよい。本発明では延伸温度の均一性の観点からゾーン加熱法が好ましい。このとき、ニップロールは延伸ゾーン内に設置してもよく、ゾーンの外に出してもよいが、フイルムとニップロールの粘着を防止するためにはゾーンの外に出すのが好ましい。このような延伸の前にフイルムを予熱することも好ましく、予熱温度はＴｇ−８０℃以上、Ｔｇ＋１００℃以下である。

このような延伸により、Ｒｅ値が、０〜２００ｎｍ、より好ましくは１０〜２００ｎｍ、さらに好ましくは１５ｎｍ〜１００ｎｍ、Ｒｔｈ値が３０〜５００ｎｍ、より好ましくは５０〜４００ｎｍ、さらに好ましくは７０〜３５０ｎｍである。この延伸法により、ＲｔｈとＲｅの比（Ｒｔｈ／Ｒｅ）を０．４〜０．６、より好ましくは０．４５〜０．５５とすることができる。さらに本延伸により、Ｒｅ値及びＲｔｈ値のばらつきがいずれも５％以下、より好ましくは４％以下、さらに好ましくは３％以下にすることができる。

このような延伸に伴い、延伸前後のフイルム幅の比（延伸後のフイルム幅／延伸前のフイルム幅）は０．５〜０．９、より好ましくは０．６〜０．８５、さらに好ましくは０．６５〜０．８３となる。

２−３−１−ｂ．短スパン延伸
縦横比（Ｌ／Ｗ）を０．０１を越え０．３未満、より好ましくは０．０３〜０．２５、さらに好ましくは０．０５〜０．２で縦延伸（短スパン延伸）を行う。このような範囲の縦横比（Ｌ／Ｗ）で延伸を行うことで、ネックイン（延伸に伴う延伸と直行する方向の収縮）を小さくすることができる。延伸方向の伸張を補うため幅、厚みが減少するが、このような短スパン延伸では幅収縮が抑制され厚み減少が優先的に進む。この結果、厚み方向に圧縮されたようになり、厚み方向の配向（面配向）が進む。この結果厚み方向の異方性の尺度であるＲｔｈが増大し易い。一方、従来は縦横比（Ｌ／Ｗ）が１前後（０．７〜１．５）で行われるのが一般的であった。これは、通常ニップロール間に加熱用ヒータを設置して延伸するが、Ｌ／Ｗが大きくなりすぎるとヒータでフイルムを均一に加熱できず延伸むらが発生し易く、Ｌ／Ｗが小さすぎるとヒータが設置しにくく加熱が十分に行えないためである。

上述の短スパン延伸は２対以上のニップロール間で搬送速度を変えることにより実施できるが、通常のロール配置（図１参照）と異なり、２対のニップロールを斜めに（前後のニップロールの回転軸を上下にずらす）配置することで達成できる（図３参照）。これに伴い、ニップロール間に加熱用ヒータは設置できないため、ニップロール中に熱媒を流しフイルムを昇温することが好ましい。さらに入口側ニップロールの前に内部に熱媒を流した予熱ロールを設け、フイルムを延伸前に加熱することも好ましい。

好ましい延伸温度は（Ｔｇ−５）〜（Ｔｇ＋１００）℃、より好ましくは（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋５０）℃、さらに好ましくは（Ｔｇ＋５）〜（Ｔｇ＋３０）℃であり、好ましい予熱温度はＴｇ−８０℃以上、Ｔｇ＋１００℃以下である。

２−３−２．横延伸
横延伸はテンターを用い実施することができる。すなわち、フイルムの幅方向の両端部をクリップで把持し、横方向に拡幅することで延伸する。このとき、テンター内に所望の温度の風を送ることで延伸温度を制御できる。延伸温度は、Ｔｇ−１０℃以上Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、Ｔｇ−５℃以上Ｔｇ＋４５℃以下がより好ましく、Ｔｇ以上Ｔｇ＋３０℃以下がさらに好ましい。好ましい延伸倍率は１．０１倍以上４倍以下、より好ましく１．０３倍以上３．５倍以下、さらに好ましくは１．０５倍以上２．５倍以下である。

このような延伸の前に予熱、延伸の後に熱固定を行うことで延伸後のＲｅ，Ｒｔｈ分布を小さくし、ボーイングに伴う配向角のばらつきを小さくできる。予熱、熱固定はどちらか一方であってもよいが、両方行うのがより好ましい。これらの予熱、熱固定はクリップで把持して行うのが好ましく、すなわち、延伸と連続して行うのが好ましい。

予熱は延伸温度より１℃以上５０℃以下、より好ましく２℃以上４０℃以下、さらに好ましくは３℃以上３０℃以下高くすることが好ましい。好ましい予熱時間は１秒以上１０分以下であり、より好ましくは５秒以上４分以下、さらに好ましくは１０秒以上２分以下である。予熱の際、テンターの幅はほぼ一定に保つことが好ましい。ここで「ほぼ」とは未延伸フイルムの幅の±１０％を指す。

熱固定は延伸温度より１℃以上５０℃以下、より好ましく２℃以上４０℃以下、さらに好ましくは３℃以上３０℃以上低くすることが好ましい。さらに好ましくは延伸温度以下で、且つ、Ｔｇ以下にするのが好ましい。好ましい予熱時間は１秒以上１０分以下であり、より好ましくは５秒以上４分以下、さらに好ましくは１０秒以上２分以下である。熱固定の際、テンターの幅はほぼ一定に保つことが好ましい。ここで「ほぼ」とは延伸終了後のテンター幅の０％（延伸後のテンター幅と同じ幅）〜−１０％（延伸後のテンター幅より１０％縮める＝縮幅）を指す。延伸幅以上に拡幅すると、フイルム中に残留歪が発生しやすくＲｅ、Ｒｔｈの経時変動を増大し易く好ましくない。

このような予熱、熱固定により配向角やＲｅ，Ｒｔｈのばらつきを小さくできるのは下記理由による。

フイルムは幅方向に延伸され、直行方向（長手方向）に細くなろうとする（ネックイン）。このため横延伸前後のフイルムが引っ張られ応力が発生する。しかし幅方向両端はチャックで固定されており応力により変形を受けにくく、幅方向の中央部は変形を受け易い。この結果、ネックインによる応力は弓（ｂｏｗ）状に変形しボーイングが発生する。これにより面内のＲｅ，Ｒｔｈむらや配向軸の分布が発生する。

これを抑制するために、予熱側（延伸前）の温度を高くし、熱処理（延伸後）の温度を低くすると、ネックインはより弾性率の低い高温側（予熱）で発生し、熱処理（延伸後）では発生しにくくなる。この結果、延伸後のボーイングを抑制できる。

このような延伸により、さらに、Ｒｅ、Ｒｔｈの幅方向、長手方向のばらつきを、いずれも５％以下、より好ましくは４％以下、さらに好ましくは３％以下にできる。さらに配向角を９０°±５°以下又は０°±５°以下とすることができ、より好ましくは９０°±３°以下又は０°±３°以下、さらに好ましくは９０°±１°以下又は０°±１°以下とすることができる。

本発明では、このような効果が高速延伸でも達成できることが特徴であり、好ましくは２０ｍ／分以上、より好ましくは２５ｍ／分以上、さらに好ましくは３０ｍ／分以上でも顕著に効果が現れる。

２−４．緩和処理
さらに、これらの延伸の後に緩和処理を行うことで寸法安定性を改良することができる。熱緩和は縦延伸後、横延伸後のいずれか、あるいは両方で行うことが好ましく、より好ましく横延伸後である。緩和処理は延伸後に連続してオンラインで行ってもよく、延伸後巻き取った後、オフラインで行ってもよい。

熱緩和はＴｇ−３０℃以上Ｔｇ＋３０℃以下、より好ましくＴｇ−３０℃以上Ｔｇ＋２０℃以下、さらに好ましくはＴｇ−１５℃以上Ｔｇ＋１０℃以下で、１秒以上１０分以下、より好ましくは５秒以上４分以下、さらに好ましくは１０秒以上２分以下、０．１ｋｇ／ｍ以上２０ｋｇ／ｍ以下、より好ましく１ｋｇ／ｍ以上１６ｋｇ／ｍ以下、さらに好ましくは２ｋｇ／ｍ以上１２ｋｇ／ｍ以下の張力で搬送しながら実施するのが好ましい。

３．熱可塑性フイルムの物性
３−１．未延伸フイルムの物性
（セルロースアシレートフイルム）
このようにして得た未延伸セルロースアシレートフイルムはＲｅ＝０〜２０ｎｍ，Ｒｔｈ＝０〜８０ｎｍが好ましく、より好ましくはＲｅ＝０〜１０ｎｍ，Ｒｔｈ＝０〜６０ｎｍ、さらに好ましくはＲｅ＝０〜１０ｎｍ，Ｒｔｈ＝０〜３０ｎｍである。Ｒｅ、Ｒｔｈは各々面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）で光をフイルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈはセルロースアシレートフイルムを２５℃・相対湿度６０％にて２４時間調湿後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測機器（株）製）を用いて、２５℃・相対湿度６０％において、フイルム表面に対し垂直方向及び遅相軸を回転軸としてフイルム面法線から＋５０°から−５０°まで１０°刻みで傾斜させた方向から波長５９０ｎｍにおける位相差値を測定する。その測定されたレタデーション値（Ｒｅ）と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲで算出する。

上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレタデーションの値がゼロとなる方向をもつフイルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレタデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲで算出する。

なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフイルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレタデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。

注記：上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレタデーション値をあらわす。

式（１）におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ ・・・・式（２）

測定されるフイルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフイルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。

Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲで算出する。

上記の測定において、平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フイルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フイルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲでｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。

また、製膜方向（長手方向）と、フイルムのＲｅの遅相軸とのなす角度θが０°、＋９０°もしくは−９０°に近いほど好ましい。

Ｒｅの湿度変化（（２５℃１０％ｒｈで測定したＲｅ）−（２５℃８０％ｒｈで測定したＲｅ））は０ｎｍ以上８ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは０ｎｍ以上５ｎｍ以下である。Ｒｔｈの湿度変化（（２５℃１０％ｒｈで測定したＲｔｈ）−（２５℃８０％ｒｈで測定したＲｔｈ））は０ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは０ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。

光弾性係数はＭＤ（長手方向）、ＴＤ（幅方向）とも１３×１０^-13（ｃｍ²／ｄｙｎ）以上２５×１０^-13（ｃｍ²／ｄｙｎ）以下が好ましく、より好ましくは１４×１０^-13（ｃｍ²／ｄｙｎ）以上２０×１０^-13（ｃｍ²／ｄｙｎ）以下である。

全光透過率は９０％〜１００％が好ましい。ヘイズは０〜１％であり、好ましくは０〜０．６％である。

厚みむらは長手方向、幅方向いずれも０％以上３％以下が好ましく、さらに好ましくは０％以上２％以下である。

引張り弾性率は１．５ｋＮ／ｍｍ²〜３．５ｋＮ／ｍｍ²が好ましく、より好ましくは１．８ｋＮ／ｍｍ²〜２．６ｋＮ／ｍｍ²である。破断伸度は３％以上３００％以下が好ましい。

Ｔｇは、９５℃以上１４５℃以下が好ましい。８０℃１日での熱寸法変化は縦、横両方向とも０％〜±１％が好ましく、さらに好ましくは０％〜±０．３％である。

４０℃９０％ｒｈでの透水率は３００ｇ／ｍ²・日〜１５００ｇ／ｍ²・日が好ましく、さらに好ましくは５００ｇ／ｍ²・日〜１３００ｇ／ｍ²・日である。２５℃８０％ｒｈでの平衡含水率は１ｗｔ％〜４ｗｔ％が好ましく、さらに好ましくは１．５ｗｔ％〜２．５ｗｔ％である。

熱膨張係数はＭＤ、ＴＤとも５０ｐｐｍ／℃以上１８０ｐｐｍ／℃以下が好ましく、より好ましくは１００ｐｐｍ／℃以上１６０ｐｐｍ／℃以下である。湿度熱膨張係数はＭＤ、ＴＤとも４０ｐｐｍ／℃以上９０ｐｐｍ／℃以下が好ましく、より好ましくは５０ｐｐｍ／℃以上８０ｐｐｍ／℃以下である。

（シクロオレフィンフイルム）
本発明の未延伸シクロオレフィンフイルムはＲｅ＝０〜２０ｎｍ，Ｒｔｈ＝０〜８０ｎｍが好ましく、より好ましくはＲｅ＝０〜１０ｎｍ，Ｒｔｈ＝０〜６０ｎｍ、さらに好ましくはＲｅ＝０〜１０ｎｍ，Ｒｔｈ＝０〜３０ｎｍである。

また、製膜方向（長手方向）と、フイルムのＲｅの遅相軸とのなす角度θが０°、＋９０°もしくは−９０°に近いほど好ましい。

Ｒｅの湿度変化（（２５℃１０％ｒｈで測定したＲｅ）−（２５℃８０％ｒｈで測定したＲｅ））は０ｎｍ以上３ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは０ｎｍ以上１ｎｍ以下である。Ｒｔｈの湿度変化（（２５℃１０％ｒｈで測定したＲｔｈ）−（２５℃８０％ｒｈで測定したＲｔｈ））は０ｎｍ以上１０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは０ｎｍ以上５ｎｍ以下である。

光弾性係数は、ＭＤ、ＴＤとも０．５×１０^-13（ｃｍ²／ｄｙｎ）以上１０×１０^-13（ｃｍ²／ｄｙｎ）以下が好ましく、より好ましくは１×１０^-13（ｃｍ²／ｄｙｎ）以上５×１０^-13（ｃｍ²／ｄｙｎ）以下である。

全光透過率は、９０％〜１００％が好ましい。ヘイズは０〜１％であり、好ましくは０〜０．６％である。

厚みむらは長手方向、幅方向いずれも０％以上３％以下が好ましく、さらに好ましくは０％以上２％以下である。

引張り弾性率は１．５ｋＮ／ｍｍ²〜３．５ｋＮ／ｍｍ²が好ましく、より好ましくは１．８ｋＮ／ｍｍ²〜３．０ｋＮ／ｍｍ²である。破断伸度は１％以上３００％以下が好ましい。

Ｔｇは、９５℃以上１４５℃以下が好ましい。８０℃１日での熱寸法変化は縦、横両方向とも０％〜±１％が好ましく、さらに好ましくは０％〜±０．３％である。

４０℃９０％ｒｈでの透水率は１ｇ／ｍ²・日〜８００ｇ／ｍ²・日が好ましく、さらに好ましくは１ｇ／ｍ²・日〜５００ｇ／ｍ²・日である。２５℃８０％ｒｈでの平衡含水率は０．０１ｗｔ％〜５ｗｔ％が好ましく、さらに好ましくは０．０１ｗｔ％〜２．５ｗｔ％である。

熱膨張係数は、ＭＤ、ＴＤとも５０ｐｐｍ／℃以上１８０ｐｐｍ／℃以下が好ましく、より好ましくは１００ｐｐｍ／℃以上１６０ｐｐｍ／℃以下である。湿度熱膨張係数はＭＤ、ＴＤとも０．０１ｐｐｍ／℃以上１０ｐｐｍ／℃以下が好ましく、より好ましくは０．０１ｐｐｍ／℃以上５ｐｐｍ／℃以下である。

３−２．延伸フイルムの物性
このようにして縦延伸、横延伸、縦横延伸した熱可塑性フイルムのＲｅ、Ｒｔｈは下式（Ｒ−１）及び（Ｒ−２）を満足することが好ましい。
式（Ｒ−１）：０ｎｍ≦Ｒｅ≦２００ｎｍ
式（Ｒ−２）：０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦６００ｎｍ
（式中、Ｒｅは、熱可塑性フイルムの面内のレターデーションを示し、Ｒｔｈは、熱可塑性フイルムの厚み方向レターデーションを示す。）

より好ましくは
２０ｎｍ≦Ｒｅ≦１８０ｎｍ
１０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦４００ｎｍ
であり、さらに好ましくは
３０ｎｍ≦Ｒｅ≦１５０ｎｍ
２０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦３００ｎｍ
である。

また、製膜方向（長手方向）と、フイルムのＲｅの遅相軸とのなす角度θが０°、＋９０°もしくは−９０°に近いほど好ましい。すなわち、縦延伸の場合は０°に近いほど好ましく、０±３°が好ましく、より好ましくは０±２°、さらに好ましくは０±１°である。横延伸の場合は、９０±３°あるいは−９０±３°が好ましく、より好ましくは９０±２°あるいは−９０±２°、さらに好ましくは９０±１°あるいは−９０±１°である。

Ｒｅ，Ｒｔｈのばらつきは０％から８％が好ましく、より好ましく０％から５％、さらに好ましくは０％〜３％である。

また、Ｒｅ，Ｒｔｈの経時保存下の変動（８０℃で５００時間経時前後のＲｅ，Ｒｔｈの変化：詳細後述）は０％以上８％以下が好ましく、より好ましくは０％以上６％以下、さらに好ましくは０％以上４％以下である。

延伸後の熱可塑性フイルムの厚みはいずれも１５μｍ〜２００μｍが好ましく、より好ましくは２０μｍ〜１２０μｍ、さらに好ましくは３０μｍ〜８０μｍである。厚みむらは長手方向、幅方向いずれも０％〜３％が好ましく、より好ましくは０％〜２％、さらに好ましくは０％〜１％である。薄手フイルムを用いることでより延伸後にフイルム内に残留歪が残りにくく、経時でのレターデーション変化が発生しにくい。これは、延伸後に冷却する際、厚みが厚いと表面に比べ内部の冷却が遅れ、熱収縮量の差に起因する残留歪が発生し易いためである。

熱寸法変化率は０％以上０．５％以下が好ましく、より好ましく０％以上０．３％以下、さらに好ましくは０％以上０．２％以下である。なお、熱寸法変化率とは８０℃で５時間熱処理した際の寸法変化をさす。

４．熱可塑性フイルムの加工
このようにして得た本発明の熱可塑性フイルム単独で使用してもよく、これらと偏光板と組み合わせて使用してもよく、これらの上に液晶層や屈折率を制御した層（低反射層）やハードコート層を設けて使用してもよい。これらは以下の工程により達成できる。

４−１．表面処理
４−１−１．セルロースアシレートフイルム
セルロースアシレートフイルムは、場合により表面処理を行なうことによって、セルロースアシレートフイルムと各機能層（例えば、下塗層及びバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、さらにまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物等があげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００Ｋｅｖ下で２０〜５００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００Ｋｅｖ下で２０〜３００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフイルムの表面処理としては極めて有効である。

アルカリ鹸化処理は、鹸化液に浸漬してもよく、鹸化液を塗布してもよい。浸漬法の場合は、ＮａＯＨやＫＯＨ等のｐＨ１０〜１４の水溶液を２０℃〜８０℃に加温した槽を０．１分から１０分通過させたあと、中和、水洗、乾燥することで達成できる。塗布方法の場合、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を用いることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するために濡れ性がよく、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。

鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒以上５分以下が好ましく、５秒以上５分以下がさらに好ましく、２０秒以上３分以下が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。また、塗布式鹸化処理と後述の配向膜解塗設を、連続して行なうことができ、工程数を減少できる。これらの鹸化方法は、具体的には、例えば、特開２００２−８２２２６号公報、国際公開第０２／４６８０９号パンフレットに内容の記載が挙げられる。

機能層との接着のため下塗り層を設けることも好ましい。この層は上記表面処理をした後、塗設してもよく、表面処理なしで塗設してもよい。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の３２頁に記載されている。

これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。

４−１−２．セルロースアシレート以外の本発明の熱可塑性フイルム
シクロオレフィン系樹脂、ラクトン環含有重合体樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の本発明の熱可塑性フイルムは、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒ（０．１３〜２７００Ｐａ）の低圧ガス下でおこる低温プラズマ処理を含む。また、大気圧下でのプラズマ処理も好ましいグロー放電処理である。

プラズマ励起性気体とは前記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物等が挙げられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００ｋｅＶ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋｅＶ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。

これらの中でも特に好ましくは、グロー放電処理、コロナ処理、火炎処理である。

機能層との接着のため下塗り層を設けることも好ましい。この層は前記表面処理をした後、塗設してもよく、表面処理なしで塗設してもよい。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の３２頁に記載されている。

これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。

４−２．機能層の付与
本発明の熱可塑性フイルムに、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の３２頁〜４５頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも好ましいのが、偏光層の付与（偏光板）、光学補償層の付与（光学補償シート）、反射防止層の付与（反射防止フイルム）である。

４−２−１．偏光層の付与（偏光板の作製）
現在、市販の偏光層は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素を浸透させることで作製されるのが一般的である。偏光膜は、Ｏｐｔｉｖａ Ｉｎｃ．に代表される塗布型偏光膜も利用できる。偏光膜におけるヨウ素及び二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。例えば、発明協会公開技法、公技番号２００１−１７４５号、５８頁（発行日２００１年３月１５日）に記載の化合物が挙げられる。

詳細な偏光板の作製方法及び偏光板特性は、特開２００５−１２８５２０号公報の段落［０００８］〜［００２０］、特開２００５−２６６２２２号公報の段落［０００７］〜［００１３］、特開２００５−１３８３７５号公報の段落［００８３］〜［０１１３］、特開２００６−２０２６の段落［０１３８］〜［０１４５］、特開２００６−４５５００の段落［０１０５］〜［０１１１］に記載するものが好ましく用いることができる。

４−２−２． 光学補償層の付与（光学補償シートの作成）
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するためのものであり、熱可塑性フイルムの上に配向膜を形成し、さらに光学異方性層を付与することで形成される。

４−２−３．反射防止層の付与（反射防止フイルム）
反射防止膜は、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（すなわち、高屈折率層、中屈折率層）とを透明基体上に設けて成る。屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させた多層膜として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報参照、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報参照）して薄膜を形成する方法が挙げられる。

一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。

上述したような塗布による反射防止フイルムに最上層表面が微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層から成る反射防止フイルムも挙げられる。本発明の熱可塑性フイルムは上記いずれの方式にも適用できるが、特に好ましいのが塗布による方式（塗布型）である。

５．液晶表示装置
本発明の熱可塑性フイルム、並びに、本発明の熱可塑性フイルムを用いた本発明の偏光板、光学補償フイルム、反射防止フイルムは、様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。以下にこれらのフイルムが用いられる各液晶モードについて説明する。これらのモードのうち、本発明の熱可塑性フイルム、偏光板及び光学補償フイルムは特にＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳモードの液晶表示装置に好ましく用いられる。これらの液晶表示装置は、透過型、反射型及び半透過型のいずれでもよい。

５−１．ＴＮモード液晶表示装置
カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。本発明の熱可塑性フイルムは、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の位相差板の支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置とについては、古くからよく知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号及び特開平９−２６５７２号の各公報の他、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。

５−２．ＳＴＮ型液晶表示装置
本発明の熱可塑性フイルムは、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の位相差板の支持体として用いてもよい。一般に、ＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０°の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。

５−３．ＯＣＢモード液晶表示装置
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同第５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。

ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。

５−４．ＶＡモード液晶表示装置
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向しているのが特徴であり、ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ． Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。

本発明の熱可塑性フイルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償板や光学補償板の支持体として用いてもよい。又は偏光板の保護フイルムとして特に有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。

５−５．ＩＰＳモード液晶表示装置
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に面内に水平に配向しているのが特徴であり、これが電圧印加の有無で液晶の配向方向を変えることでスイッチングするのが特徴である。具体的には特開２００４−３６５９４１号公報、特開２００４−１２７３１号、特開２００４−２１５６２０号公報、特開２００２−２２１７２６号公報、特開２００２−５５３４１号公報、特開２００３−１９５３３３号公報に記載のもの等を使用できる。

本発明の熱可塑性フイルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償板や光学補償板の支持体として用いてもよい。又は偏光板の保護フイルムとして特に有利に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明の熱可塑性フイルムを用いた偏光板は視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。

５−６．反射型液晶表示装置
本発明の熱可塑性フイルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の位相差板としても有利に用いられる。これらの表示モードは古くからよく知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、国際公開第９８／４８３２０号パンフレット、特許第３０２２４７７号公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、国際公開第００／６５３８４号パンフレットに記載がある。

５−７．その他の液晶表示装置
本発明の熱可塑性フイルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置とについては、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．， ＳＩＤ ９８ Ｄｉｇｅｓｔ １０８９ （１９９８））に記載がある。

次に、本実施の形態で使用した測定法について記載する。

（１）ニップロールと接触のラップ角度α及び接触距離Ｌｄ
静止した一対のニップロール間に、樹脂フイルムがニップロールと接触開始点と離れる点をマーカーし、接触距離Ｌｄを求める。得られた接触距離と、ニップロールの直径Ｒを用いて、下式でニップロールとのラップ角度αを算出することができる。
ラップ角度α＝ニップロールとの接触距離Ｌｄ
×（３６０／πＲ） （単位：°）

（２）縦すじの評価
熱可塑性樹脂フイルムを全幅×流れ方向３０ｃｍに切り出して、縦すじの数は、該フイルムを白色スクリーンの前に１０ｍｍの間隔を空け平行に設置し、このフイルムの中央部から３２．５度の方向に１ｍ離して設置したスライド投影機（例えばキャビン工業（株）製Ｃｏｌｏｒ ＣａｂｉｎＩＩＩ）から投光し、スクリーンに投影された製膜方向（ＭＤ）に平行なすじ（光の明暗）の内、３ｍｍ幅以下のものの本数を全幅にわたって数え、幅１０ｃｍあたりの本数を求めた。評価基準は、以下のとおりとした。

◎： 縦すじが０本／１０ｃｍ以下であった。

○： 縦すじが２本／１０ｃｍ以下であった。

△： 縦すじが２本／１０ｃｍ以上５本／１０ｃｍ以下であった。

×： 縦すじが５本／１０ｃｍより多かった。

（３）表面粗さＲａ
フイルムの幅方向（ＴＤ）及び長手方向（ＭＤ）にサンプリングし、小坂研究所製の三次元表面粗さ計ＳＥＦ−３５００を用い、ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９８２に準拠して中心線平均粗さＲａを測定し、その１０箇所の測定値の平均値をＲａとして求めた。また、フイルムおもて面と反対側面の表面粗さは前記と同様に測定算出し、その両面粗さＲａの比を求めた。

測定条件は以下の通りである。
触針先端半径：２μｍ
触針荷重 ：０．０７ｇ
触針速度 ：２０μｍ／分
測定長 ：１００ｍｍ

（４）表面突起欠陥の評価
製膜した熱可塑性樹脂フイルムの製膜方向に５００ｍ毎に、全幅×流れ方向２ｍ長でサンプリングし、反射光源のもとでフイルム中の表面突起欠陥物を目視にて検出した後、非接触式三次元構造解析顕微鏡（Ｚｙｇｏ社製ＮｅｗＶｉｅｗ６０００型）を用いその突起物の高さを測定する。突起物の高さ０．５μｍ〜８μｍの欠陥物数をカウントし、各測定サンプルの１ｍ２に当りの平均値を求める。

（５）ガラス転移温度（Ｔｇ）
走査型示差熱量計（ＤＳＣ）の測定パンにサンプルを２０ｍｇ入れる。これを窒素気流中で、１０℃／分で３０℃から２５０℃まで昇温した後（１ｓｔ−ｒｕｎ）、３０℃まで−１０℃／分で冷却する。この後、再度３０℃から２５０℃まで昇温する（２ｎｄ−ｒｕｎ）。２ｎｄ−ｒｕｎでベースラインが低温側から偏奇し始める温度をガラス転移温度（Ｔｇ）とする。

（６）Ｒｅ、Ｒｔｈ、遅相軸の角度
サンプルフイルムを相対湿度２５℃・６０％に５時間以上調湿後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測器（株）製）を用いて、相対湿度２５℃・６０％において、Ｒｅは光をフイルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは、フイルム表面に対し垂直方向及び遅相軸を回転軸としてフイルム面法線から＋５０°から−５０°まで１０°刻みで傾斜させた方向から波長５９０ｎｍにおける位相差値を測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の値及び入力された膜厚値を基に算出する。

（７）Ｒｅ、Ｒｔｈばらつき、配向角
下記のように、長手方向に１００点、幅方向５０点サンプリングし、上記の方法でＲｅ、Ｒｔｈ、遅相軸の角度を測定する。Ｒｅ、Ｒｔｈばらつきは、ＭＤ方向１００点、ＴＤ方向５０点の各最大値と最小値の差を、各平均値で割り、百分率で示したものをＲｅ、Ｒｔｈばらつきとした。配向角については、各測定点の遅相軸の角度の最大値と最小値の差を示した。

（ａ） ＭＤ方向（長手方向）サンプリング：幅方向に下記５点を、長手方向に０．５ｍ間隔で２０点、合計１００点を、１ｃｍ角の大きさに切り出した。
幅方向中央部（１点）
幅方向中央から左右に、全幅×０．２だけ離れたところ（２点）
幅方向中央から左右に、全幅×０．４だけ離れたところ（２点）

（ｂ） ＴＤ方向（幅方向）サンプリング：製膜全幅にわたり等間隔（幅方向に５０等分した点）を１ｃｍ角の大きさに５０点切り出した。

（８）光弾性分布
（ａ） １ｃｍ幅×１０ｃｍ長のサンプル片を、サンプルの長手方向がそれぞれＭＤ方向になるように２種類切り出した。

（ｂ） これをエリプソ測定装置（日本分光製 Ｍ−１５０）にセットし、応力（荷重をフイルム断面積（厚さ×幅（１ｃｍ））が１００ｇ／ｍｍ２、２００ｇ／ｍｍ２、３００ｇ／ｍｍ２、４００ｇ／ｍｍ２、５００ｇ／ｍｍ２となるように長手方向（１０ｃｍ長）に順次荷重を加えていった。この時のレターデーション（Ｒｅ）を２５℃・相対湿度６０％において６３２．８ｎｍで測定した。

（ｃ） 横軸を応力（荷重をフイルム断面積で割った値（ｋｇｆ／ｃｍ²））、縦軸をＲｅ（ｎｍ）とし、これらのプロットの最小自乗法による直線の傾きを光弾性とする。

（ｄ） この測定を製膜した全幅について１０等分した点について測定する。ＭＤ、ＴＤ各々で下記式から分布を求め、その平均値を光弾性分布とした。
分布（％）＝１００×｛（光弾性の最大値）−（光弾性の最小値）｝／（光弾性１０点の平均値）

（９）厚みむら
上記（４）のサンプル（長手方向に１００点、幅方向５０点）の厚みを測定する。これら１５０点の中から最大厚み、最小厚み、平均厚みをもとめ、下記式で厚みむらを求める。
厚みむら（％）＝１００×（最大厚み−最小厚み）／平均厚み

（１０）熱寸法変化
（ａ） サンプルをＭＤ、ＴＤ方向に５ｃｍ×２５ｃｍに裁断し、２０ｃｍ間隔の孔をあける。

（ｂ） これを２５℃６０％ｒｈで２時間調湿後、この環境下でピンゲージを用い２つの孔の間を測長する（これをＬ１とする）。

（ｃ） サンプルを８０℃の空気恒温槽に５時間入れる。

（ｄ） これを取り出し２５℃６０％ｒｈ中に３時間調湿後、この環境下でピンゲージを用い２つの孔の間を測長する（これをＬ２とする）。

（ｅ） １００×｜Ｌ１−Ｌ２｜／Ｌ１を寸法変化率（％）とする。

（１１）セルロースアシレートの置換度
セルロースアシレートのアシル置換度は、Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．２７３（１９９５）８３−９１（手塚他）に記載の方法で¹³Ｃ−ＮＭＲにより求めた。

（１２）残留溶剤
サンプルフイルム３００ｍｇを溶剤３０ｍｌに溶解する。溶剤はそのサンプルフイルムを溶解するものであれば特に制限は無く、例えば、セルロースアシレート系フイルム、ポリカーボネイト系フイルムであれば酢酸メチル、ジクロロメタン、アセトン等が使用でき、シクロオレフィン系フイルムであれば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン等が使用できる。

このフイルム溶解液をガスクロマトグラフィ（ＧＣ）を用い、下記条件で測定する。
カラム：ＤＢ−ＷＡＸ（０．２５ｍｍφ×３０ｍ、膜厚０．２５μｍ）
カラム温度：５０℃
キャリアーガス：窒素
分析時間：１５分間
サンプル注入量：１μｍｌ

予め測定しておいた検量線から溶剤量をもとめ、サンプル量で割り残留溶剤量を求める。

以下に、本発明についての具体的な実施態様を記述するが、これらに限定されるものではない。

図１は、本発明に係る熱可塑性フイルムを溶融製膜で製造するフイルム製造装置の実施の形態例（以下、フイルム製造装置１０と記す）の概略構成図である。

このフイルム製造装置１０は、図１に示すように、液晶表示装置等に使用できる熱可塑性フイルムＦを製造する装置である。熱可塑性フイルムＦの原材料であるペレット状のセルロースアシレート樹脂又はシクロオレフィン樹脂を乾燥機１２に導入して乾燥させた後、このペレットを押出機１４によって押し出し、ギアポンプ１６によりフィルタ１８に供給する。次いで、フィルタ１８により異物がろ過され、ダイ２０から溶融樹脂９０（溶融した熱可塑性樹脂）が押し出される。溶融樹脂９０は、第１キャスティングロール２８とタッチロール２４で挟まれて押圧成形された後、第１キャスティングロール２８にて冷却固化されて所定の表面粗さのフイルム状とされ、さらに、第２キャスティングロール２６、第３キャスティングロール２７によって搬送されることで未延伸フイルムＦａが得られる。この未延伸フイルムＦａは、この段階で巻き取られてもよいし、連続的に長スパン延伸を行う縦延伸部３０に供給されてもよい。また、一度巻き取られた未延伸フイルムＦａを再度縦延伸部３０に供給しても、同様の効果が得られる。

縦延伸部３０では、未延伸フイルムＦａが第１予熱ロール３３及び第２予熱ロール３５によって所定の温度まで予熱された後、二組のニップロール（入口側の第１ニップロール３７及び出口側の第２ニップロール３９）間に供給されて縦延伸が行われる。この場合、第１ニップロール３７及び第２ニップロール３９は、未延伸フイルムＦａの搬送方向に近接して配置されると共に、上下方向に所定距離だけ高さが異なるように配置されている。

具体的には、先ず、縦延伸部３０での縦延伸の縦／横比（Ｌ／Ｗ）は、図２及び図３に示すように、第１ニップロール３７及び第２ニップロール３９間の距離Ｌと、第１ニップロール３７及び第２ニップロール３９の長さ方向の幅Ｗとによって規定される。

そして、この実施の形態では、第１ニップロール３７と第２ニップロール３９を用いて、０．０１を超え、０．３未満の縦横比で未延伸フイルムＦａを縦延伸する。

また、第１ニップロール３７と第２ニップロール３９の直径をＲとしたとき、図３に示すように、第１ニップロール３７と第２ニップロール３９間を搬送される熱可塑性フイルム（縦延伸中のフイルムＦａ’）は、いずれかのニップロールと接触する際のラップ角度αが１°以上、６０°以下である。

これにより、延伸後の熱可塑性フイルム（縦延伸フイルムＦｂ）の表面の品質を向上させることができ、例えば液晶表示素子の位相差膜等に使用した場合に、縦すじがなく、液晶の表示むらも低減することができる。

好ましい態様としては以下の通りである。先ず、第１ニップロール３７の配置高さと第２ニップロール３９の配置高さの差Ｈは、０．１Ｒ以上、１０Ｒ以下にして行うことが好ましい。

縦延伸中のフイルムＦａ’の水平方向とのなす角度θは０．１°以上、６０°以下であることが好ましい。

第１ニップロール３７と第２ニップロール３９のうち、いずれかのニップロールとフイルムＦａ’との接触距離Ｌｄは０．１Ｒ以上、１Ｒ以下であることが好ましい。この場合、フイルムＦａ’と第１ニップロール３７及び第２ニップロール３９との接触面積が増え、延伸圧力が均一にかけられることから、縦延伸フイルムＦｂの平面性が改良されると共に、熱可塑性フイルムＦの縦すじ、突起物の欠陥を大幅に低減することができる。

第１ニップロール３７と第２ニップロール３９のうち、出力側の第２ニップロール３９の回転数に０．０１％〜０．１％の変動を与えることが好ましい。つまり、第２ニップロール３９を構成する２つのロール３９ａ及び３９ｂの回転数の間に０．０１％〜０．１％の変動を与える。

また、図４に示すように、縦延伸した後の熱可塑性フイルム（縦延伸フイルムＦｂ）の下記式で特定されるネックイン量Ｎｉｎが０．１％以上、５％以下であることが好ましい。
ネックイン量Ｎｉｎ＝｛（Ｗ０−Ｗ１）／Ｗ０｝×１００（％）

ここで、式中、Ｗ０は未延伸フイルムＦａの幅、Ｗ１は縦延伸フイルムＦｂの幅を示す。

第１ニップロール３７及び第２ニップロール３９の幅方向の温度分布（Ｔｓ−Ｔｃ）が０．１℃以上、５℃以下であることが好ましい。なお、Ｔｓは、第１ニップロール３７における未延伸フイルムＦａの全幅の２０％以内の両端に対応する平均温度並びに第２ニップロール３９における縦延伸フイルムＦｂの全幅の２０％以内の両端に対応する平均温度を示す。Ｔｃは、第１ニップロール３７における未延伸フイルムＦａの全幅の６０％以内の中央部に対応する平均温度並びに第２ニップロール３９における縦延伸フイルムＦｂの全幅の６０％以内の中央部に対応する平均温度を示す。

この温度分布を実現するためには、第１ニップロール３７及び第２ニップロール３９に温風を吹きかけてもよいし、ヒータが内蔵された第１ニップロール３７及び第２ニップロール３９の各両端部分を別のヒータで加熱するようにしてもよい。

また、第１ニップロール３７及び第２ニップロール３９の押し込む圧力（押圧力）が０．５ＭＰａ以上、１５ＭＰａ以下であることが好ましい。

この縦延伸部３０においては、未延伸フイルムＦａの搬送距離を確保できると共に、縦延伸部３０の前後に配置される機構間の距離を短縮して、フイルム製造装置１０の小型化を図ることができる。

ここで、本実施の形態に係る熱可塑性フイルムＦの達成方法のポイントを以下に示す。

先ず、表面凹凸や突起は、製膜工程で固化する段階で生じる。すなわち、溶融製膜では溶融樹脂９０がダイ２０から第１キャスティングロール２８上に達する間に発生する。溶融樹脂９０の表層が内層に比べ冷却されやすく、収縮応力が発生し易い。この収縮応力のため表層が縮められ表面凹凸が発生し易い。従って、ダイ２０から第１キャスティングロール２８までの溶融樹脂９０の温度変化（冷却）勾配を緩くすることが好ましい。好ましい温度変化は１０℃／秒〜２００℃／秒、より好ましく２０℃／秒〜１２０℃／秒、さらに好ましくは３０℃／秒〜８０℃／秒である。このような冷却温度の調整は、ダイ２０−第１キャスティングロール２８間をケーシングで囲い保温することでも達成でき、ヒータでダイ２０−第１キャスティングロール２８間を加熱してもよい。さらに好ましくはダイ２０−第１キャスティングロール２８間の風速を０．１ｍ／秒以下、より好ましく０．０５ｍ／秒以下にするのが好ましい。

一方、溶液製膜であればドープ（樹脂を溶剤に高濃度で溶解した水飴状のもの）をダイからドラムやバンド上に流延後乾燥するまでの工程で発生する。すなわち、急速に乾燥させると、表層が先に乾燥し、収縮応力が発生し凹凸が発生し易い。このため流延から残留溶剤が２００質量％（対樹脂）になるまでの間を１質量％／秒〜３０質量％／秒、より好ましく２質量％／秒〜２２質量％／秒、さらに好ましくは３質量％〜１５質量％である。このような乾燥速度は、ドラムやバンド上をケーシングで囲ったり、ドラムやバンドの温度を調整することで達成できる。

さらに本実施の形態では、タッチロール２４は、通常の剛性の高いものではなく、弾性を有するものが好ましい。これにより過剰な面圧により未延伸フイルムＦａへの表面凹凸を抑制できる。このためには、タッチロール２４の外筒厚みを通常のロールよりも薄くすることが必要であり、外筒の肉厚Ｚは、０．０５ｍｍ〜７．０ｍｍが好ましく、より好ましくは０．２ｍｍ〜５．０ｍｍである。さらに好ましくは０．３ｍｍ〜３．５ｍｍである。タッチロール２４は、金属シャフトの上に設置し、その間に熱媒（流体）を通してもよく、外筒と金属シャフトの上に間に弾性体層を設け、外筒の間に熱媒（流体）を満たしたものが挙げられる。

このように、タッチロール２４は、低弾性であるため、第１キャスティングロール２８に接触させると、その押圧で凹状に弾性変形する。従って、タッチロール２４と第１キャスティングロール２８とが面接触するため、押圧力が分散され、低い面圧を達成できる。好ましいタッチロール２４の面圧は、０．１ＭＰａ〜１０ＭＰａ、より好ましくは０．２ＭＰａ〜７ＭＰａ、さらに好ましくは０．３ＭＰａ〜５ＭＰａである。ここでいう面圧とは、タッチロール２４を押し付けている力をフイルムとタッチロール２４の接触面積で割った値である。

タッチロール２４の温度は６０℃〜１６０℃、より好ましくは７０℃〜１５０℃、さらに好ましくは８０℃〜１４０℃に設定するのが好ましい。このような温度制御は、これらのロール内部に温調した液体、気体を通すことで達成できる。このように内部に温調機構を有するものがより好ましい。

タッチロール２４の材質は金属であることが好ましく、より好ましくはステンレスであり、表面にメッキを行うことも好ましい。一方、ゴムロールやゴムでライニングした金属ロールではゴム表面の凹凸が大きすぎ、上記の表面凹凸を持つ熱可塑性フイルムを製膜できず好ましくない。

タッチロール２４、第１キャスティングロール２８は、表面が鏡面であることが好ましく、算術平均高さＲａが１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下、さらに好ましくは２５ｎｍ以下である。具体的には、例えば、特開平１１−３１４２６３号公報、特開２００２−３６３３２号公報、特開平１１−２３５７４７号公報、国際公開第９７／２８９５０号パンフレット、特開２００４−２１６７１７号公報、特開２００３−１４５６０９号公報記載のものを利用できる。

そして、上述の縦延伸部３０にて、本発明の縦延伸方法を用いることによって、製膜工程中に生じる表面凹凸や突起物の等、欠陥を大幅に低減した縦延伸フイルムＦｂは、予熱部３６を通過することで所定の予熱温度に調整された後、横延伸部４２に供給される。

横延伸部４２では、図１に示すように、縦延伸フイルムＦｂが搬送方向と直交する幅方向に延伸され、横延伸フイルムＦｃとされる。そして、横延伸フイルムＦｃは、熱固定部４４に供給され、巻取部４６によって巻き取られることで、配向角、レターデーションが調整された最終製品である熱可塑性フイルムＦが製造される。なお、横延伸フイルムＦｃには熱固定部４４を通過した後、さらに熱緩和処理を施してもよい。このように、予熱部３６は、縦延伸フイルムＦｂに対して予熱処理を行う予熱ゾーンとして機能し、横延伸部４２は、予熱処理を終えた縦延伸フイルムＦｂを横延伸する横延伸ゾーンとして機能し、熱固定部４４は、横延伸フイルムＦｃに対して熱固定処理を行う熱固定ゾーンとして機能する。

図５は、上述のようにして製造された熱可塑性フイルムＦが適用される液晶表示装置５０の概略構成図である。

液晶表示装置５０は、偏光板５２、液晶セル５４、偏光板５６が順に積層されて構成されており、偏光板５６には、拡散板５８を介して導光板６０が装着される。導光板６０には、バックライト６２からの照明光が導入される。

偏光板５２は、偏光子６６を反射防止フイルム６４及び光学補償フイルム６８で挟み込んで構成される。液晶セル５４は、ガラス基板７０に対して、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素が形成されたカラーフィルタ７２が装着され、次いで、液晶層７４、ＴＦＴ層７６及びガラス基板７８が順に配置される。偏光板５６は、偏光子８２を光学補償フイルム８０及び保護フイルム８４で挟み込んで構成される。

この場合、図１に示すフイルム製造装置１０によって製造された熱可塑性フイルムＦは、液晶表示装置５０を構成する反射防止フイルム６４、光学補償フイルム６８、８０、保護フイルム８４として使用することができる。

以下に、実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

１．セルロースアシレートの合成
１−１．セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）
セルロース（広葉樹パルプ）１０質量部に酢酸０．１質量部、プロピオン酸２．７質量部を噴霧した後、１時間室温で保存した。別途、無水酢酸１．２質量部、プロピオン酸無水物６１質量部、硫酸０．７質量部の混合物を調整し、−１０℃に冷却後に、前処理を行ったセルロースと反応容器内で混合した。

３０分経過後、外設温度を３０℃まで上昇させ、４時間反応させた。反応容器に２５％含水酢酸４６質量部を添加し、内温を６０℃に上昇させて、２時間攪拌した。酢酸マグネシウム４水和物と酢酸と水とを等重量ずつ混合した溶液を６．２質量部添加し、３０分間攪拌した（中和工程）。反応液を金属焼結フィルタ（保留粒子径４０μｍ、１０μｍ２段で実施）にて加圧ろ過して異物を除去した。７５％含水酢酸に濾過後の反応液を混合してセルロース アセテートプロピオネートを沈殿させた後、７０℃の温水にて、洗浄液のｐＨが６−７になるまで洗浄を行った。さらに、０．００１％水酸化カルシウム水溶液中で０．５時間攪拌する処理を行った後に濾過した。得られたセルロースアセテートプロピオネートは、７０℃で乾燥させた。１Ｈ−ＮＭＲの測定から得られたセルロースアセテートプロピオネートはアセチル化度０．１５、プロピオニル化度２．６３、全アシル置換度２．７８、数平均分子量５５８００（数平均重合度ＤＰｎ＝１７７）、質量平均分子量１３９００（質量平均重合度ＤＰｗ＝４４０）、残存硫酸量６１ｐｐｍ（Ｓ硫黄量２１ｐｐｍ）、マグネシウム含有量２０ｐｐｍ、カルシウム含有量７ｐｐｍ、ナトリウム含有量１ｐｐｍ、カリウム含有量１ｐｐｍ、鉄含有量２ｐｐｍであった。本試料のジクロロメタン溶液からキャストしたフイルムを偏光顕微鏡で観察した結果、偏光子を直交させた場合も平行にした場合も、異物はほとんど認められなかった。

１−２．セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）
攪拌装置及び冷却装置を付けた反応容器に、セルロース（リンター）２００質量部、酢酸１００質量部を取り、６０℃で４時間処理することによりセルロースを活性化した。酢酸１６１質量部、無水酢酸４４９質量部、酪酸７４２質量部、酪酸無水物１３４９質量部、硫酸１４質量部を混合し、−２０℃に冷却してから反応容器に添加した。

反応の最高温度が３０℃になるようにエステル化を実施し、反応液の粘度が１０５０ｃＰとなった時点を反応の終点とした。終点での反応混合物の温度は１０℃になるように調節した。水２９７質量部、酢酸５５８質量部の混合物を−５℃に冷却した反応停止剤を、反応混合物の温度が２３℃を超えないように添加した。

反応混合物の温度を６０℃とし、２時間３０分攪拌して部分加水分解を行い、硫酸に対して２当量の酢酸マグネシウムを含有する酢酸・水混合溶液にて部分加水分解を停止した。加水分解後の反応溶液を、保留粒子径４０μｍのろ紙ならびに、保留粒子径１０μｍの金属焼結フィルタで順次ろ過した。酢酸水溶液と混合することにより得られた高分子化合物の再沈殿を実施し、７０〜８０℃の温水での洗浄を繰り返した。脱液の後、０．００２質量％の水酸化カルシウム水溶液に浸漬し、３０分攪拌を行った後に再度脱液を行った。７０℃で乾燥を行い、セルロースアセテートブチレートを得た。

得られたセルロースアセテートブチレートは、アセチル置換度１．５１、ブチリル置換度１．１９、全アシル置換度２．７０、数平均分子量５５６００（数平均重合度ＤＰｎ＝１８１）、質量平均分子量１３９０００（質量平均重合度ＤＰｗ＝４５１）、残存硫酸量１２２ｐｐｍ、マグネシウム含有量３ｐｐｍ、カルシウム含有量５３ｐｐｍ、ナトリウム含有量１ｐｐｍ、カリウム含有量は２ｐｐｍ、鉄含有量２ｐｐｍであった。本試料のジクロロメタン溶液からキャストしたフイルムを偏光顕微鏡で観察した結果、不溶解物はほとんど認められなかった。

１−３．その他のセルロースアシレート
アシル化剤の種類、量を変えることで置換度を変え、熟成時間を変えることで重合度を変え、下記表１に記載のＣＡＰ，ＣＡＢ以外のセルロースアシレートを合成した。

また、置換もしくは無置換の芳香族アシル基を結合したセルロースアシレートとして、特開２００２−３２２０１の実施例１に準じて安息香酸と酢酸でエステル化したセルロースアシレートを合成した。但し原料のセルロースアシレートを２．０置換、２．４５置換のセルロースアセテートを用いた。この結果、酢酸置換度＝２．０、安息香酸置換度＝１．０、及び酢酸置換度＝２．４５、安息香酸置換度＝０．５５の芳香族アシル基置換セルロースアシレートを得た。

２．製膜
２−１．溶融製膜
２−１−１．ペレット化
前記セルロースアシレート１００質量部、安定剤（住友化学（株）製スミライザーＧＰ）０．１質量部、安定剤アデカスタブＡＯ−６０（旭電化工業株式会社製）０．３質量部、紫外線吸収剤アデカスタブＬＡ−３１（旭電化工業株式会社製）１．１質量部を混合した。

これらを１００℃で３時間乾燥し含水率を０．１質量％以下にした後、２軸混練機を用い２１０℃で溶融した後、８０℃の温水中に押し出しストランドとした後裁断し、直径３ｍｍ長さ５ｍｍの円柱状のペレットに成形した。

２−１−２．製膜
前記方法で調製したセルロースアシレートペレットを、露点温度−４０℃の脱湿風を用いて１００℃で５時間乾燥し含水率を０．０１質量％以下にした。これを８０℃のホッパーに投入し、１８０℃（入口温度）から２３０℃（出口温度）に調整した押出機１４で溶融した。なお、これに用いたスクリューの直径は６０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５０、圧縮比４であった。押出機１４から押出された溶融樹脂９０はギアポンプ１６で一定量計量され送り出されるが、この時ギアポンプ前の樹脂圧力が１０ＭＰａの一定圧力で制御出来るように、押出機の回転数を変更させた。

ギアポンプ１６から送り出されたメルト樹脂９０は濾過精度５μｍのフィルタ１８（リーフディスクフィルタ）にて濾過し、スタティックミキサを経由してスリット間隔０．８ｍｍ、２３０℃のハンガーコートダイ２０から、第１キャスティングロール２８とタッチロール２４との間に導入される。溶融樹脂９０は、表１記載の条件で、第１キャスティングロール２８とタッチロール２４とによって押し付けられて押出し成形された。これをガラス転移温度（Ｔｇ）−５℃、Ｔｇ、Ｔｇ−１０℃の設定した３連のキャスティングロール上に押し出し、タッチロール製膜法又は静電印加法（表１に記載）を用いて、未延伸フイルムを製膜した。なお、タッチロール２４は特開平１１−２３５７４７の実施例１に記載のもの（二重抑えロールと記載のあるもの）を用い、Ｔｇ−５℃に調温した。薄肉金属外筒厚みは２ｍｍ、表１に記載の押さえ圧で行った。３連のキャスティングロール上の溶融樹脂９０の冷却速度は８０℃／秒である冷却した。また、表１に記載の静電印加法は、吐出されたメルト樹脂の両端に、タッチロールを用いる代わりに７ｋＶで静電印加を行った。

固化したメルトをキャスティングドラムから剥ぎ取り、巻取り直前に両端（全幅の各５％）をトリミングした後、両端に幅１０ｍｍ、高さ５０μｍの厚みだし加工（ナーリング）をつけた。各水準とも、ラミネットフイルムと貼り合せ、３０ｍ／分で幅１．５ｍ、長さ３０００ｍの未延伸フイルムＦａを巻き取った。

（２−１−３）延伸
（ａ）縦延伸
前記溶融製膜で得たセルロースアシレートは、各フイルムの（Ｔｇ＋５）℃において、０．０１を超え、０．３未満の縦横比で縦延伸した。ここで、実施例と、比較例における縦延伸の条件は、表１の通りである。なお、本発明Ｎｏ．１〜本発明Ｎｏ．２２の熱可塑性セルロースアシレートフイルムの比抵抗が５×１０⁸〜５×１０¹³オーム・ｃｍであり、Ｔｇ−１０℃の温度における熱可塑性樹脂フイルムの弾性率が２００ＭＰａ〜１０００ＭＰａである。

すなわち、縦延伸の条件の内訳は、第１ニップロール３７又は第２ニップロール３９と熱可塑性フイルムＦａ’とのラップ角度α、第１ニップロール３７又は第２ニップロール３９と熱可塑性フイルムＦａ’との接触距離Ｌｄ、第１ニップロール３７と第２ニップロール３９間を搬送される熱可塑性フイルムＦａ’の水平方向とのなす角度θ、第１ニップロール３７の配置高さと第２ニップロール３９の配置高さの差Ｈ（Ｒ：第１ニップロール３７と第２ニップロール３９の直径）、第１ニップロール３７及び第２ニップロール３９の押し込む圧力（押圧力）である。また、実施例と、比較例の縦延伸によるネックイン量（Ｎｉｎ）も表１に示す。実施例Ｎｏ．１〜Ｎｏ．２２のネックイン量は、いずれも０．１％以上、５％以下であったが、比較例Ｎｏ．１〜Ｎｏ．２では、これらの範囲から逸脱していた。

（ｂ）横延伸
表１に示す縦及び横の延伸倍率で、Ｔｇ＋１０℃にて３００％／分で下記倍率に延伸した。なお、予熱はＴｇ＋２０℃、熱処理はＴｇ−１℃にて、行った。得られた各延伸フイルムの特性を表１に示した。ここでいう延伸倍率は、下記式で定義される。
延伸倍率（％）＝１００×｛（延伸後の長さ）−（延伸前の長さ）｝／（延伸前の長さ）

（ｃ）緩和処理
緩和はＴｇ−５℃、張力５ｋｇｆ/ｍで、横延伸倍率に対して、２％程度緩和を行った。

（ｄ）延伸フイルムの物性評価
表１中のＲｅ、Ｒｔｈ、Ｒｅバラツキ、Ｒｔｈバラツキ、縦すじ、表面粗さＲａ、欠陥数は前述の評価方法を用いて測定し、表１に記載した。本発明の縦延伸方法を用いた実施例Ｎｏ．１〜Ｎｏ．２２では、比較例Ｎｏ．１と比較例Ｎｏ．２と比べ、延伸フイルム物性は良好であり、本発明の範囲に満足するものであった。

３．偏光板の作製
３−１．表面処理
前記横延伸したセルロースアシレートフイルムを、下記の浸漬法で鹸化を行った。なお下記塗布鹸化も実施したが浸漬鹸化と同様の結果を得た。

（浸漬鹸化）
鹸化液として６０℃に調温したＮａＯＨの２．０モル／Ｌ水溶液を用意し、その中にセルロースアシレートフイルムを２分間浸漬した。その後、０．０５モル／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬して水洗浴を通した。

（塗布鹸化）
イソプロパノール８０質量部に水２０質量部を加え、これにＫＯＨを１．５モル／Ｌとなるように溶解して６０℃に調温したものを鹸化液として用いた。この鹸化液を６０℃のセルロースアシレートフイルム上に１０ｇ／ｍ²塗布し、１分間鹸化した。その後、スプレーを用いて５０℃の温水を１０Ｌ／ｍ²・分で１分間吹きかけて洗浄した。

３−２．偏光層の作製
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、厚み２０μｍの偏光層を調製した。

３−３．貼り合わせ
このようにして得た偏光層を、前記方法で鹸化処理したセルロースアシレートフイルムを用い、下記構成となるようにＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤とし貼り合せ偏光板を作製した。なお、下記に記載したフジタック（富士フイルム製ＴＤ８０）も前記の方法で鹸化処理を行った。
偏光板Ａ：延伸セルロースアシレート／偏光層／フジタック
偏光板Ｂ：延伸セルロースアシレート／偏光層／未延伸セルロースアシレート（偏光板Ｂでは両面同じ組成のセルロースアシレートを用いた）

３−４．評価
〈表示視認性〉
このようにして得た偏光板の表示視認性の評価は、市販のＶＡ型液晶表示装置に取り込んで評価した。市販のＶＡ型液晶表示装置（４２インチ型、直下型バックライト）の液晶セルのバックライト側偏光板、視認側偏光板、位相差フイルムを剥がし、本発明及び比較例の各フイルムを用いた作製した偏光板Ａまたは偏光板Ｂは、それぞれ液晶セルの両面に貼合し、その際その偏光板の貼合の向きは上記作製したシクロオレフィン樹脂フイルムが貼合されている面が液晶セル側となるように、且つ、予め貼合されていた偏光板と同一方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置を作製した。なお、同じ評価対象は各５セットを作製し、液晶表示画面上に縦、横１０ｍｍ間隔の升目を表示し、目視で虹状の色むらや画像のゆがみの発生面積を計測し、表示部全面積に対する割合を表１に示した。本発明を実施したものは、比較例と比べ、表示むら発生率が少なく、良好な性能が得られた。

４．光学補償フイルムの作製
特開平１１−３１６３７８号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフイルムの代わりに、本発明におけるセルロースアシレートフイルムを使用した。これを前記と同様の方法で３０℃から１０℃に移した時のむら（光漏れ）を計測した（全体に占めるむらの発生領域を％で示した）。本発明を実施したものはむらの発生領域がいずれも０％〜９％以下であり、良好な性能が得られた。

特開平７−３３３４３３号公報の実施例１の液晶層を塗布したセルロースアセテートフイルムに代わって、本発明におけるセルロースアシレートフイルムに変更し光学補償フイルムを作製したものでも同様に良好な光学補償フイルムを作製できた。

５．低反射フイルムの作製
本発明の延伸セルロースアシレートフイルムを発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５）の実施例４７に従い本発明におけるセルロースアシレートフイルムを用いて低反射フイルムを作製したところ、良好な光学性能が得られた。

６．液晶表示素子の作製
前記本発明の偏光板を、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載の２０インチＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載の２０インチＯＣＢ型液晶表示装置、特開２００４−１２７３１号公報の図１１に記載のＩＰＳ型液晶表示装置に用いた。さらに、本発明の低反射フイルムをこれらの液晶表示装置の最表層に貼り評価を行ったところ、良好な液晶表示素子を得た。なかでも本発明のセルロースアシレートフイルムを使用したもののほうが良好であった。

１．飽和ノルボルネン樹脂、ラクトン環含有重合体樹脂、ポリカーボネート系樹脂
１−１．飽和ノルボルネン樹脂−Ａ
６−メチル−１，４，５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレンに、重合触媒としてトリエチルアルミニウムの１５％シクロヘキサン溶液１０部、トリエチルアミン５部、及び四塩化チタンの２０％シクロヘキサン溶液１０部を添加して、シクロヘキサン中で開環重合し、得られた開環重合体をニッケル触媒で水素添加してポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をイソプロピルアルコール中で凝固させ、乾燥し、粉末状の樹脂を得た。この樹脂の数平均分子量は４０，０００、水素添加率は９９．８％以上であり、Ｔｇは１３９℃であった。

１−２．飽和ノルボルネン樹脂−Ｂ
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２．５，１７．１０］−３−ドデセン（特定単量体Ｂ）１００質量部と、５−（４−ビフェニルカルボニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（特定単量体Ａ）１５０質量部と、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部と、トルエン７５０質量部とを窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を６０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒としてトリエチルアルミニウム（１．５モル／ｌ）のトルエン溶液０．６２質量部と、ｔ−ブタノール及びメタノールで変性した六塩化タングステン（ｔ−ブタノール：メタノール：タングステン＝０．３５モル：０．３モル：１モル）のトルエン溶液（濃度０．０５モル／ｌ）３．７質量部とを添加し、この系を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であり、得られた開環重合体について、３０℃のクロロホルム中で測定した固有粘度（ηｉｎｈ）は０．６５ｄｌ／ｇであった。

このようにして得られた開環重合体溶液４，０００質量部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ₆Ｈ₅）₃］₃０．４８部を添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ²、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱攪拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（特定の環状ポリオレフィン系樹脂）を得た。このようにして得られた水素添加重合体について４００ＭＨｚ、¹Ｈ−ＮＭＲを用いてオレフィン性不飽和結合の水素添加率を測定したところ９９．９％であった。ＧＰＣ法（溶媒：テトラヒドロフラン）によりポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）を測定したところ、数平均分子量（Ｍｎ）は３９，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）は１２６，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は３．２３であった。また、Ｔｇは１１０℃であった。

１−３．飽和ノルボルネン樹脂−Ｃ
特開２００５−３３０４６５号公報の実施例２に記載の飽和ノルボルネン化合物（Ｔｇ１２７℃）である。

１−４．飽和ノルボルネン樹脂−Ｄ
特表平８−５０７８００号公報の実施例１に記載の飽和ノルボルネン化合物（Ｔｇ１８１℃）である。

１−５．飽和ノルボルネン樹脂−Ｅ
三井化学（株）製ＡＰＬ６０１５Ｔ（Ｔｇ１４５℃）である。

１−６．飽和ノルボルネン樹脂−Ｆ
ポリプラスチックス（株）製ＴＯＰＡＳ６０１３（Ｔｇ１３０℃）である。

１−７． 飽和ノルボルネン樹脂−Ｇ
特許第３６９３８０３号公報の実施例１に記載の飽和ノルボルネン化合物（Ｔｇ１４０℃）である。

２．製膜
前記飽和ノルボルネン樹脂−Ａ〜Ｇの１００質量部に、安定剤アデカスタブ ＡＯ−６０（旭電化工業株式会社製）１．３質量部を添加し、直径３ｍｍ長さ５ｍｍの円柱状のペレットに成形した。これを１１０℃の真空乾燥機で乾燥し、含水率を０．１％以下とした後、Ｔｇ−１０℃になるように調整したホッパーに投入した。

混練押出機で２６０℃で溶融した後、ギアポンプから送り出されたメルトは濾過精度５μｍのリーフディスクフィルタにて濾過し、スタティックミキサを経由してスリット間隔０．８ｍｍ、２６０℃のハンガーコートダイから、キャスティングロール（ＣＤ）上にメルト（溶融樹脂）を押出した。これを、ガラス転移温度（Ｔｇ）−５℃、Ｔｇ、Ｔｇ−１０℃に設定した３連のキャスティングロール上に押し出し、最上流側のキャスティングロールに表１に記載の条件でタッチロールを接触させ、未延伸フイルムを製膜した。なお、タッチロールは特開平１１−２３５７４７の実施例１に記載のもの（二重抑えロールと記載のあるもの）を用い、Ｔｇ−５℃に調温した。但し、薄肉金属外筒厚みは２ｍｍ、押さえ圧は１ＭＰａで行った。

この後、巻取り直前に両端（全幅の各３％）をトリミングした後、両端に幅１０ｍｍ、高さ５０μｍの厚みだし加工（ナーリング）をつけた。各水準とも、ラミネットフイルムと貼り合せ、幅は１．５ｍで３０ｍ／分で３０００ｍ巻き取った。

このようにして製膜したフイルムの物性を前記の方法で測定し、表１に記載した。

３．延伸
３−１．縦延伸
前記溶融製膜で得たシクロオレフィンフイルムの一部は、各フイルムのＴｇ＋５℃において、表１記載の縦横比で延伸した。

３−２．横延伸
未延伸フイルムあるいは縦延伸フイルムを表１に示す延伸倍率で、Ｔｇ＋１０℃にて３００％／分で下記倍率に延伸した。なお、予熱はＴｇ＋２０℃、熱処理はＴｇ−１℃にて行った。

４．緩和処理
横延伸後に、Ｔｇ−５℃、張力５ｋｇｆ/ｍで、横延伸倍率に対して、２％程度緩和を行った。これらの物性を上記の方法で測定し、表１に記載した。

５．偏光板の作製
いずれの水準も、表面の水との接触角が６０°になるように、フイルム表面にコロナ処理を行った。これを実施例１と同様に偏光層を作製し貼り合せることで下記構成の偏光板を作製した。
偏光板Ｃ：飽和ノルボルネン／偏光層／フジタック

６．評価
このようにして得た偏光板を、実施例１と同様にしてＶＡ型液晶表示装置液晶表示装置に取り付け、表示視認性を計測し表１に示した。本発明を実施したものは良好な性能が得られた。

７．光学補償フイルムの作製
実施例１と同様にして光学補償フイルムを作製した。本発明を実施したものは良好な性能が得られた。

８．低反射フイルムの作製
実施例１と同様にして低反射フイルムを作製したところ、本発明を実施したものは良好な光学性能が得られた。

９．液晶表示素子の作製
実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。本発明を実施したものは、良好な液晶表示素子を得た。

ラクトン環含有重合体樹脂
ラクトン環含有重合体樹脂は、国際公開第２００６／０２５４４５号パンフレット記載の製造例２に従い、ペレットを作成した。得たラクトン環含有重合体樹脂ペレットの１００質量部に、安定剤アデカスタブ ＡＯ−６０（旭電化工業株式会社製）０．３質量部を添加し、２５０℃の溶融製膜温度で、本発明の実施例１と同様にして、未延伸のフイルム幅は１．５ｍで製膜した。得た未延伸フィルムを本発明の実施例１と同様にして、縦延伸、横延伸と緩和処理を行い、表１に記載の本発明Ｎｏ．２６のフィルムを得た。得た延伸ラクトン環含有重合体樹脂フィルム表面をコロナ処理し、実施例１と同様に偏光層を作製し貼り合せことで下記構成の偏光板Ｄを作製した。また、実施例１と同様に物性を評価したところ、良好な液晶表示性能を得た。
偏光板Ｄ：延伸ラクトン環含有重合体樹脂フィルム／偏光層／フジタック

ポリカーボネート系樹脂
帝人化成（株）製の光学グレードのポリカーボネートペレット（商品名ＡＤ−５５０３）樹脂の１００質量部に安定剤アデカスタブ ＡＯ−６０（旭電化工業株式会社製）０．３質量部を添加し、２９０℃の溶融製膜温度で、本発明の実施例１と同様にして、未延伸のフイルム幅は１．５ｍで製膜した。得た未延伸フィルムを本発明の実施例１と同様にして、縦延伸、横延伸と緩和処理を行い、表１に記載の本発明Ｎｏ．２７のフィルムを得た。得た延伸ポリカーボネート系樹脂フィルム表面をコロナ処理し、実施例１と同様に偏光層を作製し貼り合せことで下記構成の偏光板Eを作製した。また、実施例１と同様に物性を評価したところ、良好な液晶表示性能を得た。

偏光板Ｅ：延伸ポリカーボネート系樹脂フィルム／偏光層／フジタック
なお、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、本発明と下記公報やパンフレットに開示の技術を組合わせて使用することができる。

実開平３−１１０４１８号、特開平５−１１９２１６号、特開平５−１６２２６１号、特開平５−１８２５１８号、特開平５−１９１１５号、特開平５−１９６８１９号、特開平５−２６４８１１号、特開平５−２８１４１１号、特開平５−２８１４１７号、特開平５−２８１５３７号、特開平５−２８８９２１号、特開平５−２８８９２３号、特開平５−３１１１１９号、特開平５−３３９３９５号、特開平５−４０２０４号、特開平５−４５５１２号、特開平６−１０９９２２号、特開平６−１２３８０５号、特開平６−１６０６２６号、特開平６−２１４１０７号、特開平６−２１４１０８号、特開平６−２１４１０９号、特開平６−２２２２０９号、特開平６−２２２３５３号、特開平６−２３４１７５号、特開平６−２３５８１０号、特開平６−２５８５２０号、特開平６−２６４０３０号、特開平６−３０５２７０号、特開平６−３３１８２６号、特開平６−３４７６４１号、特開平６−７５１１０号、特開平６−７５１１１号、特開平６−８２７７９号、特開平６−９３１３３号、特開平７−１０４１２６号、特開平７−１３４２１２号、特開平７−１８１３２２号、特開平７−１８８３８３号、特開平７−２３００８６号、特開平７−２９０６５２号、特開平７−２９４９０３号、特開平７−２９４９０４号、特開平７−２９４９０５号、特開平７−３２５２１９号、特開平７−５６０１４号、特開平７−５６０１７号、特開平７−９２３２１号、特開平８−１２２５２５号、特開平８−１４６２２０号、特開平８−１７１０１６号、特開平８−１８８６６１号、特開平８−２１９９９号、特開平８−２４０７１２号、特開平８−２５５７５号、特開平８−２８６１７９号、特開平８−２９２３２２号、特開平８−２９７２１１号、特開平８−３０４６２４号、特開平８−３１３８８１号、特開平８−４３８１２号、特開平８−６２４１９号、特開平８−６２４２２号、特開平８−７６１１２号、特開平８−９４８３４号、特開平９−１３７１４３号、特開平９−１９７１２７号、特開平９−２５１１１０号、特開平９−２５８０２３号、特開平９−２６９４１３号、特開平９−２６９４１４号、特開平９−２８１４８３号、特開平９−２８８２１２号、特開平９−２８８２１３号、特開平９−２９２５２５号、特開平９−２９２５２６号、特開平９−２９４９５９号、特開平９−３１８８１７号、特開平９−８０２３３号、特開平１０−１０３２０号、特開平１０−１０４４２８号、特開平１０−１１１４０３号、特開平１０−１１１５０７号、特開平１０−１２３３０２号、特開平１０−１２３３２２号、特開平１０−１２３３２３号、特開平１０−１７６１１８号、特開平１０−１８６１３３号、特開平１０−２６４３２２号、特開平１０−２６８１３３号、特開平１０−２６８１３４号、特開平１０−３１９４０８号、特開平１０−３３２９３３号、特開平１０−３９１３７号、特開平１０−３９１４０号、特開平１０−６８８２１号、特開平１０−６８８２４号、特開平１０−９０５１７号、特開平１１−１１６９０３号、特開平１１−１８１１３１号、特開平１１−２１１９０１号、特開平１１−２１１９１４号、特開平１１−２４２１１９号、特開平１１−２４６６９３号、特開平１１−２４６６９４号、特開平１１−２５６１１７号、特開平１１−２５８４２５号、特開平１１−２６３８６１号、特開平１１−２８７９０２号、特開平１１−２９５５２５号、特開平１１−２９５５２７号、特開平１１−３０２４２３号、特開平１１−３０９８３０号、特開平１１−３２３５５２号、特開平１１−３３５６４１号、特開平１１−３４４７００号、特開平１１−３４９９４７号、特開平１１−９５０１１号、特開平１１−９５０３０号、特開平１１−９５２０８号、特開２０００−１０９７８０号、特開２０００−１１００７０号、特開２０００−１１９６５７号、特開２０００−１４１５５６号、特開２０００−１４７２０８号、特開２０００−１７０９９号、特開２０００−１７１６０３号、特開２０００−１７１６１８号、特開２０００−１８０６１５号、特開２０００−１８７１０２号、特開２０００−１８７１０６号、特開２０００−１９１８１９号、特開２０００−１９１８２１号、特開２０００−１９３８０４号、特開２０００−２０４１８９号、特開２０００−２０６３０６号、特開２０００−２１４３２３号、特開２０００−２１４３２９号、特開２０００−２３０１５９号、特開２０００−２３５１０７号、特開２０００−２４１６２６号、特開２０００−２５００３８号、特開２０００−２６７０９５号、特開２０００−２８４１２２号、特開２０００−３０４９２７号、特開２０００−３０４９２８号、特開２０００−３０４９２９号、特開２０００−３０９１９５号、特開２０００−３０９１９６号、特開２０００−３０９１９８号、特開２０００−３０９６４２号、特開２０００−３１０７０４号、特開２０００−３１０７０８号、特開２０００−３１０７０９号、特開２０００−３１０７１０号、特開２０００−３１０７１１号、特開２０００−３１０７１２号、特開２０００−３１０７１３号、特開２０００−３１０７１４号、特開２０００−３１０７１５号、特開２０００−３１０７１６号、特開２０００−３１０７１７号、特開２０００−３２１５６０号、特開２０００−３２１５６７号、特開２０００−３３８３０９号、特開２０００−３３８３２９号、特開２０００−３４４９０５号、特開２０００−３４７０１６号、特開２０００−３４７０１７号、特開２０００−３４７０２６号、特開２０００−３４７０２７号、特開２０００−３４７０２９号、特開２０００−３４７０３０号、特開２０００−３４７０３１号、特開２０００−３４７０３２号、特開２０００−３４７０３３号、特開２０００−３４７０３４号、特開２０００−３４７０３５号、特開２０００−３４７０３７号、特開２０００−３４７０３８号、特開２０００−８６９８９号、特開２０００−９８３９２号、特開２００１−１０００１２号、特開２００１−１０８８０５号、特開２００１−１０８８０６号、特開２００１−１３３６２７号、特開２００１−１３３６２８号、特開２００１−１４２０６２号、特開２００１−１４２０７２号、特開２００１−１７４６３０号、特開２００１−１７４６３４号、特開２００１−１７４６３７号、特開２００１−１７９９０２号、特開２００１−１８３５２６号、特開２００１−１８８１０３号、特開２００１−１８８１２４号、特開２００１−１８８１２５号、特開２００１−１８８２２５号、特開２００１−１８８２３１号、特開２００１−１９４５０５号、特開２００１−２２８３１１号、特開２００１−２２８３３３号、特開２００１−２４２４６１号、特開２００１−２４２５４６号、特開２００１−２４７８３４号、特開２００１−２６０６１号、特開２００１−２６４５１７号、特開２００１−２７２５３５号、特開２００１−２７８９２４号、特開２００１−２７９７号、特開２００１−２８７３０８号、特開２００１−３０５３４５号、特開２００１−３１１８２７号、特開２００１−３５０００５号、特開２００１−３５６２０７号、特開２００１−３５６２１３号、特開２００１−４２１２２号、特開２００１−４２３２３号、特開２００１−４２３２５号、特開２００１−４８１９号、特開２００１−４８２９号、特開２００１−４８３０号、特開２００１−４８３１号、特開２００１−４８３２号、特開２００１−４８３４号、特開２００１−４８３５号、特開２００１−４８３６号、特開２００１−４８３８号、特開２００１−４８３９号、特開２００１−５１１１８号、特開２００１−５１１１９号、特開２００１−５１１２０号、特開２００１−５１２７３号、特開２００１−５１２７４号、特開２００１−５５５７３号、特開２００１−６６４３１号、特開２００１−６６５９７号、特開２００１−７４９２０号、特開２００１−８１４６９号、特開２００１−８３３２９号、特開２００１−８３５１５号、特開２００２−１６２６２８号、特開２００２−１６９０２４号、特開２００２−１８９４２１号、特開２００２−２０１３６７号、特開２００２−２０４１０号、特開２００２−２５８０４６号、特開２００２−２７５３９１号、特開２００２−２９４１７４号、特開２００２−３１１２１４号、特開２００２−３１１２４６号、特開２００２−３２８２３３号、特開２００２−３３８７０３号、特開２００２−３６３２６６号、特開２００２−３６５１６４号、特開２００２−３７０３０３号、特開２００２−４０２０９号、特開２００２−４８９１７号、特開２００２−６１０９号、特開２００２−７１９５０号、特開２００３−１０５５４０号、特開２００３−１１４３３１号、特開２００３−１３１０３６号、特開２００３−１３９９５２号、特開２００３−１７２８１９号、特開２００３−３５８１９号、特開２００３−４３２５２号、特開２００３−５０３１８号、特開２００３−９６０６６号。

特開２００６−４５５０１号、特開２００６−４５５０２号、特開２００６−４５４９９号、特開２００６−４５５００号、特開２００６−１８２００８号、特開２００６−２４１４３３号、特開２００６−３４８１２３号、特開２００５−３２５２５８号、特開２００６−２０２６号、特開２００６−２０２５号、特開２００６−１８３００５号、特開２００６−１８３００４号、特開２００６−１４３８７３号、特開２００６−２５７２０４号、特開２００６−２０５４７２号、特開２００６−２４１４２８号、特開２００６−２５１７４６号、特開２００７−１１９８号、特開２００７−１２３８号、国際公開第２００５／１０３１２２号、特開２００６−１７６７３６号、特開２００６−２４３６８８号、特開２００６−３２７１０５号、特開２００６−１２４６４２号、特開２００６−２０５７０８号、特開２００６−３４１４４３、特開２００６−１９９９１３号、特開２００６−３３５０５０号、特開２００７−８１５４号、特開２００６−３３４８４０号、特開２００６−３４１４５０号、特開２００６−３２７１６２号、特開２００６−３４１５１０号、特開２００６−３２７１６１号、特開２００６−３２７１０７号、特開２００６−３２７１６０号、特開２００６−３２８３１６号、特開２００６−３３４８３９号、特開２００７−８１５１号、特開２００７−１２８６号、特開２００６−３２７１０６号、特開２００６−３３４８４１号、特開２００６−３３４８４２号、特開２００５−３３０４１１号、特開２００６−１１６９４５号、特開２００５−３０１２２５号、特開２００７−１２８７号、特開２００６−３４８２６８号、国際公開第２００６／１３２３６７号、国際公開第２００６／１３２３６７号、特開２００５−１７８１９４号、特開２００６−３３６００４号、特開２００６−２４９４１８号、特開２００７−２２１６号、特開２００６−２８３４５号、特開２００６−２１５５３５号、特開２００６−２８３８７号、特開２００７−２２１５号、特開２００６−３４３４７９号、特開２００６−２６３９９２号。

特開２０００−３５２６２０号、特開２００５−０８８５７８号、特開２００５−３００９７８号、特開２００５−３４２９２９号、特開２００６−０２１４５９号、特開２００６−０３０４２５号、特開２００６−０３６８４０号、特開２００６−０４５３０６号、特開２００６−０４５３０７号、特開２００６−０５８８２５号、特開２００６−０６３１６９号、特開２００６−７７０６７号、特開２００６−７７１１３号、特開２００６−８２２６１号、特開２００６−９１０３５号、特開２００６−９１０７８号、特開２００６−１０４３７４号、特開２００６−１０６２４７号、特開２００６−１１１７９６号、特開２００６−１１１７９７号、特開２００６−１１３１７５号、特開２００６−１１３５５１号、特開２００６−１１３５６７号、特開２００６−１１６９０４号、特開２００６−１１７７１４号、特開２００６−１１９１８２号、特開２００６−１１９１８３号、特開２００６−１２３５１３号、特開２００６−１２３１７７号、特開２００６−１２４６２９号、特開２００６−１３７８２１号、特開２００６−１４２８００号、特開２００６−１６３０３３号、特開２００６−１６３０３４号、特開２００６−１７１４０４号、特開２００６−１７８０２０号、特開２００６−１８２０２０号、特開２００６−１８２８６５号、特開２００６−１８８６６３号、特開２００６−１９５４０７号、特開２００６−２０８９３４号、特開２００６−２１９６１５号、特開２００６−２２０８１４号、特開２００６−２２４５８９号、特開２００６−２４９２２１号、特開２００６−２５６０８２号、特開２００６−２７２６１６号、特開２００６−２９０９２９号、特開２００６−２９３２０１号、特開２００６−３０１５００号、特開２００６−３０１５９２号。

また、本発明に係る熱可塑性フイルム、熱可塑性フイルムの製造方法、熱可塑性フイルムの製造装置、並びに、偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルム及び液晶表示装置は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。

本実施の形態に係る熱可塑性フイルムを製造するフイルム製造装置を示す概略構成図である。 フイルム製造装置における縦延伸部を示す斜視図である。 フイルム製造装置における縦延伸部を示す側面図である。 縦延伸によるネックインを示す説明図である。 本実施の形態に係る熱可塑性フイルムが適用される液晶表示装置の一例を示す概略構成図である。

符号の説明

１０…フイルム製造装置 ２４…タッチロール
２８…第１キャスティングロール ３０…縦延伸部
３３…第１予熱ロール ３５…第２予熱ロール
３７…第１ニップロール ３９…第２ニップロール
５０…液晶表示装置 ５２、５６…偏光板
６８、８０…光学補償フイルム ８４…保護フイルム
Ｆ…熱可塑性フイルム Ｆａ…未延伸フイルム
Ｆｂ…縦延伸フイルム Ｆｃ…横延伸フイルム

Claims (29)

1. 第１ニップロールと第２ニップロールを用いて、０．０１を超え、０．３未満の縦横比で熱可塑性フイルムを縦延伸する際に、
   前記第１ニップロールと前記第２ニップロールの直径をＲとしたとき、ニップロール間を搬送される前記熱可塑性フイルムが、いずれかのニップロールと接触する際のラップ角度が１°以上、６０°以下であることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
2. 請求項１記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
   前記第１ニップロールと前記第２ニップロールのうち、いずれかのニップロールと前記熱可塑性フイルムとの接触距離が０．０１Ｒ以上、０.５Ｒ以下であることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
3. 請求項１又は２記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
   前記第１ニップロールと前記第２ニップロール間を搬送される前記熱可塑性フイルムの水平方向とのなす角度が０．１°以上、６０°以下であることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
   前記第１ニップロールと前記第２ニップロールの直径をＲとしたとき、前記第１ニップロールの配置高さと第２ニップロールの配置高さの差は、０．１Ｒ以上、１０Ｒ以下にして行うことを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
   前記第１ニップロールと前記第２ニップロールのうち、最後部のニップロールの回転数に０．０１％〜０．１％の変動を与えることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
   前記縦延伸した後の前記熱可塑性フイルムの下記式で特定されるネックイン量が０．１％以上、５％以下であることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
   ネックイン量＝｛（Ｗ０−Ｗ１）／Ｗ０｝×１００（％）
   （式中、Ｗ０は縦延伸前の熱可塑性フイルムの幅、Ｗ１は縦延伸後の熱可塑性フイルムの幅を示す。）
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
   前記第１ニップロール及び前記第２ニップロールの幅方向の温度分布（Ｔｓ−Ｔｃ）が０．１℃以上、５℃以下であることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
   （Ｔｓは、熱可塑性フイルムの全幅の２０％以内の両端平均温度、Ｔｃは、熱可塑性フイルムの全幅の６０％以内の中央部平均温度を示す。）
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
   前記第１ニップロール及び前記第２ニップロールの押し込む圧力が０．５ＭＰａ以上、１５ＭＰａ以下であることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
   前記縦延伸の後に、横方向に１．０倍〜３．０倍で横延伸を行うことを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
10. 請求項９記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
    前記横延伸が予熱ゾーン、延伸ゾーン及び緩和固定ゾーンを経て行う際に、各ゾーンの温度分布が
    予熱ゾーン＞延伸ゾーン＞熱固定ゾーン
    となるように横延伸することを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
11. 請求項１０記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
    熱固定後に、（ガラス転移温度Ｔｇ−２０）℃以上、（Ｔｇ＋２０）℃以下で熱緩和処理することを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
12. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
    前記縦延伸前の前記熱可塑性フイルムがタッチロール法により製膜されることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
13. 請求項１〜１２のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
    前記熱可塑性フイルムが、セルロースアシレートから成ることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
14. 請求項１３記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
    前記セルロースアシレートが、プロピオネート基、ブチレート基、ペンタノイル基、置換あるいは無置換の芳香族アシル基の少なくとも１種を含むことを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
15. 請求項１４記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
    前記セルロースアシレートが、下記（１）及び（２）式、あるいは、（３）及び（４）式を満たすことを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
    （１）式：２．５≦Ａ＋Ｂ＜３．０
    （２）式：０．１≦Ｂ＜３．０
    （式中、Ａは、アセテート基の置換度を示し、Ｂは、プロピオネート基、ブチレート基、ペンタノイル基の置換度の総和を示す。）
    （３）式：２．５≦Ａ＋Ｃ≦３．０
    （４）式：０．１≦Ｃ＜２
    （式中、Ａは、アセテート基の置換度を示し、Ｃは置換もしくは無置換の芳香族アシル基を示す。）
16. 請求項１〜１２のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造方法において、
    前記熱可塑性フイルムが、シクロオレフィン系樹脂、ラクトン環含有重合体樹脂、ポリカーボネート系樹脂から成ることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造方法。
17. 第１ニップロールと第２ニップロールを有し、０．０１を超え、０．３未満の縦横比で熱可塑性フイルムを縦延伸する熱可塑性フイルムの製造装置において、
    前記第１ニップロールと前記第２ニップロールの直径をＲとしたとき、ニップロール間を搬送される前記熱可塑性フイルムが、いずれかのニップロールと接触のラップ角度が１°以上、６０°以下であることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造装置。
18. 請求項１７記載の熱可塑性フイルムの製造装置において、
    前記第１ニップロールと前記第２ニップロールのうち、いずれかのニップロールと前記熱可塑性フイルムとの接触距離が０．１Ｒ以上、０.７５Ｒ以下であることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造装置。
19. 請求項１７又は１８記載の熱可塑性フイルムの製造装置において、
    前記第１ニップロールと前記第２ニップロール間を搬送される前記熱可塑性フイルムの水平方向とのなす角度が０．１°以上、６０°以下であることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造装置。
20. 請求項１７〜１９記載の熱可塑性フイルムの製造装置において、
    前記第１ニップロールと前記第２ニップロールの直径をＲとしたとき、前記第１ニップロールの配置高さと第２ニップロールの配置高さの差は、０．１Ｒ以上、１０Ｒ以下であることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造装置。
21. 請求項１７〜２０のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造装置において、
    前記第１ニップロールと前記第２ニップロールのうち、最後部のニップロールの回転数に０．０１％〜０．１％の変動を与える手段を有することを特徴とする熱可塑性フイルムの製造装置。
22. 請求項１７〜２１のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造装置において、
    前記第１ニップロール及び前記第２ニップロールの幅方向の温度分布（Ｔｓ−Ｔｃ）が０．１℃以上、５℃以下に制御する手段を有することを特徴とする熱可塑性フイルムの製造装置。
    （Ｔｓは、熱可塑性フイルムの全幅の２０％以内の両端平均温度、Ｔｃは、熱可塑性フイルムの全幅の６０％以内の中央部平均温度を示す。）
23. 請求項１７〜２２のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造装置において、
    前記第１ニップロール及び前記第２ニップロールの押し込む圧力が０．５ＭＰａ以上、１５ＭＰａ以下であることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造装置。
24. 請求項１７〜２３のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造装置において、
    前記縦延伸の後に、横方向に１．０倍〜３．０倍で横延伸を行う手段を有することを特徴とする熱可塑性フイルムの製造装置。
25. 請求項２４記載の熱可塑性フイルムの製造装置において、
    前記横延伸を行う手段は、前記熱可塑性フイルムの搬送方向に沿って順番に予熱ゾーン、延伸ゾーン及び緩和固定ゾーンが配置され、
    各ゾーンの温度分布が
    予熱ゾーン＞延伸ゾーン＞熱固定ゾーン
    となるように制御されていることを特徴とする熱可塑性フイルムの製造装置。
26. 請求項１〜１６のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造方法で作製され、
    表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上、１．０μｍ以下であることを特徴とする熱可塑性フイルム。
27. 請求項１〜１６のいずれか１項に記載の熱可塑性フイルムの製造方法で作製され、
    表面突起高さが０．５μｍ以上、８．０μｍ以下の欠陥が０.１個／ｍ²以上、３０個／ｍ²以下であることを特徴とする熱可塑性フイルム。
28. 請求項２６又は２７記載の前記熱可塑性フイルムを用いた偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルム。
29. 請求項２６又は２７記載の前記熱可塑性フイルム、請求項２８記載の前記偏光板、前記液晶表示板用光学補償フイルム、前記反射防止フイルムの少なくとも１つを用いた液晶表示装置。

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