JP2008300644A - 基板の保持装置及び基板の処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板とほぼ同じ大きさに形成されたベースプレート2と、ベースプレートの上面に環状に設けられた側壁体3と、側壁体の上面に形成され基板の下面の外周縁よりも径方向の内側の部分を支持する支持面24及び支持面の外側に支持面よりも低く形成され基板の支持面によって支持された部分よりも径方向外側の部分の下面に所定の隙間Gを介して非接触で対向する非接触面25と、非接触面に開口して形成され基板の上面を処理液によって処理するときに隙間に気体を供給し、その圧力によって隙間に処理液が侵入するのを阻止する給気管14と、非接触面の給気管よりも径方向の外側に形成され基板の上面を洗浄液によって洗浄処理するときに隙間に洗浄液を供給し、その洗浄液によって側壁体の上面に残留する処理液が隙間に侵入するのを防止する供給する給液管18を具備する。
【選択図】 図4
Description
上記基板とほぼ同じ大きさに形成されたベースプレートと、
このベースプレートの上面に環状に設けられた側壁体と、
この側壁体の上面に形成され上記基板の下面の外周縁よりも径方向の内側の部分を支持する支持面及びこの支持面の外側に支持面よりも低く形成され上記基板の上記支持面によって支持された部分よりも径方向外側の部分の下面に所定の隙間を介して非接触で対向する非接触面と、
この非接触面に開口して形成され上記基板の上面を処理液によって処理するときに上記隙間に気体を供給し、その圧力によって上記隙間に処理液が侵入するのを阻止する気体供給路と、
上記非接触面の上記気体供給路よりも径方向の外側に形成され上記基板の上面を洗浄液によって洗浄処理するときに上記隙間に洗浄液を供給し、その洗浄液によって上記側壁体の上面に残留する処理液が上記隙間に侵入するのを防止する洗浄液供給路と
を具備したことを特徴とする基板の保持装置にある。
上記基板の上面を洗浄液によって洗浄処理するとき、上記切換え手段の切換え操作によって上記洗浄液供給路から上記隙間に洗浄液を供給すると同時に、上記隙間に供給された洗浄液を加圧する気体を供給することができる構成であることが好ましい。
上記側壁体の上面には上記基板の下面周辺部を支持する支持面及びこの支持面よりも径方向外方に支持面よりも低い位置となる非接触面が形成されていて、上記側壁体の上面に上記基板を供給し、この基板の下面の周辺部を上記支持面によって支持する工程と、
上記基板の上面を処理液によって処理するときに、上記非接触面とこの非接触面に非接触状態で対向する上記基板の周辺部との間の隙間に気体を供給する工程と、
上記処理液によって処理された基板の上面を洗浄液によって洗浄するときに上記隙間に洗浄液を供給する工程と
を具備したことを特徴とする基板の処理方法にある。
図1はこの発明の液晶表示パネルに用いられるガラス製の基板Wの保持装置1を示し、この保持装置1は上記基板Wとほぼ同じ大きさの矩形状に形成されたベースプレート2を有する。このベースプレート2の上面の周辺部には環状の側壁体3が設けられている。
未処理の基板Wを保持装置1の上部側壁部5の上面に載置する。つまり、基板Wの下面周辺部を上記上部側壁部5の支持面24上に載置して支持するとともに、その周辺部よりも径方向外方の周縁部を非接触面25に非接触状態で対向させる。それによって、基板Wの下面の周縁部と上記非接触面25との間にたとえば高さ寸法が1mmの隙間Gが形成される。
隙間Gに供給された加圧気体の圧力が高くなり過ぎると、隙間Gに供給された加圧気体が隙間Gに充満した純水の一部を押し退けて外部に流出することになる。気体が外部に流出すると、流出した部分の基板Wの外周面から純水が除去されるから、その部分が純水によって被覆されなくなる。それによって、基板Wの外周面の純水が除去された部分に処理液が回り込む虞がある。
Claims (7)
- 処理液によって基板の上面を処理するときに、この基板の下面を保持する保持装置であって、
上記基板とほぼ同じ大きさに形成されたベースプレートと、
このベースプレートの上面に環状に設けられた側壁体と、
この側壁体の上面に形成され上記基板の下面の外周縁よりも径方向の内側の部分を支持する支持面及びこの支持面の外側に支持面よりも低く形成され上記基板の上記支持面によって支持された部分よりも径方向外側の部分の下面に所定の隙間を介して非接触で対向する非接触面と、
この非接触面に開口して形成され上記基板の上面を処理液によって処理するときに上記隙間に気体を供給し、その圧力によって上記隙間に処理液が侵入するのを阻止する気体供給路と、
上記非接触面の上記気体供給路よりも径方向の外側に形成され上記基板の上面を洗浄液によって洗浄処理するときに上記隙間に洗浄液を供給し、その洗浄液によって上記側壁体の上面に残留する処理液が上記隙間に侵入するのを防止する洗浄液供給路と
を具備したことを特徴とする基板の保持装置。 - 上記気体供給路と上記洗浄液供給路は切換え手段によって切換え可能に接続されていて、
上記基板の上面を洗浄液によって洗浄処理するとき、上記切換え手段の切換え操作によって上記洗浄液供給路から上記隙間に洗浄液を供給すると同時に、上記隙間に供給された洗浄液を加圧する気体を供給することができる構成であることを特徴とする請求項1記載の基板の保持装置。 - 上記支持面には上記隙間に供給された気体の一部を上記側壁体の内周側に逃がす逃がし溝が形成されていることを特徴とする請求項2記載の基板の保持装置。
- 上記気体供給路と上記洗浄液供給路は、上記側壁体の上面の上記非接触面の周方向全長にわたって形成された気体供給溝と液体供給溝にそれぞれ連通していることを特徴とする請求項1記載の基板の保持装置。
- 上記側壁体は上記基板に取付けられた下部側壁部と、この下部側壁部に積層され上面に上記支持面と上記非接触面が形成された上部側壁部からなり、この上部側壁部は耐薬品性と撥水性を備えた合成樹脂によって上記下部側壁部よりも幅寸法が大きく形成されていることを特徴とする請求項1記載の基板の保持装置。
- ベースプレート及びこのベースプレートの上面に設けられた環状の側壁体を有する保持装置によって基板の下面を保持して処理液で処理する基板の処理方法であって、
上記側壁体の上面には上記基板の下面周辺部を支持する支持面及びこの支持面よりも径方向外方に支持面よりも低い位置となる非接触面が形成されていて、上記側壁体の上面に上記基板を供給し、この基板の下面の周辺部を上記支持面によって支持する工程と、
上記基板の上面を処理液によって処理するときに、上記非接触面とこの非接触面に非接触状態で対向する上記基板の周辺部との間の隙間に気体を供給する工程と、
上記処理液によって処理された基板の上面を洗浄液によって洗浄するときに上記隙間に洗浄液を供給する工程と
を具備したことを特徴とする基板の処理方法。 - 上記隙間に上記処理液を供給するときに、上記隙間に上記処理液を加圧する気体を供給する工程を有することを特徴とする請求項6記載の基板の処理方法。
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