JP2008294018A - Iii族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】発光層より後に成長する全ての層の成長温度に起因して発光層に与えられる熱ダメージを低減させ、且つ、ホールの活性化率の高い高品質なp型層を作製し、光出力の高い発光素子を作製すること。
【解決手段】III族窒化物系化合物半導体発光素子100は、アンドープIn0.05Ga0.95N層1041とn−GaN層1042との多重層から成るnクラッド層4と、アンドープAl0.15Ga0.85N層1051とアンドープIn0.1Ga0.9N層1052との多重層からなる発光層5と、アンドープAl0.3Ga0.7N層1061とp−In0.04Ga0.96N層1062との多重層から成るpクラッド層6の形成に際し、キャリアガスは窒素のみとしてエピタキシャル成長温度(基板温度)を一定とした。
【選択図】図1
【解決手段】III族窒化物系化合物半導体発光素子100は、アンドープIn0.05Ga0.95N層1041とn−GaN層1042との多重層から成るnクラッド層4と、アンドープAl0.15Ga0.85N層1051とアンドープIn0.1Ga0.9N層1052との多重層からなる発光層5と、アンドープAl0.3Ga0.7N層1061とp−In0.04Ga0.96N層1062との多重層から成るpクラッド層6の形成に際し、キャリアガスは窒素のみとしてエピタキシャル成長温度(基板温度)を一定とした。
【選択図】図1
Description
本発明はIII族窒化物系化合物半導体を積層してなる発光素子の製造方法に関する。本明細書においてIII族窒化物系化合物半導体とは、AlxGayIn1-x-yN(x、y、x+yはいずれも0以上1以下)で示される半導体、及び、n型化/p型化等のために任意の元素を添加したものを含む。更には、III族元素及びV族元素の組成の一部を、B、Tl;P、As、Sb、Biで置換したものをも含むものとする。
本発明の目的とするところは、発光層より後に成長する全ての層の成長温度に起因して発光層に与えられる熱ダメージを低減させ、且つ、アクセプタの活性化率の高い高品質なp型層を作製し、光出力の高い発光素子を作製することである。
本明細書において熱ダメージとは、次の4点を含むものとする。
(1)アクセプタ不純物であるマグネシウム(Mg)が、製造工程において熱拡散により発光層へ拡散することにより、発光層内に欠陥が形成され、光出力が低下すること。
(2)発光層中に窒素空孔が発生することにより、光出力が低下すること。
(3)インジウム(In)を含む層より後に成長させる層の成長温度が、当該インジウム(In)を含む層の成長温度より高いと、当該インジウム(In)を含む層においてIn−Nの結合が切断され、結晶欠陥が生じることにより、光出力が低下すること。
(4)エピタキシャル成長基板と、多重層であるエピタキシャル層の熱膨張係数が異なる場合、各エピタキシャル層の成長時に成長温度の切替え(昇降温)があると、成長済みの各エピタキシャル層に歪が加わり、結晶欠陥が生じることにより、光出力が低下すること。
本明細書において熱ダメージとは、次の4点を含むものとする。
(1)アクセプタ不純物であるマグネシウム(Mg)が、製造工程において熱拡散により発光層へ拡散することにより、発光層内に欠陥が形成され、光出力が低下すること。
(2)発光層中に窒素空孔が発生することにより、光出力が低下すること。
(3)インジウム(In)を含む層より後に成長させる層の成長温度が、当該インジウム(In)を含む層の成長温度より高いと、当該インジウム(In)を含む層においてIn−Nの結合が切断され、結晶欠陥が生じることにより、光出力が低下すること。
(4)エピタキシャル成長基板と、多重層であるエピタキシャル層の熱膨張係数が異なる場合、各エピタキシャル層の成長時に成長温度の切替え(昇降温)があると、成長済みの各エピタキシャル層に歪が加わり、結晶欠陥が生じることにより、光出力が低下すること。
本発明に関連する先行技術文献として次の4つを挙げる。このうち、特許文献1には上記熱ダメージの(2)及び(3)について、特許文献4には上記熱ダメージの(4)について言及がある。
特許文献1においては、活性層よりも後に成長させる全ての層を、活性層の成長温度から250℃高い温度以下で成長させることにより、熱ダメージを低減させる技術が開示されている。
特許文献2においては、活性層よりも後に成長させるp層の成長温度と活性層の成長温度の差を小さくすることで、熱ダメージを低減し、且つp層を低温成長させることによるp層の結晶性の悪化とp層におけるアクセプタの活性化率の悪化を、窒素雰囲気で成長させることによって補償する技術が開示されている。
特許文献3においては、活性層よりも後に成長させる全ての層を、活性層の成長温度と同じ温度で成長させること、及び窒素雰囲気で成長させることによって、活性層への熱ダメージを低減させる技術が開示されている。
特開2002−319702号公報
特開2004−363401号公報
特開2000−174336号公報
特開2004−047867号公報
特許文献1においては、活性層よりも後に成長させる全ての層を、活性層の成長温度から250℃高い温度以下で成長させることにより、熱ダメージを低減させる技術が開示されている。
特許文献2においては、活性層よりも後に成長させるp層の成長温度と活性層の成長温度の差を小さくすることで、熱ダメージを低減し、且つp層を低温成長させることによるp層の結晶性の悪化とp層におけるアクセプタの活性化率の悪化を、窒素雰囲気で成長させることによって補償する技術が開示されている。
特許文献3においては、活性層よりも後に成長させる全ての層を、活性層の成長温度と同じ温度で成長させること、及び窒素雰囲気で成長させることによって、活性層への熱ダメージを低減させる技術が開示されている。
特許文献1の技術では、発光層より後に成長させる層の成長温度が、発光層の成長温度よりも高い条件では、発光層に与える熱ダメージは十分には低減できない。一方、発光層より後に成長させる全ての層の成長温度が、発光層の成長温度と一致する場合、そのような低温ではp層におけるアクセプタの活性化率が低いため、ホール濃度が低くなり、p層のシート抵抗やp電極とのコンタクト抵抗が増加し、発光素子としての光出力が悪化する。
特許文献2の技術では、その実施例に記載された、発光層の井戸層よりもp型層成長温度よりも120℃以上高い場合は、熱ダメージは十分には低減できていない。また、特許文献2における熱ダメージを最も低減させる条件は、全てのp型層を低温成長とすることであり、低温成長におけるデメリットである、p型層の結晶性の悪化とアクセプタ活性化率の悪化を、不活性ガスをキャリアガスとして用いることで補償している。しかし、低温成長したp型層のアクセプタ活性化率は、そのような不活性ガスをキャリアガスとして用いても不十分であり、p型層のホール濃度は低く、p層のシート抵抗やp電極とのコンタクト抵抗が増加し、発光素子としての光出力が悪化する。
特許文献3においては、活性層よりも後に成長させる全ての層を窒素リッチな雰囲気で低温成長する場合と、pクラッド層のみ窒素リッチな雰囲気で低温成長する場合が記載されている。しかし、全ての層を窒素リッチな雰囲気で低温成長する場合は、特許文献2と同様の理由で、p層のシート抵抗やp電極とのコンタクト抵抗が増加し、発光素子としての光出力が悪化する。また、pクラッド層のみ窒素リッチな雰囲気で低温成長する場合は、高温成長させる層が厚いため、結果的に成長時間が長くなり、発光層に与える熱ダメージは十分には低減できない。
特許文献2の技術では、その実施例に記載された、発光層の井戸層よりもp型層成長温度よりも120℃以上高い場合は、熱ダメージは十分には低減できていない。また、特許文献2における熱ダメージを最も低減させる条件は、全てのp型層を低温成長とすることであり、低温成長におけるデメリットである、p型層の結晶性の悪化とアクセプタ活性化率の悪化を、不活性ガスをキャリアガスとして用いることで補償している。しかし、低温成長したp型層のアクセプタ活性化率は、そのような不活性ガスをキャリアガスとして用いても不十分であり、p型層のホール濃度は低く、p層のシート抵抗やp電極とのコンタクト抵抗が増加し、発光素子としての光出力が悪化する。
特許文献3においては、活性層よりも後に成長させる全ての層を窒素リッチな雰囲気で低温成長する場合と、pクラッド層のみ窒素リッチな雰囲気で低温成長する場合が記載されている。しかし、全ての層を窒素リッチな雰囲気で低温成長する場合は、特許文献2と同様の理由で、p層のシート抵抗やp電極とのコンタクト抵抗が増加し、発光素子としての光出力が悪化する。また、pクラッド層のみ窒素リッチな雰囲気で低温成長する場合は、高温成長させる層が厚いため、結果的に成長時間が長くなり、発光層に与える熱ダメージは十分には低減できない。
本発明の目的とするところは、発光層より後に成長する全ての層の成長温度に起因して発光層に与えられる熱ダメージを低減させ、且つ、ホールの活性化率の高い高品質なp型層を作製し、光出力の高い発光素子を作製することである。
請求項1に係る発明は、発光層又は活性層を有するIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法において、発光層又は活性層をエピタキシャル成長させたのち、正電極を形成するpコンタクト層までのp型層領域をエピタキシャル成長させる際、p型層領域のうち、発光層又は活性層の直上からp型層領域の総膜厚の1/5乃至19/20までの下側領域を、発光層又は活性層の成長温度と実質的に同じ成長温度で、且つキャリアガスを実質的に窒素のみとして形成し、p型層領域の表層である、pコンタクト層までのp型層領域の総膜厚の4/5乃至1/20の上側領域を、発光層又は活性層の成長温度よりも高い成長温度で、且つキャリアガスを実質的に水素のみとして形成し、発光層又は活性層の成長温度と、p型層領域の表層であるpコンタクト層の形成終了時の成長温度との温度差が、200℃以上300℃以下であることを特徴とするIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法である。
p型層領域は、pコンタクト層を含む。p型層領域とは、p型層が主として形成されている層構成を言うが、例えばアクセプタ不純物を意図的には添加していない層を任意層数形成することを排除するものではない。本発明の特徴は発光層又は活性層とp電極との間に形成するp型層領域の、発光層又は活性層の直上から所望の厚さまでを発光層又は活性層の成長温度と実質的に同じ成長温度で、且つキャリアガスを実質的に窒素のみとして形成する。更に、電極直下までのp型層領域の所望の厚さを、発光層又は活性層の成長温度よりも200〜300℃高い成長温度で、且つキャリアガスを実質的に水素のみとして形成することを特徴とするものである。
p型層領域の上側領域の成長温度と、発光層又は活性層の成長温度の温度差は、200℃未満になると、p型層領域の下側領域のアクセプタ活性化率が低下するため、当該下側領域のホール濃度が低減し、シート抵抗率やコンタクト抵抗が増加して、発光素子の光出力が低下する。300℃を上回ると、発光層又は活性層への熱ダメージ(上述)が大きくなり、光出力が低下する。
p型層領域の総膜厚に対する上側領域の厚さの割合は、1/10〜2/5であることが好ましく、1/10〜3/10であることがより好ましい。上側領域が厚くなるほど、ウエハ全体が高温にさらされる時間が長くなるため、発光層への熱ダメージが大きくなり、光出力を低下させる。逆に薄くなりすぎると、ウエハ全体が高温にさらされる時間が短くなるため、p型領域のアクセプタ活性化率が低下し、発光素子の光出力を低下させる。つまり、p型層領域の総膜厚に対する上側領域と下側領域のバランスが重要である。
p型層領域の上側領域の成長温度と、発光層又は活性層の成長温度の温度差は、200℃未満になると、p型層領域の下側領域のアクセプタ活性化率が低下するため、当該下側領域のホール濃度が低減し、シート抵抗率やコンタクト抵抗が増加して、発光素子の光出力が低下する。300℃を上回ると、発光層又は活性層への熱ダメージ(上述)が大きくなり、光出力が低下する。
p型層領域の総膜厚に対する上側領域の厚さの割合は、1/10〜2/5であることが好ましく、1/10〜3/10であることがより好ましい。上側領域が厚くなるほど、ウエハ全体が高温にさらされる時間が長くなるため、発光層への熱ダメージが大きくなり、光出力を低下させる。逆に薄くなりすぎると、ウエハ全体が高温にさらされる時間が短くなるため、p型領域のアクセプタ活性化率が低下し、発光素子の光出力を低下させる。つまり、p型層領域の総膜厚に対する上側領域と下側領域のバランスが重要である。
請求項2に係る発明は、発光層又は活性層は、少なくともインジウム(In)を含むIII族窒化物系化合物半導体から成る単層、又は、少なくともインジウム(In)を含むIII族窒化物系化合物半導体から成る井戸層とそれとは組成が異なるIII族窒化物系化合物半導体から成る障壁層との多重層であって、当該井戸層の成長温度と当該障壁層の成長温度が実質的に同じであることを特徴とする。多重層である発光層又は活性層への熱ダメージ(上述)の低減を目的とするものである。
請求項3に係る発明は、p型層領域の下側領域のエピタキシャル成長終了時から、p型層領域の上側領域のエピタキシャル成長終了時までが12分以下であることを特徴とする。この際、各層のエピタキシャル成長の間の、エピタキシャル成長が停止している時間を含むものとする。12分を越えると、発光層又は活性層への熱ダメージが大きくなり、光出力が低下する。
請求項4に係る発明は、発光層又は活性層の成長温度が700℃以上950℃以下であることを特徴とする。本発明では、発光層又は活性層の成長温度は800℃以上950℃以下であることがより好ましい。発光層又は活性層を形成するInを含む層のIn組成と、それと同温度で成長させるp型層領域の下側領域の結晶性のバランスをとる必要がある。発光層又は活性層をIn含有層で形成する場合はその層のIn組成を高めるためにはより低い成長温度で形成しなければならない。一方、例えば、本検討によると、成長温度が940℃のとき、In組成約1%のInGaN層を成膜することができ、870℃のとき、In組成約9%のInGaN層を成膜することができる。これにより、700℃未満ではp型層領域の結晶性を確保できず、950℃を越えるとInを含むことができない。本発明において、より効果的な温度範囲は800℃以上950℃以下であり、この範囲のなかでも950℃に近づくほど更に効果的である。つまり、In組成が小さい発光層又は活性層を有する素子において、より効果的である。
請求項5に係る発明は、p型層領域の下側領域には、少なくともアルミニウム(Al)を含み、発光層又は活性層を構成する全ての層よりもバンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る単層から成るpクラッド層を発光層又は活性層に接して形成することを特徴とする。本発明はp型層領域の下側領域がpクラッド層であり、発光層又は活性層と同じ温度で形成し且つ同じキャリアガスで形成するものである。発光層又は活性層と同じ温度で成長させることで熱ダメージを低減させる。また、同じキャリアガスを用いることで、活性層へのエッチングダメージを低減し、pクラッド層のアクセプタ活性化率を向上させる。
請求項6に係る発明は、p型層領域の下側領域には、少なくともインジウム(In)を含み、発光層又は活性層を構成する全ての層よりもバンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る単層から成るpクラッド層を発光層又は活性層に接して形成することを特徴とする。本発明も請求項5に係る発明と同様の目的である。
請求項7に係る発明は、p型層領域の下側領域には、少なくともアルミニウム(Al)を含み、発光層又は活性層を構成する全ての層よりもバンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る層と、それとは組成が異なり、且つ、バンドギャップの小さいIII族窒化物系化合物半導体から成る層との多重層から成るpクラッド層を発光層又は活性層に接して形成することを特徴とする。本発明も請求項5に係る発明と同様の目的である。
請求項6に係る発明は、p型層領域の下側領域には、少なくともインジウム(In)を含み、発光層又は活性層を構成する全ての層よりもバンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る単層から成るpクラッド層を発光層又は活性層に接して形成することを特徴とする。本発明も請求項5に係る発明と同様の目的である。
請求項7に係る発明は、p型層領域の下側領域には、少なくともアルミニウム(Al)を含み、発光層又は活性層を構成する全ての層よりもバンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る層と、それとは組成が異なり、且つ、バンドギャップの小さいIII族窒化物系化合物半導体から成る層との多重層から成るpクラッド層を発光層又は活性層に接して形成することを特徴とする。本発明も請求項5に係る発明と同様の目的である。
請求項8に係る発明は、pクラッド層を構成する、少なくともアルミニウム(Al)を含み、発光層又は活性層を構成する全ての層よりもバンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る層と、それとは組成が異なり、且つ、バンドギャップの小さいIII族窒化物系化合物半導体から成る層のうち、一方にはアクセプタ不純物を添加して形成し、他方にはアクセプタ不純物を添加しないで形成することを特徴とする。
請求項9に係る発明は、pクラッド層を構成する、少なくともアルミニウム(Al)を含み、発光層又は活性層を構成する全ての層よりもバンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る層と、それとは組成が異なり、且つ、バンドギャップの小さいIII族窒化物系化合物半導体から成る層の、両方にアクセプタ不純物を添加して形成することを特徴とする。
請求項9に係る発明は、pクラッド層を構成する、少なくともアルミニウム(Al)を含み、発光層又は活性層を構成する全ての層よりもバンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る層と、それとは組成が異なり、且つ、バンドギャップの小さいIII族窒化物系化合物半導体から成る層の、両方にアクセプタ不純物を添加して形成することを特徴とする。
請求項10に係る発明は、pコンタクト層は、アクセプタ不純物濃度が低く、下層であるp-コンタクト層と、アクセプタ不純物濃度が高く、上層であるp+コンタクト層とから成り、下層であるp-コンタクト層はp型層領域の下側領域に含まれることを特徴とする。
請求項11に係る発明は、発光層又は活性層をエピタキシャル成長させる前にエピタキシャル成長させる層のうち、少なくとも発光層又は活性層直下の層の成長温度を、発光層又は活性層の成長温度と実施的に同じとし、且つキャリアガスを実質的に窒素のみとして形成することを特徴とする。発光層又は活性層の下地層への熱ダメージが十分抑制された状態で発光層又は活性層を形成することができる。
請求項12に係る発明は、少なくともインジウム(In)を含むIII族窒化物系化合物半導体から成る層と、それとは組成が異なり、バンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る層との多重層から成るnクラッド層を、発光層又は活性層より先に、発光層又は活性層と同じ成長温度で、且つキャリアガスを実質的に窒素のみとして形成することを特徴とする。請求項11に係る発明と比較して、下地層であるnクラッド層にInを含む場合はより効果的となる。
請求項12に係る発明は、少なくともインジウム(In)を含むIII族窒化物系化合物半導体から成る層と、それとは組成が異なり、バンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る層との多重層から成るnクラッド層を、発光層又は活性層より先に、発光層又は活性層と同じ成長温度で、且つキャリアガスを実質的に窒素のみとして形成することを特徴とする。請求項11に係る発明と比較して、下地層であるnクラッド層にInを含む場合はより効果的となる。
発光層又は活性層より後に成長させる全ての層の成長温度の高さが起因して発光層に与える熱ダメージ(上述)を完全に低減させるために、p型層領域の最上層からの一部を除く全てのp型層領域を発光層又は活性層と同温度ある低温で成長させ、且つ、p型層領域の低温成長が原因で不足する当該領域のホール濃度を、キャリアガスに窒素を用いることと、p型層領域の最上層からの一部を発光層又は活性層に熱ダメージが入らない程度に高温度且つ短時間で成長させることで十分補償することにより、p型層領域のシート抵抗やコンタクト電極とのコンタクト抵抗の増加を抑制し、且つ発光素子の光出力を向上させることができる。p型層領域の最上層からの一部を高温成長させる際、キャリアガスとして水素を用いる。
尚、上述の熱ダメージは、発光層又は活性層のみに影響するものではない。上述の熱ダメージ(2)及び(4)は発光層又は活性層の直下の層からpコンタクト層までの全層、上述の熱ダメージ(3)はInを含む全ての層に影響する。
本発明においては、発光層又は活性層とその直上から一定領域を、キャリアガスとして実質窒素のみとし、エピタキシャル成長温度(基板温度)を一定に保つ他は、基本的に任意の層構造を形成するものとして良い。即ち、各層が単層であっても、多重層であっても良く、またp型層領域と呼ぶ領域に、不純物無添加の層が1乃至任意層数形成されていても良く、p型層の間に一部n型層が形成されているものであっても良い。また、電流狭窄その他の構造を付加しても良い。
特にpクラッド層の形成においては、アクセプタ不純物が添加されていない層と、アクセプタ不純物が添加されている層との多重層を用いても良い。この際、各々の膜厚は任意であり、アクセプタ不純物を添加しない層の方が、アクセプタ不純物を添加した層よりも膜厚が厚くても良く、アクセプタ不純物を添加しない層の方が、アクセプタ不純物を添加した層よりも膜厚が薄くても良い。
本発明に係るIII族窒化物系化合物半導体発光素子は、上記の発明の主たる構成に係る限定の他は、任意の構成を取ることができる。また、発光素子は発光ダイオード(LED)、レーザダイオード(LD)、フォトカプラその他の任意の発光素子として良い。尚、本発明の構成は、半導体受光素子にも適用することができる。特に本発明に係るIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法としては任意の製造方法を用いることができる。
具体的には、結晶成長させる基板としては、サファイア、スピネル、Si、SiC、ZnO、MgO或いは、III族窒化物系化合物単結晶等を用いることができる。III族窒化物系化合物半導体層を結晶成長させる方法としては、分子線気相成長法(MBE)、有機金属気相成長法(MOVPE)等が有効である。
電極形成層等のIII族窒化物半導体層は、任意組成のAlxGayIn1-x-yN(x、y、x+yはいずれも0以上1以下)で示される半導体を用いて良く、n型化/p型化等のために任意の元素を添加して良い。更には、III族元素及びV族元素の組成の一部を、B、Tl;P、As、Sb、Biで置き換えても良い。
具体的にはn型のIII族窒化物系化合物半導体層を形成する場合には、n型不純物として、Si、Ge、Se、Te、C等を添加し、p型不純物としては、Zn、Mg、Be、Ca、Sr、Ba等を添加することができる。
以上の本発明の手段により、前記の課題を効果的、或いは合理的に解決することができる。
図1は、以下の実施例における、III族窒化物系化合物半導体発光素子(発光ダイオード)100の構成を示す断面図である。厚さ約300μmのサファイア基板1の上に、窒化アルミニウム(AlN)から成る膜厚約15nmのバッファ層2が成膜され、その上にシリコン(Si)を1×1018/cm3ドープしたGaNから成る膜厚約4μmのnコンタクト層3が形成されている。
また、このnコンタクト層3の上には、膜厚2nmのアンドープIn0.05Ga0.95N層1041と膜厚2nmのSi濃度1×1018cm-3のn−GaN層1042とを20回繰り返し積層した総膜厚80nmのnクラッド層4が形成されている。
nクラッド層4の上には、膜厚8nmのアンドープAl0.15Ga0.85N層1051と膜厚3nmのアンドープIn0.1Ga0.9N層1052とを3回繰り返して積層し、その上に膜厚8nmのアンドープAl0.15Ga0.85N層1051を更に1層積層した層膜厚41nmの多重量子井戸構造の発光層5が形成されている。
発光層5の上には、膜厚3nmのアンドープAl0.3Ga0.7N層1061と膜厚1.5nmのMg濃度1×1020cm-3のIn0.04Ga0.96N層1062とを5回繰り返して積層しその上に膜厚3nmのアンドープAl0.3Ga0.7N層1061を更に1層積層した層膜厚25.5nmのpクラッド層6が形成されている。
pクラッド層6の上には、Mg濃度1×1020cm-3のp−GaN層から成る膜厚50nmのp-コンタクト層7が形成されており、その上には、Mg濃度2×1020cm-3のp−GaN層から成る膜厚15nmのp+コンタクト層8が形成されている。
ここにおいて、p型層領域であるpクラッド層6、p-コンタクト層7、p+コンタクト層8の総膜厚は約90.5nmであ。p型層領域の総膜厚約90.5nmに対するpクラッド層6の膜厚25.5nmの比は約0.282、p型層領域の総膜厚約90.5nmに対するp+コンタクト層8の膜厚15nmの比は約0.166である。
ここにおいて、p型層領域であるpクラッド層6、p-コンタクト層7、p+コンタクト層8の総膜厚は約90.5nmであ。p型層領域の総膜厚約90.5nmに対するpクラッド層6の膜厚25.5nmの比は約0.282、p型層領域の総膜厚約90.5nmに対するp+コンタクト層8の膜厚15nmの比は約0.166である。
又、p+コンタクト層8の上には金属蒸着による透光性薄膜p電極10が、nコンタクト層4上にはn電極40が形成されている。透光性薄膜p電極10は、p+コンタクト層8に直接接合する膜厚約1.5nmのコバルト(Co)より成る第1層11と、このコバルト膜に接合する膜厚約6nmの金(Au)より成る第2層12とで構成されている。
厚膜p電極20は、膜厚約18nmのバナジウム(V)より成る第1層21と、膜厚約15μmの金(Au)より成る第2層22と、膜厚約10nmのアルミニウム(Al)より成る第3層23とを透光性薄膜p電極10の上から順次積層させることにより構成されている。
多層構造のn電極40は、nコンタクト層3の一部露出された部分の上から、膜厚約18nmのバナジウム(V)より成る第1層41と膜厚約100nmのアルミニウム(Al)より成る第2層42とを積層させることにより構成されている。
また、最上部には、SiO2膜より成る保護膜30が形成されている。サファイア基板1の底面に当たる外側の最下部には、膜厚約500nmのアルミニウム(Al)より成る反射金属層50が、金属蒸着により成膜されている。尚、この反射金属層50は、Rh、Ti、W等の金属の他、TiN、HfN等の窒化物で形成しても良い。
図1のようなIII族窒化物系化合物半導体発光素子100を、下記の通りの条件で製造し、実施例1〜5、比較例1〜3とした。
まず、nクラッド層4の、アンドープIn0.05Ga0.95N層1041とn−GaN層1042の形成、発光層5の、アンドープAl0.15Ga0.85N層1051とアンドープIn0.1Ga0.9N層1052の形成、pクラッド層6の、アンドープAl0.3Ga0.7N層1061とp−In0.04Ga0.96N層1062の形成、即ち、nクラッド層4からpクラッド層6までの全ての層のエピタキシャル成長温度(基板温度)を一定とし、且つnクラッド層4からpクラッド層6までの全ての層のキャリアガスをN2とした。
この条件で、実施例1〜5及び比較例1〜3を、表1に示すような条件、即ち、nクラッド層4、発光層5、pクラッド層6、p-コンタクト層7、p+コンタクト層8のエピタキシャル成長時の成長温度(表1でTemp)とキャリアガス種(表1でgas)とで製造し、EL光出力を比較した。また、実施例1及び2、比較例2については、発光層5における、p型層領域から拡散したマグネシウム(Mg)の濃度を測定し、実施例2における濃度を基準として比較した。
まず、nクラッド層4の、アンドープIn0.05Ga0.95N層1041とn−GaN層1042の形成、発光層5の、アンドープAl0.15Ga0.85N層1051とアンドープIn0.1Ga0.9N層1052の形成、pクラッド層6の、アンドープAl0.3Ga0.7N層1061とp−In0.04Ga0.96N層1062の形成、即ち、nクラッド層4からpクラッド層6までの全ての層のエピタキシャル成長温度(基板温度)を一定とし、且つnクラッド層4からpクラッド層6までの全ての層のキャリアガスをN2とした。
この条件で、実施例1〜5及び比較例1〜3を、表1に示すような条件、即ち、nクラッド層4、発光層5、pクラッド層6、p-コンタクト層7、p+コンタクト層8のエピタキシャル成長時の成長温度(表1でTemp)とキャリアガス種(表1でgas)とで製造し、EL光出力を比較した。また、実施例1及び2、比較例2については、発光層5における、p型層領域から拡散したマグネシウム(Mg)の濃度を測定し、実施例2における濃度を基準として比較した。
実施例1〜5及び比較例1〜3の内容と結果は次の通りである。
実施例1では、p型層領域(pクラッド層6、p-コンタクト層7、p+コンタクト層8)のうち、pクラッド層6とp-コンタクト層7の合計膜厚75.5nmを、発光層5と同一の条件である、窒素雰囲気850℃で形成した。また、膜厚15nmのp+コンタクト層8を、水素雰囲気1080℃で形成した。
実施例2では、p型層領域(pクラッド層6、p-コンタクト層7、p+コンタクト層8)のうち、膜厚25.5nmのpクラッド層6を、発光層5と同一の条件である、窒素雰囲気850℃で形成した。また、p-コンタクト層7とp+コンタクト層8の合計膜厚65nmを、水素雰囲気1080℃で形成した。
実施例3〜5では、実施例1の膜厚15nmのp+コンタクト層8を水素雰囲気1060〜1130℃で形成した。
比較例1では、p型層領域(pクラッド層6、p-コンタクト層7、p+コンタクト層8)のうち、膜厚25.5nmのpクラッド層6を、窒素雰囲気900℃で形成した。また、p-コンタクト層7とp+コンタクト層8の合計膜厚65nmを、水素雰囲気1080℃で形成した。
比較例2では、p型層領域(pクラッド層6、p-コンタクト層7、p+コンタクト層8)のうち、膜厚25.5nmのpクラッド層6を、発光層5と同一の条件である窒素雰囲気850℃で、膜厚50nmのp-コンタクト層7を水素雰囲気850℃で、膜厚15nmのp+コンタクト層8を、水素雰囲気1080℃で形成した。
比較例3では、実施例1の膜厚15nmのp+コンタクト層8を水素雰囲気1010℃で形成した。
実施例1では、p型層領域(pクラッド層6、p-コンタクト層7、p+コンタクト層8)のうち、pクラッド層6とp-コンタクト層7の合計膜厚75.5nmを、発光層5と同一の条件である、窒素雰囲気850℃で形成した。また、膜厚15nmのp+コンタクト層8を、水素雰囲気1080℃で形成した。
実施例2では、p型層領域(pクラッド層6、p-コンタクト層7、p+コンタクト層8)のうち、膜厚25.5nmのpクラッド層6を、発光層5と同一の条件である、窒素雰囲気850℃で形成した。また、p-コンタクト層7とp+コンタクト層8の合計膜厚65nmを、水素雰囲気1080℃で形成した。
実施例3〜5では、実施例1の膜厚15nmのp+コンタクト層8を水素雰囲気1060〜1130℃で形成した。
比較例1では、p型層領域(pクラッド層6、p-コンタクト層7、p+コンタクト層8)のうち、膜厚25.5nmのpクラッド層6を、窒素雰囲気900℃で形成した。また、p-コンタクト層7とp+コンタクト層8の合計膜厚65nmを、水素雰囲気1080℃で形成した。
比較例2では、p型層領域(pクラッド層6、p-コンタクト層7、p+コンタクト層8)のうち、膜厚25.5nmのpクラッド層6を、発光層5と同一の条件である窒素雰囲気850℃で、膜厚50nmのp-コンタクト層7を水素雰囲気850℃で、膜厚15nmのp+コンタクト層8を、水素雰囲気1080℃で形成した。
比較例3では、実施例1の膜厚15nmのp+コンタクト層8を水素雰囲気1010℃で形成した。
表1から、次のことが分かる。
まず、pクラッド層6の成長温度を発光層5の成長温度よりも50℃高い温度で行った比較例1に比べて、nクラッド層4、発光層5及びpクラッド層6の成長を、発光層5の成長温度と同一の温度で行った実施例2の方が得られた発光素子100の光出力が向上した。即ち、発光層5の直上層であるpクラッド層6の成長を発光層5の成長温度と同一の温度で行うことにより、アクセプタ不純物であるマグネシウムの発光層への拡散濃度が低減される等の発光層への熱ダメージが低減されていることが考えられる。
まず、pクラッド層6の成長温度を発光層5の成長温度よりも50℃高い温度で行った比較例1に比べて、nクラッド層4、発光層5及びpクラッド層6の成長を、発光層5の成長温度と同一の温度で行った実施例2の方が得られた発光素子100の光出力が向上した。即ち、発光層5の直上層であるpクラッド層6の成長を発光層5の成長温度と同一の温度で行うことにより、アクセプタ不純物であるマグネシウムの発光層への拡散濃度が低減される等の発光層への熱ダメージが低減されていることが考えられる。
更に、実施例1及び2の比較から、nクラッド層4、発光層5及びpクラッド層6に加え、p-コンタクト層7までキャリアガスを窒素とし、且つ発光層5の成長温度と同一の温度で行った実施例1のほうが、p-コンタクト層7を水素雰囲気で1080℃で成長させた実施例2よりも光出力が高かった。これは、発光層への熱ダメージが低減されたことが大きな要因であると考えられる。
p-コンタクト層7形成時のキャリアガスに窒素を用いることによって、成長温度の低温下に伴うアクセプタ不純物の活性化率の悪化が抑えられる。例えば、比較例2では、p-コンタクト層7をnクラッド層4、発光層5及びpクラッド層6と同様に発光層と同一温度で成長させた場合であっても、水素雰囲気で成長させると、発光強度が低下した。これは、キャリアガスに窒素を用いることで、850℃程度の低温成長であっても、従来技術の欄において述べたように、十分にアクセプタが活性化し、十分なホール濃度が得られるためであると考えられる。一方、キャリアガスに水素を用いると、低温成長では十分なホール濃度が得られない。
次に、p+コンタクト層8の形成温度の比較を行う。
実施例1、3乃至5と比較例3は、p+コンタクト層8の成長温度が異なる他は全く同一の条件で各層が形成されている。
比較例3のように、p+コンタクト層8を1010℃で形成すると、得られた発光素子100の発光強度が低下した。これは、p型層領域の下側領域のアクセプタ不純物活性化率が、キャリアガスに窒素を用いたとしても不十分であり、1010℃では補えなかったためと考えられる。
一方p+コンタクト層8を1060〜1130℃で水素雰囲気で形成した実施例1、3乃至5は、得られた発光素子100の発光強度が向上した。これは、p型層領域の下側領域の不十分なアクセプタ活性化率を発光層への熱ダメージが入らない程度の短時間で十分補えたためであると考えられる。
実施例1、3乃至5と比較例3は、p+コンタクト層8の成長温度が異なる他は全く同一の条件で各層が形成されている。
比較例3のように、p+コンタクト層8を1010℃で形成すると、得られた発光素子100の発光強度が低下した。これは、p型層領域の下側領域のアクセプタ不純物活性化率が、キャリアガスに窒素を用いたとしても不十分であり、1010℃では補えなかったためと考えられる。
一方p+コンタクト層8を1060〜1130℃で水素雰囲気で形成した実施例1、3乃至5は、得られた発光素子100の発光強度が向上した。これは、p型層領域の下側領域の不十分なアクセプタ活性化率を発光層への熱ダメージが入らない程度の短時間で十分補えたためであると考えられる。
〔実施例のまとめ〕
以上の表1の結果をまとめると、次のことが導かれる。
実施例1及び2から、発光層の直上から25.5nm〜75.5nmまでのp型層領域の下側領域を発光層と同一の850℃、窒素雰囲気で形成し、p型層領域の上側領域である65〜15nmを1080℃、水素雰囲気で形成することで、得られる発光素子の発光強度が大きく向上した。ここに実施例3乃至5の結果を合わせると、発光層の直上から25.5nm〜75.5nmまでのp型層領域の下側領域を発光層と同一の850℃、窒素雰囲気で形成し、p型層領域の上側領域である65〜15nmを1060〜1130℃、好ましくは1080〜1130℃、水素雰囲気で形成することで、得られる発光素子の発光強度が大きく向上すると言える。これをp型層領域の総膜厚に対する比率とすると、発光層の直上から0.282〜0.834までのp型層領域の下側領域を発光層と同一の850℃、窒素雰囲気で形成し、p型層領域の上側領域である0.718〜0.166を1060〜1130℃好ましくは1080〜1130℃、水素雰囲気で形成することで、得られる発光素子の発光強度が大きく向上すると言える。
以上の表1の結果をまとめると、次のことが導かれる。
実施例1及び2から、発光層の直上から25.5nm〜75.5nmまでのp型層領域の下側領域を発光層と同一の850℃、窒素雰囲気で形成し、p型層領域の上側領域である65〜15nmを1080℃、水素雰囲気で形成することで、得られる発光素子の発光強度が大きく向上した。ここに実施例3乃至5の結果を合わせると、発光層の直上から25.5nm〜75.5nmまでのp型層領域の下側領域を発光層と同一の850℃、窒素雰囲気で形成し、p型層領域の上側領域である65〜15nmを1060〜1130℃、好ましくは1080〜1130℃、水素雰囲気で形成することで、得られる発光素子の発光強度が大きく向上すると言える。これをp型層領域の総膜厚に対する比率とすると、発光層の直上から0.282〜0.834までのp型層領域の下側領域を発光層と同一の850℃、窒素雰囲気で形成し、p型層領域の上側領域である0.718〜0.166を1060〜1130℃好ましくは1080〜1130℃、水素雰囲気で形成することで、得られる発光素子の発光強度が大きく向上すると言える。
また、本実施例においては、次の構成の多重層を設けている。
nクラッド層4としては、アンドープIn0.05Ga0.95N層1041とn−GaN層1042の積層構造とした。
発光層5としては、アンドープAl0.15Ga0.85N層1051とアンドープIn0.1Ga0.9N層1052の積層構造とした。
pクラッド層6としては、アンドープAl0.3Ga0.7N層1061とp−In0.04Ga0.96N層1062の積層構造とした。
これらは任意構成として良いが、p型層領域の上側領域形成時に1060〜1130℃の高温とすることから、例えば発光層はインジウムを含む層と含まない層との積層構造が好ましい。この際、インジウムを含む層のインジウム組成はIII族元素の0.01〜0.2が好ましい。インジウムを含まない層において、アルミニウム組成はIII族元素の0〜0.3が好ましい。これにより井戸層と障壁層の結晶性の良好さを両立できる。同じ観点から、nクラッド層としてはインジウムを含む層と含まない層との積層構造が好ましい。この際、インジウムを含む層のインジウム組成はIII族元素の0.01〜0.1が好ましい。インジウムを含まない層はGaN層が好ましい。インジウムを含む層を積層構造に含むことで、nクラッド層が歪緩和層としても働く。
一方、pクラッド層は、インジウムを含む層と含まない層との積層構造が好ましい。この際、インジウムを含む層のインジウム組成はIII族元素の0.001〜0.1が好ましい。インジウムを含まない層において、アルミニウム組成はIII族元素の0.1〜0.5が好ましい。この際、アクセプタ不純物は、インジウムを含む層にのみ添加すると良い。
nクラッド層4としては、アンドープIn0.05Ga0.95N層1041とn−GaN層1042の積層構造とした。
発光層5としては、アンドープAl0.15Ga0.85N層1051とアンドープIn0.1Ga0.9N層1052の積層構造とした。
pクラッド層6としては、アンドープAl0.3Ga0.7N層1061とp−In0.04Ga0.96N層1062の積層構造とした。
これらは任意構成として良いが、p型層領域の上側領域形成時に1060〜1130℃の高温とすることから、例えば発光層はインジウムを含む層と含まない層との積層構造が好ましい。この際、インジウムを含む層のインジウム組成はIII族元素の0.01〜0.2が好ましい。インジウムを含まない層において、アルミニウム組成はIII族元素の0〜0.3が好ましい。これにより井戸層と障壁層の結晶性の良好さを両立できる。同じ観点から、nクラッド層としてはインジウムを含む層と含まない層との積層構造が好ましい。この際、インジウムを含む層のインジウム組成はIII族元素の0.01〜0.1が好ましい。インジウムを含まない層はGaN層が好ましい。インジウムを含む層を積層構造に含むことで、nクラッド層が歪緩和層としても働く。
一方、pクラッド層は、インジウムを含む層と含まない層との積層構造が好ましい。この際、インジウムを含む層のインジウム組成はIII族元素の0.001〜0.1が好ましい。インジウムを含まない層において、アルミニウム組成はIII族元素の0.1〜0.5が好ましい。この際、アクセプタ不純物は、インジウムを含む層にのみ添加すると良い。
本発明は、上記実施例に限定されるものではなく他に様々な変形が考えられる。
まず、nクラッド層を、発光層及びpクラッド層と同一の温度且つ窒素雰囲気で形成しなくても良い。本発明の本質は発光層へのp型層領域の形成時における熱ダメージを低減させ、且つ、熱ダメージ低減手法を利用したp型層領域の下側領域の低温成長下での、アクセプタ活性化率の悪化を、キャリアガスとp型層領域の上側領域の高温短時間成長により補うことである。勿論、nクラッド層を、発光層及びpクラッド層と同一の温度且つ窒素雰囲気で形成した方が好ましい。
また、nクラッド層及びpクラッド層を多重層とせずに、単層構造としても良い。あるいは発光層を多重量子井戸構造とせずに、単一量子井戸層或いは単層としても良い。
また、nクラッド層、発光層及びpクラッド層のうち所望の層について、インジウムを含む層を有しない多重層(量子井戸構造)としても良い。或いは単層構造とした際にインジウムを含まない層としても良い。
まず、nクラッド層を、発光層及びpクラッド層と同一の温度且つ窒素雰囲気で形成しなくても良い。本発明の本質は発光層へのp型層領域の形成時における熱ダメージを低減させ、且つ、熱ダメージ低減手法を利用したp型層領域の下側領域の低温成長下での、アクセプタ活性化率の悪化を、キャリアガスとp型層領域の上側領域の高温短時間成長により補うことである。勿論、nクラッド層を、発光層及びpクラッド層と同一の温度且つ窒素雰囲気で形成した方が好ましい。
また、nクラッド層及びpクラッド層を多重層とせずに、単層構造としても良い。あるいは発光層を多重量子井戸構造とせずに、単一量子井戸層或いは単層としても良い。
また、nクラッド層、発光層及びpクラッド層のうち所望の層について、インジウムを含む層を有しない多重層(量子井戸構造)としても良い。或いは単層構造とした際にインジウムを含まない層としても良い。
或いは例えば、各III族窒化物系化合物半導体層として、任意の混晶比の2元乃至4元系のAlGaInNとしても良い。また、上記実施例では保護膜30を形成したが、保護膜30は省略しても良い。また、本例ではサファイア基板裏面に反射金属層を形成し、p電極側に透光性薄膜p電極を設けたが、フリップチップタイプとする目的で、サファイア基板裏面から光を取り出す構造とするために、サファイア基板裏面の反射金属層を形成せず、p電極側に光反射層を兼ねる電極層を設けても良い。
100:半導体発光素子
1:サファイア基板
2:バッファ層
3:nコンタクト層
4:多重層から成るnクラッド層
5:発光層
6:多重層から成るpクラッド層
7:p-コンタクト層
8:p+コンタクト層
10:透光性薄膜p電極
20:p電極
30:保護膜
40:n電極
50:反射金属層
1:サファイア基板
2:バッファ層
3:nコンタクト層
4:多重層から成るnクラッド層
5:発光層
6:多重層から成るpクラッド層
7:p-コンタクト層
8:p+コンタクト層
10:透光性薄膜p電極
20:p電極
30:保護膜
40:n電極
50:反射金属層
Claims (12)
- 発光層又は活性層を有するIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法において、
前記発光層又は活性層をエピタキシャル成長させたのち、正電極を形成するpコンタクト層までのp型層領域をエピタキシャル成長させる際、
前記p型層領域のうち、前記発光層又は活性層の直上から前記p型層領域の総膜厚の1/5乃至19/20までの下側領域を、前記発光層又は活性層の成長温度と実質的に同じ成長温度で、且つキャリアガスを実質的に窒素のみとして形成し、
前記p型層領域の表層である、前記pコンタクト層までの前記p型層領域の総膜厚の4/5乃至1/20の上側領域を、前記発光層又は活性層の成長温度よりも高い成長温度で、且つキャリアガスを実質的に水素のみとして形成し、
前記発光層又は活性層の成長温度と、前記p型層領域の表層である前記pコンタクト層の形成終了時の成長温度との温度差が、200℃以上300℃以下であることを特徴とするIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。 - 前記発光層又は活性層は、少なくともインジウム(In)を含むIII族窒化物系化合物半導体から成る単層、又は、少なくともインジウム(In)を含むIII族窒化物系化合物半導体から成る井戸層とそれとは組成が異なるIII族窒化物系化合物半導体から成る障壁層との多重層であって、当該井戸層の成長温度と当該障壁層の成長温度が実質的に同じであることを特徴とする請求項1に記載のIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記p型層領域の下側領域のエピタキシャル成長終了時から、前記p型層領域の上側領域のエピタキシャル成長終了時までが12分以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記発光層又は活性層の成長温度が700℃以上950℃以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記p型層領域の下側領域には、少なくともアルミニウム(Al)を含み、前記発光層又は活性層を構成する全ての層よりもバンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る単層から成るpクラッド層を前記発光層又は活性層に接して形成することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記p型層領域の下側領域には、少なくともインジウム(In)を含み、前記発光層又は活性層を構成する全ての層よりもバンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る単層から成るpクラッド層を前記発光層又は活性層に接して形成することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記p型層領域の下側領域には、少なくともアルミニウム(Al)を含み、前記発光層又は活性層を構成する全ての層よりもバンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る層と、それとは組成が異なり、且つ、バンドギャップの小さいIII族窒化物系化合物半導体から成る層との多重層から成るpクラッド層を前記発光層又は活性層に接して形成することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記pクラッド層を構成する、少なくともアルミニウム(Al)を含み、前記発光層又は活性層を構成する全ての層よりもバンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る層と、それとは組成が異なり、且つ、バンドギャップの小さいIII族窒化物系化合物半導体から成る層のうち、一方にはアクセプタ不純物を添加して形成し、他方にはアクセプタ不純物を添加しないで形成することを特徴とする請求項7に記載のIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記pクラッド層を構成する、少なくともアルミニウム(Al)を含み、前記発光層又は活性層を構成する全ての層よりもバンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る層と、それとは組成が異なり、且つ、バンドギャップの小さいIII族窒化物系化合物半導体から成る層の、両方にアクセプタ不純物を添加して形成することを特徴とする請求項8に記載のIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記pコンタクト層は、アクセプタ不純物濃度が低く、下層であるp-コンタクト層と、アクセプタ不純物濃度が高く、上層であるp+コンタクト層とから成り、
下層である前記p-コンタクト層は前記p型層領域の下側領域に含まれることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載のIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。 - 前記発光層又は活性層をエピタキシャル成長させる前にエピタキシャル成長させる層のうち、少なくとも前記発光層又は活性層直下の層の成長温度を、前記発光層又は活性層の成長温度と実施的に同じとし、且つキャリアガスを実質的に窒素のみとして形成することを特徴とする請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載のIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。
- 少なくともインジウム(In)を含むIII族窒化物系化合物半導体から成る層と、それとは組成が異なり、バンドギャップの大きいIII族窒化物系化合物半導体から成る層との多重層から成るnクラッド層を、前記発光層又は活性層より先に、前記発光層又は活性層と同じ成長温度で、且つキャリアガスを実質的に窒素のみとして形成することを特徴とする請求項11に記載のIII族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法。
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