JP2008277204A - レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法 - Google Patents

レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2008277204A
JP2008277204A JP2007122045A JP2007122045A JP2008277204A JP 2008277204 A JP2008277204 A JP 2008277204A JP 2007122045 A JP2007122045 A JP 2007122045A JP 2007122045 A JP2007122045 A JP 2007122045A JP 2008277204 A JP2008277204 A JP 2008277204A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
laser
rays
generation
generated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007122045A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5388018B2 (ja
Inventor
Masaki Kamikado
正城 神門
Tamiaki Chin
黎明 陳
Toshiki Tajima
俊樹 田島
Yoshiaki Kato
義章 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Atomic Energy Agency
Original Assignee
Japan Atomic Energy Agency
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Atomic Energy Agency filed Critical Japan Atomic Energy Agency
Priority to JP2007122045A priority Critical patent/JP5388018B2/ja
Publication of JP2008277204A publication Critical patent/JP2008277204A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5388018B2 publication Critical patent/JP5388018B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

【課題】
レーザー光のコントラストを改善し、適切なターゲット条件を選ぶことにより、高速電子発生を抑制し、高輝度でコヒーレント、高コントラストのX線を発生させる装置及び方法。
【解決手段】
真空ポンプを備えた真空槽内に、パルス圧縮器、集光ミラー、ガス供給装置、偏向磁石及びレーザー阻止X線透過窓を設け、真空槽を真空ポンプにより真空に保ち、この真空槽内のパルス圧縮器に真空槽外部からレーザー光を導入してパルス圧縮器によりパルス幅をフェトム秒に圧縮した後、集光ミラーによりガス供給装置より発生させるガスジェットターゲットに集光させ、このターゲットの位置をレーザー進行方向に調整することにより高速電子の発生を伴わないX線発生に最適な地点でX線を発生させる、高速電子発生を伴わない、高強度でコヒーレント、高コントラストのX線を発生させる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、レーザープラズマ硬X線発生装置に属するもので、その性能をコントラスト及び強度の点で更に改良したレーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントX線発生装置及びその発生方法に関するものである。
又、本発明は、このような高輝度でコヒーレント、高コントラストのX線を発生できる小型のX線源、及びこのX線源を用いて明瞭なX線像を撮影可能な撮像装置に関するものである。
従来から、レーザープラズマ硬X線源としては、固体、ガス、クラスター、液滴が用いられてきた。しかし、これらのX線源では、興味ある特性X線の他に高速電子に起因する制動放射連続X線が同時に発生し、バックグランドレベルが高くなるという問題があった。又、シンクロトロン放射からのX線は、X線の高いコントラストを持つが、大型の放射光装置が必要であるという問題があった(例えば、特許文献1及び2)。上記特性X線とは、原子の電子軌道準位間の遷移によって発生するX線のことで、元素に特有な波長を持つものである。
更に、クリプトンのクラスターターゲットを用いたレーザープラズマX線の報告であるが、本発明とは、X線コントラストが、Fig.2の様に悪い、変換効率が低い点で異なる(例えば、非特許文献1)。
又、固体ターゲット(Mo,Ag,La)を用いた場合のレーザープラズマX線のスペクトルを紹介している、本発明とは、X線コントラストが、Fig.3の様に悪い、点で異なる(例えば、非特許文献2)。
更に又、固体ターゲットを用いた場合のレーザープラズマX線に関する報告であるが、本発明とは、X線コントラストが悪い(Fig.1)、Kαへの変換効率が悪い(2x10-5)点で異なる(非特許文献3)。
特開平11-160499「レーザープラズマX線発生装置」 特開2006-172898「レーザープラズマX線発生装置」 R.C. Issac et al., "Ultra hard x rays from krypton clusters heated by intense laser fields", Physics of Plasmas 11, 7, pp. 3491-3496 (2004) L. M. Chen et al., "High resolution hard x-ray spectroscopy of femtosecond laser-produced plasmas with a CZT detector", Review of Scientific Instruments, 74, 12, pp.5035-5038 (2003). Bixue Hou et al., "Dependence of hard x-ray yield on laser pulse parameters in the wavelength-cubed regime", Applied Physics Letters 84, 13, pp. 2259-2261 (2004).
本発明の装置は、レーザー光のコントラストを改善し、適切なターゲット条件を選ぶことにより、高速電子発生を抑制し、高強度でコヒーレント、高コントラストのX線を発生できる小型のX線源であるレーザー駆動の高コントラスト単色高強度コヒーレントX線発生装置を提供すること、及びこのX線源を用いて明瞭なX線像を撮影可能な撮像装置を提供することにある。
本発明は、図1に示されるように、真空ポンプを備えた真空槽内に、パルス圧縮器、集光ミラー、アルゴンガス供給装置、偏向磁石及びレーザー阻止X線透過窓を設け、真空槽を真空ポンプにより真空に保ち、この真空槽内のパルス圧縮器に真空槽外部からレーザー光を導入してパルス圧縮器によりパルス幅をフェトム秒に圧縮した後、集光ミラーによりガス供給装置より発生させるガスジェットターゲットに集光させ、このターゲットの位置をレーザー進行方向に調整することにより高速電子の発生を伴わないX線発生に最適な地点でX線を発生させ、更にこのX線からその他の電子を除去して撮影試料及びX線撮像装置を保護するのために偏向磁石を設置して電子を曲げてX線のみ取り出すことからなる、高速電子発生を抑制した、高強度でコヒーレント、高コントラストのX線を発生させるものである。
本発明においては、得られたX線が単一のX線により構成され、不要なX線を含まないために、高コントラストで明瞭なX線像が得られる。
本発明のX線発生装置は、旧来のレーザープラズマ線発生装置と比較して、高エネルギー電子の制動放射に伴う不要なX線の発生を抑制し、必要なX線をコントラスト良く得ることができるので、X線の発生効率が良い。又、シンクロトロン放射を利用したX線源に比べて装置は大幅に小さく、短パルスのX線が得られる。このX線を試料の観察に用いる場合、試料への不要なX線の照射が少ないので、試料への損傷、被爆が少ない。更に、不溶なX線を含まないので、X線像のコントラストが良くなり、明瞭な像を得ることができる。
本発明では図1に示される以下のような構造を持つX線発生装置を用いる。真空槽1内は、真空ポンプ2により真空に保たれる。この真空槽内に導入されたレーザー光3は、パルス圧縮器4によりパルス幅がフェトム秒に圧縮された後、反射型の集光ミラー5によりガス供給装置6により発生されるガスジェットターゲット7上に集光される。ガスの密度は、本発明の装置及び手法では、ガスジェットターゲットの位置をレーザー進行方向に調整することにより高速電子発生を伴わない集光装置を選択して使用する。
通常は、高速電子発生が起きる点の前後に、2つのX線発生に最適な地点が存在する。本発明の装置では、高速電子発生を伴わないが、後に説明するX線撮像装置又は試料の保護のために電子9(レーザー照射に伴い発生する高速電子)を曲げる偏向磁石8を設置する。このようにして、X線10がレーザーの進行方向に生成される。
ここで、レーザー光の持つプリパルスをその集光した際の集光強度がガスをイオン化しない程度に低減することが重要である。ここで、レーザーの「プリパルス」とは、フェトム秒レーザーのシステムに起因して発生する。主パルスに時間的に先行するパルス光を意味する(図2参照)。又、この主パルスとプリパルスの強度比をレーザーのコントラスト比と呼ぶ。
又、レーザーのパワーP,プラズマ密度neは、レーザーがプラズマ中で自己集束を起こす、条件P=16.2(ncr/ne)GWを満たすようにする。ここで、ncrは臨界プラズマ密度で、レーザーの波長λを用いて、
ncr=π/(2.8×10−13×λ[cm])[cm―13]と表される。
加えて、真空とガスの境界を際立たせ、ガスとの相互作用を高めるために、超音速で噴出されるガスジェットターゲットを用いることが必要である。本発明の装置では、このように、高速電子の発生を抑制し、ガスの特性X線にエネルギーを集中した単色なX線を発生できるという特徴を持っている。
このようにして発生するX線は、用いたガス原子の準位によって決まる単色のX線であり、次のコヒーレントである。
時間コヒーレント:Tcをコヒーレント時間、Δfをスペクトル幅とすれば、TcΔf〜1決まる時間内においてコヒーレントである。
空間コヒーレント:Lc=(波長)×(X線源と検出器の距離)で決まるコヒーレント長においてコヒーレントである。
更に、本発明(請求項2)でのX線透過像又は位相コントラスト像を取得するには、図1に示されるように、レーザー光の透過を阻止し、X線を透過させる窓11の後に、試料12を置き、透過したX線をX線撮像装置13により取得する。
このようにして得られたX線源は、単一のX線により構成されるため、明瞭な像が得られるのが本発明の装置の特徴である。位相コントラスト像を取得するには、上記式で与えられるLcが撮像装置の分解能以上になるように適切に距離を選ぶ必要がある。
以下に実際の実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。図1で示した構成で実験を行った。レーザーには、中心波長800 nm、パルス幅 70 fs(半値全幅)、エネルギー200 mJのチタンサファイアレーザーを用いた。コントラスト比は、106以上が達成されている。ガスは、Arガスを、リザーバ圧力4 MPaをかけた高速のガスバルブを用いて、真空中内にガスを供給した。反射型ミラーとして、金がコートされた焦点距離645mmの軸外し放物面鏡を用いた。レーザーの集光強度は、(6-9)x1017W/cm2であった。従来例に比べて、ピークを持ったX線(Ka線)以外のバックグラウンドX線強度が低い、高コントラストのX線が生成されていることを実証した。
さらに、X線撮像装置としてイメージングプレートを使用し、蜘蛛の位相コントラスト像を撮影した。図3に示したように、高コントラストで蜘蛛の内部が撮影できることを確認した。
本発明のX発生装置の構成を示す図である。 フェトム秒レーザーのパルスの時間構造を示す図である。 本装置の実施例で撮影された蜘蛛の位相コントラスト像を示す図である。
符号の説明
1:真空槽
2:真空ポンプ
3:レーザー
4:パルス圧縮器
5:集光ミラー
6:ガス供給装置
7:ガスジェツトターゲット
8:偏向磁石
9:電子
10:X線
11:レーザー阻止、X線透過窓
12:試料
13:X線撮像装置

Claims (6)

  1. フェトム秒レーザーをガス中に集光することによってアルゴンガスの特性X線を発生させるレーザープラズマX線発生装置であって、レーザーのコントラスト比(主パルスープリパルスの強度比)が高く、ガスが超音速のガスバルブによって供給される、高コントラスト、単色、コヒーレントのX線を発生できる小型のX線発生装置。
  2. 発生するX線を試料に照射し、そのX線透過像又は位相コントラスト像を取得する請求項1記載の装置。
  3. 真空ポンプを備えた真空槽内に、パルス圧縮器、集光ミラー、ガス供給装置、偏向磁石及びレーザー阻止X線透過窓を設け、真空槽を真空ポンプにより真空に保ち、この真空槽内のパルス圧縮器に真空槽外部からレーザー光を導入してパルス圧縮器によりパルス幅をフェトム秒に圧縮した後、集光ミラーによりガス供給装置より発生させるガスジェットターゲットに集光させ、このターゲットの位置をレーザー進行方向に調整することにより高速電子の発生を伴わないX線発生に最適な地点でX線を発生させることからなる、高速電子発生を伴わない、高輝度でコヒーレント、高コントラストのX線を発生させる方法。
  4. ガスターゲットにおける高速電子発生を抑制した集光位置として、高速電子発生が起きる点の前後に存在するX線発生に最適な地点を選択する、請求項3記載の方法。
  5. 真空ポンプを備えた真空槽内に、パルス圧縮器、集光ミラー、ガス供給装置、偏向磁石及びレーザー阻止X線透過窓を設け、真空槽を真空ポンプにより真空に保ち、この真空槽内のパルス圧縮器に真空槽外部からレーザー光を導入してパルス圧縮器によりパルス幅をフェトム秒に圧縮した後、集光ミラーによりガス供給装置より発生させるガスジェットターゲットに集光させ、このターゲットの位置をレーザー進行方向に調整することにより高速電子の発生を抑制しX線発生に最適な地点でX線を発生させ、更にこのX線からその他の発生電子を除去して撮影試料及びX線撮像装置を保護するために偏向磁石を設置して電子を曲げてX線のみ取り出すことからなる、高輝度でコヒーレント、高コントラストのX
    線を発生させる方法。
  6. ガスターゲットにおける高速電子発生を抑制した集光位置として、高速電子発生が起きる点の前後に存在するX線発生に最適な地点を選択し、且つ発生X線からその他の発生電子を除去して撮影試料及びX線撮像装置を保護するために偏向磁石を設置してその電子を曲げてX線のみを取り出すことからなる、請求項3記載の方法。
JP2007122045A 2007-05-07 2007-05-07 レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法 Expired - Fee Related JP5388018B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007122045A JP5388018B2 (ja) 2007-05-07 2007-05-07 レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007122045A JP5388018B2 (ja) 2007-05-07 2007-05-07 レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008277204A true JP2008277204A (ja) 2008-11-13
JP5388018B2 JP5388018B2 (ja) 2014-01-15

Family

ID=40054911

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007122045A Expired - Fee Related JP5388018B2 (ja) 2007-05-07 2007-05-07 レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5388018B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011102277A1 (ja) * 2010-02-19 2011-08-25 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置及び極端紫外光の発生方法
US9113540B2 (en) 2010-02-19 2015-08-18 Gigaphoton Inc. System and method for generating extreme ultraviolet light
US9265136B2 (en) 2010-02-19 2016-02-16 Gigaphoton Inc. System and method for generating extreme ultraviolet light
US9832851B2 (en) 2013-12-11 2017-11-28 Inter-University Research Corporation High Energy Accelerator Research Organization Optical resonator
US11317500B2 (en) 2017-08-30 2022-04-26 Kla-Tencor Corporation Bright and clean x-ray source for x-ray based metrology

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61200695A (ja) * 1985-02-27 1986-09-05 マツクスウエル・ラボラトリ−ズ・インコ−ポレ−テツド 軟x線を発生する装置
JPS6226752A (ja) * 1985-07-29 1987-02-04 Yoshiaki Arata 高強度軟x線発生方法
JPH08162286A (ja) * 1994-12-07 1996-06-21 Olympus Optical Co Ltd レーザプラズマ光源
JPH10221499A (ja) * 1997-02-07 1998-08-21 Hitachi Ltd レーザプラズマx線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法
JPH11345698A (ja) * 1998-06-04 1999-12-14 Hitachi Ltd レーザプラズマx線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法
WO2000019496A1 (fr) * 1998-09-28 2000-04-06 Hitachi, Ltd. Generateur au plasma laser de rayons x, dispositif d'alignement de semiconducteurs possedant ce generateur et procede d'exposition de semiconducteurs
JP2001068296A (ja) * 1999-06-25 2001-03-16 Institute Of Tsukuba Liaison Co Ltd レーザー励起x線発生装置及び方法
JP2004039927A (ja) * 2002-07-04 2004-02-05 Nec Corp 光波発生装置及び光波発生方法
JP2005525687A (ja) * 2002-05-13 2005-08-25 ジェテック・アクチエボラーグ 放射線を生じさせる方法および装置
JP2005285675A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Toudai Tlo Ltd ガスターゲット生成装置および生成方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61200695A (ja) * 1985-02-27 1986-09-05 マツクスウエル・ラボラトリ−ズ・インコ−ポレ−テツド 軟x線を発生する装置
JPS6226752A (ja) * 1985-07-29 1987-02-04 Yoshiaki Arata 高強度軟x線発生方法
JPH08162286A (ja) * 1994-12-07 1996-06-21 Olympus Optical Co Ltd レーザプラズマ光源
JPH10221499A (ja) * 1997-02-07 1998-08-21 Hitachi Ltd レーザプラズマx線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法
JPH11345698A (ja) * 1998-06-04 1999-12-14 Hitachi Ltd レーザプラズマx線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法
WO2000019496A1 (fr) * 1998-09-28 2000-04-06 Hitachi, Ltd. Generateur au plasma laser de rayons x, dispositif d'alignement de semiconducteurs possedant ce generateur et procede d'exposition de semiconducteurs
JP2001068296A (ja) * 1999-06-25 2001-03-16 Institute Of Tsukuba Liaison Co Ltd レーザー励起x線発生装置及び方法
JP2005525687A (ja) * 2002-05-13 2005-08-25 ジェテック・アクチエボラーグ 放射線を生じさせる方法および装置
JP2004039927A (ja) * 2002-07-04 2004-02-05 Nec Corp 光波発生装置及び光波発生方法
JP2005285675A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Toudai Tlo Ltd ガスターゲット生成装置および生成方法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011102277A1 (ja) * 2010-02-19 2011-08-25 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置及び極端紫外光の発生方法
JP2012134433A (ja) * 2010-02-19 2012-07-12 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置及び極端紫外光の発生方法
US9113540B2 (en) 2010-02-19 2015-08-18 Gigaphoton Inc. System and method for generating extreme ultraviolet light
US9167678B2 (en) 2010-02-19 2015-10-20 Gigaphoton Inc. System and method for generating extreme ultraviolet light
US9265136B2 (en) 2010-02-19 2016-02-16 Gigaphoton Inc. System and method for generating extreme ultraviolet light
US9497842B2 (en) 2010-02-19 2016-11-15 Gigaphoton Inc. System and method for generating extreme ultraviolet light
US9877378B2 (en) 2010-02-19 2018-01-23 Gigaphoton Inc. System and method for generating extreme ultraviolet light
US10117317B2 (en) 2010-02-19 2018-10-30 Gigaphoton Inc. System and method for generating extreme ultraviolet light
US10251255B2 (en) 2010-02-19 2019-04-02 Gigaphoton Inc. System and method for generating extreme ultraviolet light
US10306743B1 (en) 2010-02-19 2019-05-28 Gigaphoton Inc. System and method for generating extreme ultraviolet light
US9832851B2 (en) 2013-12-11 2017-11-28 Inter-University Research Corporation High Energy Accelerator Research Organization Optical resonator
US11317500B2 (en) 2017-08-30 2022-04-26 Kla-Tencor Corporation Bright and clean x-ray source for x-ray based metrology

Also Published As

Publication number Publication date
JP5388018B2 (ja) 2014-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1305984B1 (en) Method and apparatus for generating x-ray radiation
US6711233B2 (en) Method and apparatus for generating X-ray or EUV radiation
US8519366B2 (en) Debris protection system having a magnetic field for an EUV light source
Rousse et al. Production of a keV X-ray beam from synchrotron radiation in relativistic laser-plasma interaction
US8575575B2 (en) System, method and apparatus for laser produced plasma extreme ultraviolet chamber with hot walls and cold collector mirror
JP5448775B2 (ja) 極端紫外光源装置
JP5335269B2 (ja) 極端紫外光源装置
Harilal et al. Ion debris mitigation from tin plasma using ambient gas, magnetic field and combined effects
JP5388018B2 (ja) レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法
US20090141864A1 (en) Debris Reduction in Electron-Impact X-Ray Sources
US20110122387A1 (en) System and method for light source employing laser-produced plasma
Nejdl et al. Update on laser-driven X-ray sources at ELI Beamlines
Hansson et al. Status of the liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography
Komori et al. Laser-produced-plasma light source development for extreme ultraviolet lithography
Rymell et al. Liquid-jet target laser-plasma sources for EUV and X-ray lithography
Rymell et al. X-ray and EUV laser-plasma sources based on cryogenic liquid-jet target
Bartnik et al. Low temperature plasmas induced in SF6 by extreme ultraviolet (EUV) pulses
Eybert et al. Toroidal mirror for single-pulse experiments on ID09B
Mezi et al. The ENEA discharge produced plasma EUV source: Description and applications
ASE Double-pulse processing, 322–325 Dual wavelength laser pulse shooting, 341
CN100492549C (zh) 高亮度空间相干微焦点x射线源
Bollanti et al. Toward a high-average-power and debris-free soft x-ray source for microlithography pumped by a long-pulse excimer laser
JP2006172898A (ja) レーザープラズマx線発生装置
Knulst et al. Compact high-brightness soft X-ray Cherenkov sources
Baldwin et al. Laser-produced plasmas as soft X-ray sources

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20091207

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20110818

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120105

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120305

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121102

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121226

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130902

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130930

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees