JP2008277204A - レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法 - Google Patents
レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008277204A JP2008277204A JP2007122045A JP2007122045A JP2008277204A JP 2008277204 A JP2008277204 A JP 2008277204A JP 2007122045 A JP2007122045 A JP 2007122045A JP 2007122045 A JP2007122045 A JP 2007122045A JP 2008277204 A JP2008277204 A JP 2008277204A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- laser
- rays
- generation
- generated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
レーザー光のコントラストを改善し、適切なターゲット条件を選ぶことにより、高速電子発生を抑制し、高輝度でコヒーレント、高コントラストのX線を発生させる装置及び方法。
【解決手段】
真空ポンプを備えた真空槽内に、パルス圧縮器、集光ミラー、ガス供給装置、偏向磁石及びレーザー阻止X線透過窓を設け、真空槽を真空ポンプにより真空に保ち、この真空槽内のパルス圧縮器に真空槽外部からレーザー光を導入してパルス圧縮器によりパルス幅をフェトム秒に圧縮した後、集光ミラーによりガス供給装置より発生させるガスジェットターゲットに集光させ、このターゲットの位置をレーザー進行方向に調整することにより高速電子の発生を伴わないX線発生に最適な地点でX線を発生させる、高速電子発生を伴わない、高強度でコヒーレント、高コントラストのX線を発生させる。
【選択図】 図1
Description
ncr=π/(2.8×10−13×λ[cm])[cm―13]と表される。
時間コヒーレント:Tcをコヒーレント時間、Δfをスペクトル幅とすれば、TcΔf〜1決まる時間内においてコヒーレントである。
更に、本発明(請求項2)でのX線透過像又は位相コントラスト像を取得するには、図1に示されるように、レーザー光の透過を阻止し、X線を透過させる窓11の後に、試料12を置き、透過したX線をX線撮像装置13により取得する。
2:真空ポンプ
3:レーザー
4:パルス圧縮器
5:集光ミラー
6:ガス供給装置
7:ガスジェツトターゲット
8:偏向磁石
9:電子
10:X線
11:レーザー阻止、X線透過窓
12:試料
13:X線撮像装置
Claims (6)
- フェトム秒レーザーをガス中に集光することによってアルゴンガスの特性X線を発生させるレーザープラズマX線発生装置であって、レーザーのコントラスト比(主パルスープリパルスの強度比)が高く、ガスが超音速のガスバルブによって供給される、高コントラスト、単色、コヒーレントのX線を発生できる小型のX線発生装置。
- 発生するX線を試料に照射し、そのX線透過像又は位相コントラスト像を取得する請求項1記載の装置。
- 真空ポンプを備えた真空槽内に、パルス圧縮器、集光ミラー、ガス供給装置、偏向磁石及びレーザー阻止X線透過窓を設け、真空槽を真空ポンプにより真空に保ち、この真空槽内のパルス圧縮器に真空槽外部からレーザー光を導入してパルス圧縮器によりパルス幅をフェトム秒に圧縮した後、集光ミラーによりガス供給装置より発生させるガスジェットターゲットに集光させ、このターゲットの位置をレーザー進行方向に調整することにより高速電子の発生を伴わないX線発生に最適な地点でX線を発生させることからなる、高速電子発生を伴わない、高輝度でコヒーレント、高コントラストのX線を発生させる方法。
- ガスターゲットにおける高速電子発生を抑制した集光位置として、高速電子発生が起きる点の前後に存在するX線発生に最適な地点を選択する、請求項3記載の方法。
- 真空ポンプを備えた真空槽内に、パルス圧縮器、集光ミラー、ガス供給装置、偏向磁石及びレーザー阻止X線透過窓を設け、真空槽を真空ポンプにより真空に保ち、この真空槽内のパルス圧縮器に真空槽外部からレーザー光を導入してパルス圧縮器によりパルス幅をフェトム秒に圧縮した後、集光ミラーによりガス供給装置より発生させるガスジェットターゲットに集光させ、このターゲットの位置をレーザー進行方向に調整することにより高速電子の発生を抑制しX線発生に最適な地点でX線を発生させ、更にこのX線からその他の発生電子を除去して撮影試料及びX線撮像装置を保護するために偏向磁石を設置して電子を曲げてX線のみ取り出すことからなる、高輝度でコヒーレント、高コントラストのX
線を発生させる方法。 - ガスターゲットにおける高速電子発生を抑制した集光位置として、高速電子発生が起きる点の前後に存在するX線発生に最適な地点を選択し、且つ発生X線からその他の発生電子を除去して撮影試料及びX線撮像装置を保護するために偏向磁石を設置してその電子を曲げてX線のみを取り出すことからなる、請求項3記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007122045A JP5388018B2 (ja) | 2007-05-07 | 2007-05-07 | レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007122045A JP5388018B2 (ja) | 2007-05-07 | 2007-05-07 | レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008277204A true JP2008277204A (ja) | 2008-11-13 |
JP5388018B2 JP5388018B2 (ja) | 2014-01-15 |
Family
ID=40054911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007122045A Expired - Fee Related JP5388018B2 (ja) | 2007-05-07 | 2007-05-07 | レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5388018B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011102277A1 (ja) * | 2010-02-19 | 2011-08-25 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置及び極端紫外光の発生方法 |
US9113540B2 (en) | 2010-02-19 | 2015-08-18 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
US9265136B2 (en) | 2010-02-19 | 2016-02-16 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
US9832851B2 (en) | 2013-12-11 | 2017-11-28 | Inter-University Research Corporation High Energy Accelerator Research Organization | Optical resonator |
US11317500B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-26 | Kla-Tencor Corporation | Bright and clean x-ray source for x-ray based metrology |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61200695A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-05 | マツクスウエル・ラボラトリ−ズ・インコ−ポレ−テツド | 軟x線を発生する装置 |
JPS6226752A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-02-04 | Yoshiaki Arata | 高強度軟x線発生方法 |
JPH08162286A (ja) * | 1994-12-07 | 1996-06-21 | Olympus Optical Co Ltd | レーザプラズマ光源 |
JPH10221499A (ja) * | 1997-02-07 | 1998-08-21 | Hitachi Ltd | レーザプラズマx線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法 |
JPH11345698A (ja) * | 1998-06-04 | 1999-12-14 | Hitachi Ltd | レーザプラズマx線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法 |
WO2000019496A1 (fr) * | 1998-09-28 | 2000-04-06 | Hitachi, Ltd. | Generateur au plasma laser de rayons x, dispositif d'alignement de semiconducteurs possedant ce generateur et procede d'exposition de semiconducteurs |
JP2001068296A (ja) * | 1999-06-25 | 2001-03-16 | Institute Of Tsukuba Liaison Co Ltd | レーザー励起x線発生装置及び方法 |
JP2004039927A (ja) * | 2002-07-04 | 2004-02-05 | Nec Corp | 光波発生装置及び光波発生方法 |
JP2005525687A (ja) * | 2002-05-13 | 2005-08-25 | ジェテック・アクチエボラーグ | 放射線を生じさせる方法および装置 |
JP2005285675A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Toudai Tlo Ltd | ガスターゲット生成装置および生成方法 |
-
2007
- 2007-05-07 JP JP2007122045A patent/JP5388018B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61200695A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-09-05 | マツクスウエル・ラボラトリ−ズ・インコ−ポレ−テツド | 軟x線を発生する装置 |
JPS6226752A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-02-04 | Yoshiaki Arata | 高強度軟x線発生方法 |
JPH08162286A (ja) * | 1994-12-07 | 1996-06-21 | Olympus Optical Co Ltd | レーザプラズマ光源 |
JPH10221499A (ja) * | 1997-02-07 | 1998-08-21 | Hitachi Ltd | レーザプラズマx線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法 |
JPH11345698A (ja) * | 1998-06-04 | 1999-12-14 | Hitachi Ltd | レーザプラズマx線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法 |
WO2000019496A1 (fr) * | 1998-09-28 | 2000-04-06 | Hitachi, Ltd. | Generateur au plasma laser de rayons x, dispositif d'alignement de semiconducteurs possedant ce generateur et procede d'exposition de semiconducteurs |
JP2001068296A (ja) * | 1999-06-25 | 2001-03-16 | Institute Of Tsukuba Liaison Co Ltd | レーザー励起x線発生装置及び方法 |
JP2005525687A (ja) * | 2002-05-13 | 2005-08-25 | ジェテック・アクチエボラーグ | 放射線を生じさせる方法および装置 |
JP2004039927A (ja) * | 2002-07-04 | 2004-02-05 | Nec Corp | 光波発生装置及び光波発生方法 |
JP2005285675A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Toudai Tlo Ltd | ガスターゲット生成装置および生成方法 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011102277A1 (ja) * | 2010-02-19 | 2011-08-25 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置及び極端紫外光の発生方法 |
JP2012134433A (ja) * | 2010-02-19 | 2012-07-12 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置及び極端紫外光の発生方法 |
US9113540B2 (en) | 2010-02-19 | 2015-08-18 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
US9167678B2 (en) | 2010-02-19 | 2015-10-20 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
US9265136B2 (en) | 2010-02-19 | 2016-02-16 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
US9497842B2 (en) | 2010-02-19 | 2016-11-15 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
US9877378B2 (en) | 2010-02-19 | 2018-01-23 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
US10117317B2 (en) | 2010-02-19 | 2018-10-30 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
US10251255B2 (en) | 2010-02-19 | 2019-04-02 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
US10306743B1 (en) | 2010-02-19 | 2019-05-28 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
US9832851B2 (en) | 2013-12-11 | 2017-11-28 | Inter-University Research Corporation High Energy Accelerator Research Organization | Optical resonator |
US11317500B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-26 | Kla-Tencor Corporation | Bright and clean x-ray source for x-ray based metrology |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5388018B2 (ja) | 2014-01-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1305984B1 (en) | Method and apparatus for generating x-ray radiation | |
US6711233B2 (en) | Method and apparatus for generating X-ray or EUV radiation | |
US8519366B2 (en) | Debris protection system having a magnetic field for an EUV light source | |
Rousse et al. | Production of a keV X-ray beam from synchrotron radiation in relativistic laser-plasma interaction | |
US8575575B2 (en) | System, method and apparatus for laser produced plasma extreme ultraviolet chamber with hot walls and cold collector mirror | |
JP5448775B2 (ja) | 極端紫外光源装置 | |
JP5335269B2 (ja) | 極端紫外光源装置 | |
Harilal et al. | Ion debris mitigation from tin plasma using ambient gas, magnetic field and combined effects | |
JP5388018B2 (ja) | レーザー駆動の小型・高コントラスト・コヒーレントx線発生装置及びその発生方法 | |
US20090141864A1 (en) | Debris Reduction in Electron-Impact X-Ray Sources | |
US20110122387A1 (en) | System and method for light source employing laser-produced plasma | |
Nejdl et al. | Update on laser-driven X-ray sources at ELI Beamlines | |
Hansson et al. | Status of the liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography | |
Komori et al. | Laser-produced-plasma light source development for extreme ultraviolet lithography | |
Rymell et al. | Liquid-jet target laser-plasma sources for EUV and X-ray lithography | |
Rymell et al. | X-ray and EUV laser-plasma sources based on cryogenic liquid-jet target | |
Bartnik et al. | Low temperature plasmas induced in SF6 by extreme ultraviolet (EUV) pulses | |
Eybert et al. | Toroidal mirror for single-pulse experiments on ID09B | |
Mezi et al. | The ENEA discharge produced plasma EUV source: Description and applications | |
ASE | Double-pulse processing, 322–325 Dual wavelength laser pulse shooting, 341 | |
CN100492549C (zh) | 高亮度空间相干微焦点x射线源 | |
Bollanti et al. | Toward a high-average-power and debris-free soft x-ray source for microlithography pumped by a long-pulse excimer laser | |
JP2006172898A (ja) | レーザープラズマx線発生装置 | |
Knulst et al. | Compact high-brightness soft X-ray Cherenkov sources | |
Baldwin et al. | Laser-produced plasmas as soft X-ray sources |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091207 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20110818 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120105 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120305 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121102 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130902 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130930 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |